【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第１方向に沿って形成され、前記基板に第１薬液を吐出する第１吐出部と、横方向が前記第１方向に沿って形成され、前記基板に第２薬液を吐出する第２吐出部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】一面を描画する際に、先端側から順次描画を実施して、後端の描画においては、必ずしも描画ヘッドにおける全ての吐出ノズルが使用可能ではないことに起因して描画ヘッドの使用効率が低下することを抑制できる描画装置、及び描画方法を提供する。
【解決手段】描画装置は、連続媒体を描画位置に供給する供給手段と、連続媒体における描画位置に位置する被描画領域を吸着保持する保持手段と、液状体を吐出する複数の吐出ノズルを備える吐出ヘッドを備えるヘッドユニットと、ヘッドユニットを、副走査方向に、保持手段に対して相対移動させる副走査手段と、ヘッドユニットを、副走査方向に交差する主走査方向に走査させる主走査手段と、を備え、被描画領域の副走査方向の被描画領域幅ＷＥが、ヘッドユニットの副走査方向の描画時改行幅ＷＭＩに対して、（ｎ−１）ＷＭＩ＋（１／２）ＷＭＩ≦ＷＥ≦（ｎ）ＷＭＩ（ｎは整数）を満たす関係を有する。 （もっと読む）

【課題】サイクルタイムに影響を及ぼすことなく、ワークギャップを調整することができる液滴吐出装置のワークギャップ調整方法を提供することである。
【解決手段】ワークテーブル４１に給材されたワークＷに対し、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド７を吐出駆動して描画を行う液滴吐出装置１のワークギャップ調整方法であって、ワークテーブル４１に給材したワークＷを、機能液滴吐出ヘッド７に対しアライメントするアライメント工程と、アライメント工程に並行し、ワークテーブル４１上のワークＷの厚みを測定する厚み測定工程と、厚み測定工程の測定結果に基づいて、ワークＷの表面と機能液滴吐出ヘッド７のノズル面３７とのワークギャップを所定の値に調整するギャップ調整工程と、を備えたこ方法である。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第１の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第１の高さ位置よりも高い第２の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】ワークの製造上の精度誤差に対し、ワークに描画する描画データを正しく補正することのできる描画データ補正装置の描画データ補正方法等を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッド４４を相対的に移動させながら機能液滴を吐出して、ワークＷ上に描画を行うための描画データＤ１を補正する描画データ補正装置８の描画データ補正方法であって、ワークＷの描画領域を複数の仮想分割領域に仮想分割する仮想分割工程Ｓ１１と、各仮想分割領域の少なくとも１つの測定点の位置座標を計測する位置測定工程Ｓ１３と、各仮想分割領域について、位置測定工程Ｓ１３において計測した測定点の位置座標と、設計上の位置座標と、から取得した位置ずれ量に基づいて、描画データＤ１を補正する補正工程Ｓ１４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】フィルムの両側辺部のカール矯正がなされた状態で、このフィルムへの塗布材の塗布を行なうことができるようし、フィルムの塗布品質を高める。
【解決手段】巻出側フィルムロール２から巻き出されたフィルム１は、巻取側フィルムロール３に巻き取られて、その塗布対象エリアが塗布部１７で吸着テーブル１０上に位置するように搬送される。塗布対象エリアが吸着テーブル１０上に位置すると、フィルム１が停止して吸着テーブル１０上に載置されるとともに、その長手方向にテンションが加えられて弛みなどが除かれる。しかしながら、これにより、塗布対象エリアの両側辺部にカールが生ずる。そこで、塗布対象エリアが吸着テーブル１０上に載置されるとともに、吸着テーブル１０の両側に設けられたカール矯正バー１３，１４が塗布対象エリアのカール部に移動し、この部分を吸着テーブルの吸着面に押し付けてカール矯正を行なう。 （もっと読む）

【課題】巻き上がるダストを低減するとともに、製造時間の短縮を可能とする。
【解決手段】基台１上には、夫々塗布機能が異なるガントリ２ａ〜２ｃとガラス基板１７が載置されたワークテーブル６とが、Ｘ（Ｔ）軸方向に移動可能に設けられており、ワークテーブル６がＡ位置にあるとき、ガントリ２ａでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第１の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＢ位置にあるとき、ガントリ２ｂでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第２の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＣ位置にあるとき、ガントリ２ｃでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第３の塗布動作が行なわれる。塗布処理するガラス基板１７は、基板搬入側ａで搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６上に同じ高さを保ちながら搬送され、処理済みのガラス基板１７は、基板搬出側ｂでワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂ上に同じ高さを保ちながら搬送される。 （もっと読む）

【課題】枚葉シートを定盤上に配置し、塗布液を塗布する方法において、うねりや反りが生じた薄い枚葉シートでも確実に定盤に吸着固定できる方法を提供する。
【解決手段】枚葉シートを定盤上に配置し、定盤に設けられた吸着穴を介して枚葉シートを真空吸引して定盤に吸着固定した後、ダイヘッドを移動してスリットから塗布液を押し出して塗布液を枚葉シートに塗布し、続いて真空破壊し、塗膜を形成した枚葉シートをロボットアームに載せて持ち上げて取り出す枚葉シートの塗布方法において、配置された枚葉シートの中央部から周辺部方向に順に真空吸引することを特徴とする。 （もっと読む）

非円形太陽電池基板（３７１）の縁辺に、被覆材料を塗布する縁辺被覆装置（３００）。基板（３７１）を支持・回転するチャック（３０３）の形で提供される回転可能基板支持台に、基板（３７１）を載置する。被覆材料ディスペンサ（３０８）は、溝（３１０）の形で提供される凹部を有するローラー（３０９）の形で提供される塗布器を含む。縁辺被覆プロセスの間、基板（３７１）の縁辺が溝（３１０）に受容されるように、ローラー（３０９）が位置する。ローラー（３０９）の刻みを有する面が、基板（３７１）の縁辺に接触し、被覆材料が基板（３７１）の縁辺に塗布される。モーター（３０７）は、伝動ベルト（３０６）及びシャフト（３０５−１、３０５−２）により、チャック３０３を回転させて、基板（３７１）を回転させることにより、縁辺の被覆が行われる。 （もっと読む）

【課題】薄い枚葉シートでも確実に枚葉シートへ塗布液を塗布し、塗膜を形成した枚葉シートを取り出すことができる枚葉シートの塗布方法を提供する。
【解決手段】枚葉シートを定盤上に配置し、吸着穴または吸着穴と吸着溝を介して枚葉シートを真空吸引して定盤に吸着固定した後、ダイヘッドを移動してスリットから塗布液を押し出して塗布液を枚葉シートに塗布し、続いて真空破壊し、塗膜を形成した枚葉シートをロボットアームに載せて持ち上げて取り出す枚葉シートの塗布方法において、真空破壊する際に枚葉シートの周辺部に位置する吸着穴への空気流入量をそれ以外に位置する吸着穴への空気流入量よりも少なくして行い、真空破壊した後、時間を置かずに塗膜を形成した枚葉シートをロボットアームに載せて持ち上げることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アライメントマスクを用いて行う機能液滴吐出ヘッドの吐出性能検査を、短時間で且つ精度良く行う描画検査装置を提供する。
【解決手段】機能液滴吐出ヘッド３から機能液を吐出・着弾させて吐出性能を検査する描画検査装置３４であって、機能液滴の基準着弾位置となる着弾マークをマーキングしたアライメントマスク４６と、検査吐出された機能液滴が着弾する検査シートＳと、着弾マークと検査シートＳの着弾ドットＤとを位置認識する画像認識手段と、検査シートに臨んだ機能液滴吐出ヘッド３を位置認識するヘッド認識手段と、を備え、アライメントマスク４６は、着弾マークがマーキングされたマスク本体４６ａと、マスク本体４６ａから検査シートを越えて延在する延設部と、を一体に有すると共に、機能液滴吐出ヘッド３を位置認識する位置においてヘッド認識手段をキャリブレーションするヘッド校正マークが設けられている。 （もっと読む）

【課題】被塗布物の目的の塗布面以外への塗布材の付着を確実に防止する。
【解決手段】ベース１に固定された軸受けハウジング２に、ベアリング４を介して中空軸３を回転自在に支持し、中空軸３の上端の吸着端３ｂに光学基材８の吸着面８ｂを真空吸着で固定して回転させ、塗布材２２を塗布面８ａに滴下して塗布する回転塗布装置Ｍにおいて、中空軸３に同軸な流体ガイド筒２ａを設け、流体供給源１０から流体配管１１、流体供給穴２ｂを通じて中空軸３と流体ガイド筒２ａの間隙ｇに流体１２を供給し、流体ガイド筒２ａの上端から光学基材８の吸着面８ｂの外縁部８ｃに吹き付けることで、塗布材２２の飛沫の吸着面８ｂへの回り込みによる付着を確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】比較的低コストで実現でき、均一な膜厚の塗布膜を形成することができるスリットコート式塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】鉛直方向下側の面に基板１を保持する保持テーブル２０と、保持テーブル２０に保持された基板１の表面に相対向して配置され所定の塗布溶液２が貯留された第１の液槽３０と、第１の液槽３０内に鉛直方向移動可能に保持され第１の液槽３０内に貯留された塗布溶液を基板１の表面に向かって流出するスリット状のノズル４１を有する塗布ヘッド４０と、鉛直方向移動可能に支持され第１の液槽３０に連通パイプ６０を介して連通する塗布溶液２が貯留された第２の液槽５０とを有すると共に、基板１に塗布溶液２を塗布する際の塗布ヘッド４０の移動に応じて第２の液槽５０の高さを制御する高さ制御手段を具備する構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板を吸着させる吸引力を塗布ムラが生じない程度に設定した場合であっても、塗布装置のサイクルタイムが長期化するのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】ステージの表面に形成された吸引孔に吸引力を発生させて基板をステージの表面に吸着させて保持させる基板保持手段と基板に対して相対的に移動しつつ塗布液を吐出する塗布ユニットを備える塗布装置において、基板保持手段は、基板に付加される圧力を調節することにより基板に対する吸引力を調節できる圧力調節部を有しており、この圧力調節部は、ステージの表面に載置された直後の基板を吸着させる初期圧と、この初期圧により基板を吸着させた後、基板がステージの表面に保持された状態を維持する保持圧とに調節でき、この保持圧は前記初期圧よりも小さくなるように設定されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルを用い真空吸着されたガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、開口部での吸引に起因した塗布膜の膜厚差が生じず、外観（濃度）ムラが観視されない着色フォトレジストの塗布方法、塗布装置を提供する。
【解決手段】スリットノズル２３がバキュームテーブル３１の開口部３４上方に達する直前に開口部からの吸引を中断し開口部での真空吸着を解除し、開口部上方を通過した後に開口部からの吸引を再開して開口部での真空吸着を継続する。スリットノズルがバキュームテーブルの開口部上方に達する直前に開口部からの吸引を中断し、開口部上方を通過した後に開口部からの吸引を再開する機能を具備する。 （もっと読む）

【課題】ステージへの基板の固定に時間を要する場合であっても、塗布装置全体のサイクルタイムが長期化するのを抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】ステージの表面に基板を載置する基板載置工程と、ステージの表面に載置された基板上に初期膜を形成する初期膜形成工程と、塗布ユニットから塗布液を吐出させつつ、基板上に塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、を有する塗布装置の塗布方法において、基板載置工程は、基板をステージの表面に吸着する吸着工程を有しており、この吸着工程は、塗布開始位置を含む基板の初期膜形成領域を吸着する初期吸着工程と、初期膜形成領域を除く基板の塗布膜形成領域を吸着する本吸着工程とを含み、初期吸着工程が完了した後、本吸着工程が完了する前に、初期膜形成工程が開始される構成とする。 （もっと読む）

【課題】作業効率を向上させることができ、作業スペースの省スペース化を図ることが可能な塗布装置及び塗布装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部とを備えた塗布装置であって、前記基板搬送部に複数設けられ、気体の噴出及び吸引が可能な孔部と、前記複数の孔部から気体を噴出する噴出モードと前記複数の孔部から吸引する吸引モードとを切り替えて行わせる制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】液状体の高粘度化を抑え、塗布部の乾燥を抑えることが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部とを備えた塗布装置であって、前記塗布部に設けられ、前記液状体を吐出するノズルと、前記基板搬送部のうち前記ノズルに対応する領域に複数設けられ、前記基板を浮上させるための気体噴出を行う気体噴出孔とを備え、前記ノズルは、その先端に平面視で重なる前記気体噴出孔の数が最も少なくなるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】ウエブの高い走行精度と高精度張力制御が必要なく、ウエブの伸び、皺、癖等の歪みの影響も無く、ウエブ塗工面の平面性、塗工膜厚の均一性を実現できる間欠塗工によるウエブの塗工装置およびその塗工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】間欠搬送する基材シートの下方に吸着定盤を備え、上方に少なくとも一つ以上のダイヘッドを備え、前記吸着定盤上の基材シート横幅方向の外側に、基材シート横幅方向移動し、基材シートを介して吸着定盤と相対するウエブ歪み除去治具を備えたウエブの塗工装置であって、
ウエブ歪み除去治具と吸着定盤によって基材シートの面を弾性体またはエアーで押圧し基材シートの裏面を吸着定盤に歪なく吸着させることを特徴とするウエブの塗工装置。 （もっと読む）

【課題】 工程時間を短縮することができる塗布装置及びコーティング液の塗布方法が開示される。
【解決手段】 第１洗浄部で塗布工程を準備して固定ユニットの上部に第１被処理基板を導入する。第１洗浄部から固定ユニットの第１方向に沿って塗布ユニットを移送しながら前記第１被処理基板の表面を塗布する。第２洗浄部で塗布工程を準備する間、第１被処理基板を除去して第２被処理基板を導入する。第２洗浄部から第１方向と反対方向である第２方向に沿って第２被処理基板の表面を塗布する。塗布工程時間を短縮することにより、費用を節減することができる。 （もっと読む）