塗布装置及び塗布方法
【課題】巻き上がるダストを低減するとともに、製造時間の短縮を可能とする。
【解決手段】基台１上には、夫々塗布機能が異なるガントリ２ａ〜２ｃとガラス基板１７が載置されたワークテーブル６とが、Ｘ（Ｔ）軸方向に移動可能に設けられており、ワークテーブル６がＡ位置にあるとき、ガントリ２ａでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第１の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＢ位置にあるとき、ガントリ２ｂでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第２の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＣ位置にあるとき、ガントリ２ｃでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第３の塗布動作が行なわれる。塗布処理するガラス基板１７は、基板搬入側ａで搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６上に同じ高さを保ちながら搬送され、処理済みのガラス基板１７は、基板搬出側ｂでワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂ上に同じ高さを保ちながら搬送される。
【解決手段】基台１上には、夫々塗布機能が異なるガントリ２ａ〜２ｃとガラス基板１７が載置されたワークテーブル６とが、Ｘ（Ｔ）軸方向に移動可能に設けられており、ワークテーブル６がＡ位置にあるとき、ガントリ２ａでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第１の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＢ位置にあるとき、ガントリ２ｂでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第２の塗布動作が行なわれ、ワークテーブル６がＣ位置にあるとき、ガントリ２ｃでの塗布ヘッド８でガラス基板１７上に第３の塗布動作が行なわれる。塗布処理するガラス基板１７は、基板搬入側ａで搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６上に同じ高さを保ちながら搬送され、処理済みのガラス基板１７は、基板搬出側ｂでワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂ上に同じ高さを保ちながら搬送される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルなどのフラットパネルの製造に係り、特に、基板上へのシール材などの塗布や液晶の滴下塗布をする塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどを製造する従来技術としては、その一例として、真空状態で処理を施すための複数の真空処理室と大気圧状態で処理を施す複数の大気圧処理室とを備え、これら真空処理室間や大気圧処理室間，真空処理室と大気処理室との間に夫々ガラス基板を搬送するための外部から遮断されたロボット室を設け、かかる処理室間でガラス基板を搬送するときには、ロボット室のロボットがそのガラス基板を一方の処理室から他方の処理室に自動的に搬送するようにして、液晶パネルを製造する装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
かかる従来技術によると、ガラス基板が液晶パネルとなるまでの処理が人手を介することなく、全て自動的に処理するので、粒子汚染や分子汚染の恐れがほとんどない、としている。
【０００４】
また、他の例として、真空チャンバ内に設けた位置合わせ装置に基板を設置し、基板にシール材を塗布し、このようにシール材が塗布された基板と他の基板との２枚の基板を貼り合わせ、シール材を硬化し、最後に液晶を注入するという手順でパネルを製造する際、シール材を基板上に形成していく塗布作業を大気圧よりも低い圧力下で行ない、また、２枚の基板を貼り合わせる作業を大気圧以下の圧力下で行なうようにした技術も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
かかる従来技術によると、シール材の塗布や２枚の基板の貼り合わせが大気圧よりも低い圧力下で行なうものであるから、シール材内に混入する気泡を低減し、この気泡が原因となる割断不良やギャップ不良、または、液晶注入不良の不具合を低減できるし、基板周辺で巻き上がるダストなどの異物が低減し、異物によるパネル不良も低減できる、としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−３２４２９７号公報
【特許文献２】特開平２００１−１３５０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ＬＣＤ（液晶パネル）などのフラットパネルの分野においては、年々ガラス基板のサイズの大型化が急速に進んでおり、これに伴って、その製造装置も大型化してきている。加えて、安価に製造するためには、製造装置の内部や周辺で巻き上がるダストを低減して歩留まりを向上すること、さらに同時に、パネル１枚当りの製造時間を抑制することが共に強く求められている。
【０００８】
上記特許文献１に記載の従来技術では、ガラス基板からパネルを製造する際、大気圧処理室から真空処理室へガラス基板を搬送するとき、大気圧状態から真空状態への真空立ち上げ時間がロスタイムとなって、総合的な製造時間が増大するという問題がある。
【０００９】
また、上記特許文献２に記載の従来技術では、真空チャンバ内で塗布作業や基板の貼り合わせ作業を行なう際、真空チャンバ内への組み込みや取り出しが人手やロボットなどによって行なわれ、これらに保持された基板が上下に動くことなどによって周囲の空気が大きく流動することになり、この空気に同伴してダクトが巻上がる。また、同じ真空チャンバを用いるのではなく、別機能を有する複数台の装置を並べてパネルの製造を行なう場合でも、対象ワークとなるガラス基板を受け渡す際に、同様にして、ロボットなどを用いる場合、これに保持される基板の動きによって周囲の空気を大きく流動することになり、その周囲の空気が流動してダストがこれに同伴されて巻き上がることになる。このようなダクトの巻上がりがあると、これがパネルに付着して不良品となる確率が高くなる。
【００１０】
さらに、上記特許文献２の記載の技術では、第１の例として、塗布作業を真空環境内で行なう場合においては、真空中でシール材を塗布した後に一旦大気開放し、スペーサを散布し、点付けした紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して位置決めを仮止めしつつ２枚の基板を貼り合わせている。その後、位置決め装置から仮止めした基板を取り出して、別に用意したナイロン袋に入れて袋内を減圧し、つまり、再度真空にすることにより、２枚の基板を加圧する。次に、加熱して先に塗布したシール材を硬化して２枚の基板を接着する。最後に、袋から取り出し、つまり再度大気圧状態に開放して、大気圧中で液晶材料を封入し、液晶パネルを製造している。このため、シール材塗布から液晶パネルが完成までに２回真空状態にし、２回大気圧状態へ開放する製造手順が採られることになる。
【００１１】
また、第２の例として、貼り合わせ作業を真空環境で行なう場合では、大気圧中でシール材を塗布後にスペーサを散布し、点付けした紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して位置決めして仮止めし、真空中で２枚の基板を貼り合わせる。その後、大気圧状態に開放して、位置決め装置から基板を取り出し、真空パック法、つまり、再度真空状態にすることにより、２枚の基板を加圧する。次に、この真空パック状態で加熱して、先に塗布したシール材を硬化させて２枚の基板を接着する。最後に、袋から取り出し、つまり、再度大気圧状態に開放して、大気圧中で液晶材料を封入し、液晶パネルを製造していた。この例でも、上記と同様に、シール材の塗布から液晶パネルの完成までに２回真空状態にし、２回大気圧状態へ開放する製造手順が採られることになる。
【００１２】
結局のところ、第１，第２のいずれの例でも、シール材中に気泡の混入を抑制する目的で、シール材塗布から貼り合わせる工程までの塗布作業、または、貼り合わせ作業のいずれか一方を真空中で行なうものであるが、実際には、液晶注入前に熱硬化樹脂で加圧しながら圧着する時点で再度真空状態にしており、真空環境を作るための時間が必要となる。
【００１３】
ここで、熱硬化樹脂でシール材を硬化させて２枚の基板を圧着する際に、真空状態にして加圧しない製造方法もある。しかし、一般的な液晶注入方式としては、次段階の液晶注入段階で、液晶パネル内部を真空にするために液晶パネルをチャンバ内で一旦真空状態にし、液晶注入口を液晶に浸した後に大気圧状態に開放して、液晶パネル内部に大気圧中で液晶を押し上げて充填していく製造方法が採用される場合が多かった。
【００１４】
本発明の目的は、かかる問題を解消し、巻き上がるダストを低減するとともに、製造時間の短縮を可能とした塗布装置及び塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明は、塗布材を充填した材料収納筒と塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドを移動可能に設けられたガントリが１または複数台架台上に設置され、架台上に設置された基板載置テーブルに搭載された基板に対してガントリが移動し、ガントリに対して塗布ヘッドが移動することにより、基板に対して塗布ヘッドが移動し、ノズル吐出口から基板上に塗布材を吐出させる塗布装置であって、外部から基板載置テーブルへの基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ基板載置テーブルから外部への基板の搬出は、基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、基板載置テーブルを、搬入側搬送コンベアから搬入された基板が載置される位置から基板を搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、基板を載置した状態で、移動させる第１の移動機構と、基板載置テーブルに載置された基板を回動させる第２の移動機構とを備えたものである。
【００１６】
また、本発明による塗布装置は、架台上に複数台のガントリが設置され、これら複数台のガントリのうちのいずれかのガントリに設けられているの塗布ヘッドが、他のガントリに設けられている塗布ヘッドとは異なる種類の塗布材を基板上に吐出するものである。
【００１７】
また、本発明による塗布装置は、同じガントリに設けられている複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの塗布ヘッドと他の塗布ヘッドとは、種類が異なる塗布材を基板上に吐出するものである。
【００１８】
また、本発明による塗布装置は、基板載置テーブルが、基板載置テーブル上で基板を一方向に移動させるローラによる基板移動手段と、基板載置テーブル上で基板を吸着し、基板載置テーブル上で基板を位置固定する基板位置固定手段とを備えたものである。
【００１９】
また、本発明による塗布装置は、基板載置テーブルが、基板載置テーブル上で基板にエアを吹き付けることによって基板を一方向に移動させる基板移動手段と、基板載置テーブル上で基板を吸着し、基板載置テーブル上で基板を位置固定する基板位置固定手段とを備えたものである。
【００２０】
さらに、本発明による塗布装置は、架台上の基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、耐圧カバーで覆われた内部をエア吸引手段で大気圧よりも低い気圧に設定し、低い気圧の環境内でガントリの塗布ヘッドで基板載置テーブルに載置された基板への塗布動作を行なうものである。
【００２１】
上記目的を達成するために、本発明は、塗布材料を充填した塗布材収納筒と塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドが移動可能に設けられたガントリが１または複数台で架台上に設置され、架台上に設置された基板載置テーブルに載置された基板に対してガントリが移動し、ガントリに対して塗布ヘッドが移動することにより、基板に対して塗布ヘッドが移動し、ノズル吐出口から基板上に塗布材を吐出させる塗布方法であって、外部から基板載置テーブルへの基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ基板載置テーブルから外部への基板の搬出は、基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、基板載置テーブルは、搬入側搬送コンベアから搬入された基板が載置される位置から基板を搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、基板を載置した状態で、移動し、基板載置テーブルに載置された基板を回動させてθ軸ずれを補正するものである。
【００２２】
また、本発明による塗布方法は、架台上に複数台のガントリが設置され、これら複数台のガントリのうちのいずれかのガントリに設けられている塗布ヘッドは、他のガントリに設けられている塗布ヘッドとは異なる種類の塗布材を基板上に吐出するものである。
【００２３】
また、本発明による塗布装置は、同じガントリに設けられている複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの塗布ヘッドと他の塗布ヘッドとは、種類が異なる塗布材を基板上に吐出するものである。
【００２４】
また、本発明による塗布方法は、基板載置テーブル上で基板をローラによる基板移動手段で一方向に移動させて基板載置テーブル上での基板の位置決めを行ない、位置決めされた基板を吸着して、基板載置テーブル上で基板を位置固定するものである。
【００２５】
また、本発明による塗布方法は、基板載置テーブル上で基板にエアを吹き付けることにより、基板を一方向に移動させて基板載置テーブル上での基板の位置決めを行ない、位置決めされた基板を吸着して、基板載置テーブル上で基板を位置固定するものである。
【００２６】
さらに、本発明による塗布方法は、架台上の基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、耐圧カバーで覆われた内部を大気圧よりも低い気圧に設定し、低い気圧の環境内でガントリの塗布ヘッドで基板載置テーブルに載置された基板への塗布動作を行なうものである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、３種類の材料の塗布作業、例えば、シール材塗布，導通用打点塗布及び液晶滴下塗布の各塗布作業を共通のワークテーブル（基板載置テーブル）で行ない、さらに、かかる塗布作業の前後の基板の受け渡しは搬入，搬出コンベアで行なうことにより、ダストの巻き上げを最小にした状態で、あたかも３つの機能が１つの装置内に集約して実現できるようになる。
【００２８】
これにより、複数の機能を有する複数台の装置を並べて、共通の１台のロボットや装置間に設置した複数台のロボットを用いて対象ワークとなる基板の受け渡しを行なう従来のロボット搬送方式に比べて、基板の動線（移動ライン）を短縮することができて、第１に、基板の搬送時のパーティクル汚染を低減できて、液晶パネル製造時の歩留まりが向上し、第２に、設置面積を縮小できてクリーンルームの有効活用が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の要部を示す外観斜視図である。
【図２】本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図である。
【図３】図１及び図２におけるワークテーブル６の一具体例を示す外観斜視図である。
【図４】図１及び図２におけるワークテーブル６の他の具体例を示す外観斜視図である。
【図５】図４におけるエア噴出／吸着孔２８での構成の一具体例を示す図である。
【図６】図１における塗布ヘッド８の一具体例の腰部を拡大して示す斜視図である。
【図７】図１，図２に示す第１の実施形態での主制御部の構成とその制御の一具体例を示すブロック図である。
【図８】図７における副制御部３４ｂの一具体例を示すブロック図である。
【図９】図１，図２に示す第１の実施形態の全体動作の一具体例を示すフローチャートである。
【図１０】本発明による塗布装置及び塗布方法の第２の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
ガラス基板は年々大型化してきており、これまでの大型化に対応する傾向をみると、装置内で位置決めする手段が大型化し、その重量は増加の一途をたどってきている。これに伴って、駆動源であるモータの大型化やボールネジ，ガイドといった軸受や動力伝達機構の大型化、さらにまた、モータドライバの大容量化や配線規模の増大といった機構系に限らず、制御系も加えた基板駆動部の大規模化につながってしまうという問題があった。
【００３１】
一方、第２の問題として、装置内外のガラス基板のやりとりにおいて、このガラス基板を搬入・搬出する手段もまた、大型化，重量化する傾向となっているという他の問題もある。
【００３２】
製造プロセスを見た場合、これまで、ガラス基板にシール材を塗布する装置，電極点を打点で塗布する装置及び液晶を滴下塗布する装置といった３種の機能の装置が並んで設置されており、これがガラス基板の貼り合わせ装置へとつながっていた。これら３種の装置間では、搬送ロボットがアクセスして大型のガラス基板の搬入・搬出を行なってきた。かかる搬入・搬出動作においては、水平移動のみならず、装置間の移動中やガラス基板を各装置のテーブルへの搭置するときに、ガラス基板を保持した状態で上下動を繰り返し行なう場合もあり、これにより、周囲の空気が上下に流動し、これを同伴してダストが巻き上げられる。
【００３３】
そこで、本発明では、ロボットで受け渡す方式に変えて、上記夫々の装置の塗布機能（以下では、特に断らない限り、液晶の滴下塗布機能も含む）を持つ１または複数のガントリ（門型フレーム部）を備えた１つの塗布装置または塗布システムとし、夫々のガントリに共通のワークテーブルを設けてこのワークテーブルにガラス基板を搭載し、ガラス基板が搭載されたこのワークテーブルを上記の機能毎に割り当てられた位置に設置することにより、該当するガントリを用いて該当する塗布動作を行なうようにするものであり、異なる機能の装置間の基板の移動をこれが載置されて同じワークテーブルの移動で行なうことにより、基板のロボットによる搬送や人手による搬送を排除できるようにするものである。
【００３４】
また、本発明では、このワークテーブルへの基板の搬入やワークテーブルからの基板の搬出は、搬入側搬送コンベアや搬出側搬送コンベアで行なうものであり、これら搬送コンベアでは、それに搭載されたガラス基板の高さがワークテーブルに載置されているときのガラス基板の高さに等しく維持されるようにする。
【００３５】
以上のことから、夫々のガントリで塗布動作が行なわれる間、ガラス基板は同じワークテーブルに搭載された状態にあって、ワークテーブルに対して動くことがなく、ガラス基板への塗布動作中、ダストが巻き上げられることはない。また、ガラス基板のワークテーブルへの搬入や搬出時でも、搬入コンベアからワークテーブルへ、また、ワークテーブルから搬出コンベアへ、高さを変えることなく（即ち、持ち上げられたり、持ち下げられたりすることなく）、搬送されることになり、これにより、ダストが巻き上げられることはない。従って、製造されるパネルの歩留まりが向上する。
【００３６】
また、全てのガントリやワークテーブル，それらの駆動機構などを含む空間全体をカバーで覆い、その空間内の圧力を大気圧より低くすることにより、この空間内の空気の量を少なくし、これにより、さらにダストの巻き上げ力を小さくして巻き上げられるダストの量を低減できる構造としている。
【００３７】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【００３８】
図１は本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の要部を示す外観斜視図であって、１は架台、２ａ，２ｂ，２ｃはガントリ、３は横梁、４ａ，４ｂはＸ軸方向移動機構、５ａ，５ｂはリニアレール、６はワークテーブル（基板載置テーブル）、７はリニアレール、８は塗布ヘッドである。
【００３９】
同図において、架台１の長さ方向をＸ軸方向、幅方向をＹ軸方向として、架台１上のＹ軸方向に対向する両辺部に夫々、Ｘ軸方向に沿うリニアレール５ａ，５ｂが設けられており、これらリニアレール５ａ，５ｂ間がガラス基板（図示せず）が載置されるワークテーブル６の通路をなしている。この通路には、Ｘ軸方向に伸延したリニアレール７が敷設されており、また、ワークテーブル６の裏面側には、リニアモータからなるワークテーブル移動機構（図示せず）が設けられていて、これにより、ワークテーブル６は、このリニアレール７に沿って、ガラス基板が搬入される基板搬入側ａからガラス基板が搬出される基板搬出側ｂまでの間を架台１の長手方向に沿って移動することができる。
【００４０】
ここで、ワークテーブル６の移動方向はＸ軸方向であるが、ワークテーブル６の移動方向については、以下では、Ｔ軸方向ということにする。従って、ワークテーブル６が移動するリニアレール７も、Ｔ軸方向に伸延しているものとするし、このワークテーブル６を移動させるための上記のワークテーブル移動機構も、Ｔ軸方向移動機構ということになる。
【００４１】
架台１上には、また、３台のガントリ２ａ〜２ｃが、ワークテーブル６の通路をまたぐようにして、設けられており、夫々の両端側にリニアモータからなるＸ軸方向移動機構（ガントリ移動機構）４ａ，４ｂが設けられている。そして、かかるＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂにより、これらガントリ２ａ〜２ｃは夫々独立に、リニアレール５ａ，５ｂに沿ってＸ軸方向に移動することができる。
【００４２】
ガントリ２ａ〜２ｃ夫々の横梁３の一方の側面には、複数の塗布ヘッド８が設けられている。これら塗布ヘッド８は、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３に設けられたＹ軸方向移動機構（図示せず）により、かかる横梁３の側面をＹ軸方向に移動することができる。図示する例では、ガントリ２ａ〜２ｃには、６個ずつ塗布ヘッド８が設けられており、そのうちの３個の塗布ヘッド８が横梁３の一方の端側に寄せられ、残りの３個の塗布ヘッド８が横梁３の他方の端側に寄せられている状態を示している。
【００４３】
ここで、ガントリ２ａ〜２ｃには夫々、機能が分担されている。最も基板搬入側ａに配置されるガントリ２ａはガラス基板へのシール材の塗布機能を割り当てられたものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々シール材の塗布ヘッドである。次に基板搬入側ａに配置されるガントリ２ｂは作成される液晶パネルの電極部となる打点のガラス基板への塗布機能が割り当てられているものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々打点の塗布ヘッドである。最も基板搬出側ｂに配置されるガントリ２ｃはガラス基板への液晶の滴下塗布機能を割り当てられたものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々、ガラス基板上の塗布されたシール材で囲まれた領域内に液晶を滴下塗布する塗布ヘッドである。
【００４４】
塗布処理されるガラス基板（図示せず）は、図示しない搬入側搬送コンベアによって搬入側ａから搬入される。このとき、ワークテーブル６は搬入側ａに位置付けられており、搬入されたガラス基板が搬入側搬送コンベアからこのワークテーブル６上に移される。このようにしてガラス基板が載置されたワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、順次所定の位置に移動され、夫々の所定位置に設定される毎に、ワークテーブル６に載置されたガラス基板上に、ガントリ２ａの各塗布ヘッド８によってシール材が塗布され、ガントリ２ｂの各塗布ヘッド８によって打点が塗布され、ガントリ２ｃの各塗布ヘッド８によって液晶が滴下塗布される。しかる後、ワークテーブル６は基板搬出側ｂに位置付けられ、処理済みのガラス基板がこのワークテーブル６から図示しない搬出側搬送コンベアに移されて搬出搬送される。
【００４５】
図２は本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図であって、９はカバー、１０は基板搬入口、１１は基板搬出口、１２はファンフィルタユニット、１３はＺ軸移動テーブル、１４はノズル、１５は基板吸着プレート、１６はローラ、１７はガラス基板、１８ａは搬入側搬送コンベア、１８ｂは搬出側搬送コンベアであり、図１に対応する部分には同一符号を付けて重複する説明を省略する。
【００４６】
同図において、架台１上のガントリ２ａ〜２ｃやワークテーブル６が移動範囲が、全体として、カバー９で覆われている。このカバー９の天井には、複数のファンフィルタユニット１２が設けられている。このカバー９の基板搬入側ａには、搬入側搬送コンベア１８ａで搬送されてきたガラス基板１７をカバー９内に搬入するための小さい開口（ガラス基板１７の幅よりも若干大きい幅で、ガラス基板１７の厚みりも若干大きい高さの開口）の基板搬入口１０が設けられており、この基板搬入口１０から搬入されたガラス基板１７はワークテーブル６上に載置される。また、このカバー９の基板搬出側ｂには、カバー９内から外部に塗布処理された（即ち、塗布処理済みの）ガラス基板１７を排出するための、基板搬入口１０と同様の大きさの小さい開口である基板搬出口１１が設けられており、この基板搬出口１１から搬出された塗布処理済みのガラス基板１７が搬出側搬送コンベア１８ｂに搭載される。
【００４７】
ここで、ワークテーブル６の上面の基板載置面と搬送コンベア１８ａ，１８ｂの基板載置面とは同じ高さの面（同一平面内の面）であり、また、ワークテーブル６の基板載置面は、後述するように、基板吸着プレート１５とローラ１６とからなるものである。なお、かかる搬送コンベア１８ａ，１８ｂとしては、案内ガイドを有するローラ式の搬送コンベアのほか、ボール状のコンベア、あるいはウォーキングビーム、などを用いるとよい。
【００４８】
かかる構成により、搬入側搬送コンベア１８ａで搬送されたガラス基板１７がカバー９内に搬入されるときには、搬入側搬送コンベア１８ａによってガラス基板１７がそのときの高さを保ったまま搬入口１０からカバー１７内に押し込まれ、このガラス基板１７が、ワークテーブル６上に達すると、これまでの高さを保ったままローラ１６によってワークテーブル６上を移動させられて、所定の位置で基板吸着プレート１５上に載置されて吸着され、位置固定される。
【００４９】
このようにして、ガラス基板１７を搭載したワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の基板搬入側ａ寄りのＡ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ａの塗布ヘッド８により、シール材の塗布が行なわれ、ガラス基板１７上に複数（この場合、６個）の閉鎖したシール材のパターンが描画される。なお、かかるシール材のパターンは、ガントリ２ａにおいて、塗布ヘッド８のＺ軸移動テーブル１３に搭載されたノズル１４からシール材を吐出しながら、Ｙ軸方向移動機構でもって塗布ヘッド８をガントリ２ａの横梁３（図１）に沿ってＹ軸方向に移動させ、かつＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂ（図１）でもってガントリ２ａをＸ軸方向に移動させることによって塗布ヘッド８をＸ軸方向に移動させることにより、ノズル１４を矩形状のパターンの軌跡に沿って移動させて描画がされる。このとき、Ｚ軸方向移動機構（図示せず）により、Ｚ軸移動テーブル１３のＺ方向の高さが調整されて、ノズル１４のシール材吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５０】
次いで、ワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の中央部のＢ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ｂの塗布ヘッド８により、ガラス基板１７上のシール材の矩形状の描画パターン毎に、この描画パターンの外周の所定の位置（例えば、４隅の位置）に電極剤の打点の塗布が行なわれる。なお、このときも、上記と同様にして、ガントリ２ｂに設けられた塗布ヘッド８のＸ，Ｙ軸方向の移動により、そのノズル１４が各シール材の描画パターンの打点を塗布すべき位置に設定され、その位置でノズル１４の吐出口から電極材が吐出される。この場合も、上記と同様にして、ノズル１４の吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５１】
しかる後、ワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の基板搬出側ｂ寄りのＣ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ｃの塗布ヘッド８により、ガラス基板１７上のシール材の描画パターン毎に、この描画パターンで囲まれた領域内に液晶の滴下塗布が行なわれる。なお、このときも、上記と同様にして、ガントリ２ｃに設けられた塗布ヘッド８のＸ，Ｙ軸方向の移動により、そのノズル１４が各シール材の描画パターンに囲まれた領域内の液晶が滴下されるべき位置に設定され、その位置でノズル１４の吐出口から液晶が滴下される。この場合も、上記と同様にして、ノズル１４の吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５２】
以上により、カラス基板１７への塗布処理が終了し、ワークテーブル６上のこの塗布処理済みのガラス基板１７が基板搬出口１１からカバー９外に排出されるが、このときには、ワークテーブル６のローラ１６によってこの基板搬出口１１からカバー９外にガラス基板１７が、そのときの高さをそのまま維持して、押し出され、このガラス基板１７が搬出側搬送コンベア１８ｂ上に達すると、そのときの高さでこの搬出側搬送コンベア１８ｂ上を移動させられて、所定の位置に位置固定される。
【００５３】
このようにして、ガラス基板１７は、搬入側搬送コンベア１８ａからカバー９内のワークテーブル６上に移されるときでも、また、カバー９内のワークテーブル６上から搬出側搬送コンベア１８ｂに移されるときも、ロボットや人手を用いることなく、高さを一定に保持したままＴ軸方向の移動だけでもって行なうことができるので、カバー９内で空気が上下に流動することがなく、ダストが巻き上げられることがない。また、同様に、異なる機能が割り当てられたガントリ２ａ，２ｂ，２ｃ間のガラス基板１７の移動も、ワークテーブル６に搭載されたままでＴ軸方向の移動だけによって行なわれるものであるから、カバー９内で空気が上下に流動することがなく、ダストが巻き上げられることがない。このため、巻き上がったダストがガラス基板１７のシール材などの塗布面に付着することがなく、ダストが付着することによるパネルの歩留まりの低減を回避できるようになる。
【００５４】
また、シール材の塗布，電極材の打点の塗布，液晶の滴下塗布という異なる塗布処理機能の装置（ガントリ２ａ〜２ｃ）を同じ架台１上に設け、これら装置間をワークテーブル６に搭載したままでガラス基板１７を移動させることにより、夫々の装置で夫々毎の塗布処理を行なうものであるから、ロボットなどを用いた装置間のガラス基板の搬送に比べ、１つの装置から次の装置に移して処理を開始させるまでの時間を短縮することができ、製造に要する時間を短縮することができるとともに、これら装置間の間隔も短縮することができ、かかる異なる機能処理を行なう装置全体の小型化を図ることができる。
【００５５】
図３は図１及び図２におけるワークテーブル６の一具体例を示す外観斜視図であって、１６ａ〜１６ｅは基板吸着プレート、１６ａ〜１６ｄはローラ、１９は基板載置部材、２０ａ〜２０ｄは連結部材、２１はエア吸着孔、２２ａ，２２ｂは基板位置決めピン、２３はクロスローラ軸受、２４ａ〜２４ｄはＸＹθ軸方向微動機構、２５はクロスローラ軸受、２６は直交軸受である。
【００５６】
同図において、ワークテーブル６は、Ｘ軸方向に互いに平行で、かつ等間隔で配置される複数（ここでは、５個）のＹ軸方向が長手方向となる基板吸着ブレート１５ａ〜１５ｅが夫々、細長い平板状の連結部材１６ａ〜１６ｄで連結された構成の基板搭載部材１９を有している。これら基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅは、図２での基板吸着プレート１５に相当するものであって、横断面形状が矩形状もしくは正方形状をなしており、連結部材２０ａ〜２０ｄは基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅの高さよりも薄く、これにより、連結部材２０ａ〜２０ｄの部分が基板載置部材１９の窪んだ谷部を形成している。これら谷部に（即ち、連結部材２０ａ〜２０ｄの上面側に）夫々、この谷部のＹ軸方向の全長に渡るローラ１６ａ〜１６ｄが配置されている。これらローラ１６ａ〜１６ｄは、図２でのローラ１６に相当するものであって、基板載置部材１９上に載置されるガラス基板１７（図２）をＴ（Ｘ）軸方向に移動させるための基板移動機構を構成するものであり、図示しない回転駆動機構により、回転駆動される。
【００５７】
基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅ夫々の上面には、ガラス基板１７（図２）を吸着して位置固定するためのエア吸着孔２１が複数個ずつ（図示では、４個ずつ）設けられており、かかる基板搭載部材１９のＸ軸方向の端側、即ち、基板搬入側ａ（図１，図２）とは反対側の最も端にある基板吸着プレート１５ｅの外側面に近接して、複数（ここでは、２個）の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが設けられている。
【００５８】
また、かかる基板搭載部材１９の中心部が、その裏面側で、回転部材としてのクロスローラ軸受２３によって支持されており、また、基板搭載部材１９の裏面でのこのクロスローラ軸受２３から異なる方向で、かつ互いに等しい距離の位置が夫々、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによって支持されている。クロスローラ軸受２３は、基板搭載部材１９をその支持位置を中心にθ軸方向に回動させるものであり、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄは、クロスローラ軸受２５と直交軸受２６とで構成されて、基板搭載部材１９がクロスローラ軸受２３によってその中心部を中心にθ軸方向に回動するとともに、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによってその支持位置をθ軸方向に回動させ、ＸＹ軸方向に移動させるものである。これにより、基板搭載部材１９が、その中心位置を中心に、回動し、ワークテーブル６に搭載されたガラス基板１７（図１）のθ軸方向のずれを調整することができる。
【００５９】
かかる構成の基板搭載部材１９は、図示しない基台上に載置されており、この基台の裏面側に図１で説明したＴ軸方向移動機構が設けられて、これにより、ワークテーブル６がＴ軸方向に移動することができる。
【００６０】
また、ローラ１６ａ〜１６ｄはこの基台に対して位置が固定されているが、基板吸着プレート１６ａ〜１６ｅと連結部材２０ａ〜２０ｄとからなる基板載置部材１９や基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは、クロスローラ軸受２３とＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄとともに、基台に対して上下動できる。
【００６１】
そこで、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬入口１０側にあって、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を取り込むときには、基板搭載部材１９は降下した状態にあり、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは上昇した状態にあって、ローラ１６ａ〜１６ｄや基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが一部、基板載置部材１９の基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅの上面よりも上方に突出した状態にある。
【００６２】
そして、このときには、ローラ１６ａ〜１６ｄは回転駆動された状態にあり、図２で説明したように、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７がワークテーブル６上に押し込まれ、このガラス基板１７が回転するローラ１６ａ〜１６ｄ上に乗ると、このローラ１６ａ〜１６ｄの回転によってもこのガラス基板１７が基板位置決めピン２２ａ，２２ｂの方向に移動する。ガラス基板１７が基板位置決めピン２２ａ，２２ｂに当接すると、ローラ１６ａ〜１６ｄの回転が停止し、基板載置部材１９が上昇してその上面にガラス基板１７が載置された状態となり、次いで、エア吸着孔２１が基板位置固定機構として吸着動作を行なうことにより、ガラス基板１７が、基板載置部材１９の上面に吸着されて、ワークテーブル６上に固定された状態となる。
【００６３】
また、図２で説明したように、ワークテーブル６が架台１の基板搬出側ｂに移動して塗布処理済みのガラス基板１７を基板搬出口１１を介して搬出側搬送コンベア１８ｂに移す場合には、基板載置部材１９とともに、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂを降下させ、ローラ１６ａ〜１６ｄ上にガラス基板１７が搭載された状態でこれらローラ１６ａ〜１６ｄを回転させる。これにより、ガラス基板１７はワークテーブル６上から基板搬出口１１を通って搬出側搬送コンベア１８ｂに移動する。
【００６４】
このようにして、ガラス基板１７を搬入側搬送コンベア１８ａから、ロボットや人手を用いることなく、ワークテーブル６上に移送させることができるし、また、塗布処理済みのガラス基板１７をワークテーブル６から、ロボットや人手を用いることなく、搬出側搬送コンベア１８ｂ上に移送させることができる。
【００６５】
図４は図１及び図２におけるワークテーブル６の他の具体例を示す外観斜視図であって、２７は基板吸着プレート、２７ａは基板載置面、２７ｂは前側面、２８はエア噴出／吸着孔であり、図３に対応する部分には同一符号を付けて重複する説明を省略する。
【００６６】
同図において、この具体例は、１つの平板状の基板吸着プレート２７が、図３に示した具体例と同様、図示しない基台上にクロスローラ軸受２３及びＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによって支持された構成をなしている。但し、この基板吸着プレート２７は、この基台に対する位置及び高さが固定されている。この基板吸着プレート２７の上面は平坦な面をなして、図示しないガラス基板の載置面２７ａとなるものであり、この基板載置面２７ａはこれにガラス基板全体が載置される面積を有している。
【００６７】
この基板吸着プレート２７の基板搬入側ａ（図２）とは反対側の前側面２７ｂ側に近接して、先の図３に示す具体例と同様、複数（ここでは、２個）の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが設けられている。これら基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは、先の図３に示す具体例と同様、基台に対して上下動するものであって、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬入口１０側にあって、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を取り込むときには、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは上昇した状態にあって、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａよりも上方に突出した状態にある。これにより、基板搬入口１０（図２）から搬入されたガラス基板１７は、これら基板位置決めピン２２ａ，２２ｂに当接することにより、基板吸着プレート２７に対して位置決めされる。また、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬出口１１側にあって、ワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂにガラス基板１７が搬出されるときには、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは下降した状態にあって、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａよりも下方にある。
【００６８】
基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａには、Ｘ（Ｔ）軸方向とＹ軸方向とに沿って所定の間隔でエア噴出／吸着孔２８が設けられている（図４では、Ｘ軸方向に９個ずつ、Ｙ軸方向に７個ずつ設けられている場合を示すが、これに限るものではない）。これらエア噴出／吸着孔２８は、基板載置面２７ａにガラス基板が位置決めされた状態で搭載されているときには、エア吸着孔として機能し、ガラス基板を基板載置面２７ａにエア吸着して固定させる。また、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を搬入するときや搬出側搬送コンベア１８ｂにガラス基板１７を搬出するときには、このガラス基板１７を基板載置面２７ａ上をＸ軸（Ｔ軸）方向に移動させるために、エア噴出／吸着孔２８は、エア噴出孔として機能する。
【００６９】
図５は図４におけるエア噴出／吸着孔２８での構成の一具体例を示す図であって、２９はエア吸着孔、３０はエア噴出孔であり、前出図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００７０】
図５（ａ）において、エア噴出／吸着孔２８には、エア吸着孔２９とエア噴出孔３０とが連通している。エア吸着孔２９では、真空ポンプなどの真空駆動源（図示せず）により、矢印で示すように、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａ側のエアが吸引され、エア噴出孔３０では、エアポンプなどのエア駆動源（図示せず）により、基板吸着プレート２７のエア噴出／吸着孔２８から外部にエアが噴出される。ここで、エア吸着孔２９は、基板載置面２７ａに垂直な方向に設置されているが、エア噴出孔３０は、基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して設けられており、これにより、エア噴出孔３０から噴出されるエアは、エア噴出／吸着孔２８から基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して噴出されることになる。
【００７１】
図５（ｂ）は、図２で説明したように、ガラス基板１７を搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６上に移す場合や塗布処理済みのガラス基板１７をワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂ上に移す場合のエア噴出／吸着孔２８の状態を示すものである。
【００７２】
この場合には、エア噴出孔３０からダクト量を低減した清浄なエアが噴出するものであって、破線矢印で示すように、エアはエア噴出／吸着孔２８から基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して噴出されてガラス基板１７の裏面に当てられる。これにより、ガラス基板１７は、基板載置面２７ａからわずかに（例えば、２μｍ程度）持ち上げられ、かつＴ軸方向に押されることになる。従って、ガラス基板１７は、基板載置面２７ａに沿ってＴ（Ｘ）軸方向に搬送されることになる。
【００７３】
図５（ｃ）は、図２で説明したように、ワークテーブル６上で位置決めされたガラス基板１７をこのワークテーブル６の基板載置面２７ａに固定した状態を示すものである。
【００７４】
この場合には、エア吸着孔２９からエアを吸引するものであって、図５（ｂ）で説明したように、ガラス基板１７がＴ（Ｘ）軸方向に搬送され、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂ（図４）により、基板載置面２７ａに対して位置決めされると、エア噴出孔３０からのエアの噴出が停止して、代わりにエア吸着孔２９からエアの吸引が行なわれる。これにより、ガラス基板１７が基板載置面２７ａに載置され、さらにエアの吸引が行なわれることにより、ガラス基板１７が基板載置面２７ａに吸着されて位置が固定される。
【００７５】
このようにして、エアの作用により、基板載置面２７ａに対してガラス基板１７をＴ（Ｘ）軸方向に搬送し、また、ガラス基板１７を基板載置面２７ａに固定するものであり、基板吸着プレート２７には、エア噴出／吸着孔２８による基板移動機構と基板位置固定機構とが設けられていることになる。また、図５（ｃ）に示す状態にある塗布処理済みのガラス基板１７を搬出側搬送コンベア１８ｂ（図２）に搬送するときには、図５（ｃ）に示す状態から図５（ｂ）に示す状態に切り替えればよい。エア吸着孔２９でのエア吸着／停止やエア噴出孔３０でのエア噴出／停止は、電磁弁によって切り替え動作によって行なわれる。
【００７６】
なお、基板載置面２７ａにエア吸着孔２９とエア噴出孔３０とを別々に設けるようにしてもよいし、また、図５において、エア噴出／吸着孔２８にエア噴出孔３０のような傾斜したエア孔を連通し、このエア孔をエア吸着とエア噴出とに兼用するようにしてもよい。
【００７７】
この具体例では、図３に示す具体例のようなロール１６が不要となるし、基板載置部材１９を上下動させる駆動手段も不要となり、構成がより簡略化される。
【００７８】
図６は図１における塗布ヘッド８の一具体例の要部を拡大して示す斜視図であって、３１は塗布材収納筒、３２はノズル支持具、３３は距離計であり、前出図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００７９】
同図において、塗布材収納筒３１やノズル１４が設けられたノズル支持具３１及び距離計３３は、Ｚ軸移動テーブル１３（図２）に設けられている。
【００８０】
なお、ガントリ２ａの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材としてシール材が収納され、ガントリ２ｂの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材として導電性の液体が収納され、ガントリ２ｃの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材として液晶が収納されている。
【００８１】
距離計３３は、ノズル１４の先端部からワークテーブル６（図１）に搭載されているガラス基板１７の表面（上面）までの距離を非接触式の三角測距法で計測する。即ち、距離計３３の筐体内に発光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレーザ光はガラス基板１７上の計測点Ｓで反射し、同じくこの筐体内に設けられた受光素子で受光され、その受光位置に応じて計測される。また、ガラス基板１７上でのレーザ光の計測点Ｓとノズル１４の直下位置とは、ガラス基板１７上で僅かな距離ΔＸ及びΔＹだけずれているが、この僅かな距離程度のずれでは、ガラス基板１７の表面の凹凸の差が無視できる範囲なので、距離計３３の計測結果とノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離との間に差は殆ど存在しない。従って、この距離計３３の計測結果に基いてＺ軸移動テーブル１３（図２）を制御することにより、ガラス基板１７の表面の凹凸（うねり）に合わせてノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離（間隔）を一定に維持することができる。
【００８２】
このようにして、ノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離（間隔）を一定に維持し、かつ、ノズル１４から吐出される単位時間当りの塗布材の量を定量に維持することにより、ガラス基板１７上に塗布描画されるパターンはその幅や厚さが一様になる。
【００８３】
なお、図示しないが、照明の可能な光源を備えた鏡筒と画像認識カメラは、各ノズル１４の平行調整や間隔調整用に使用される他、ガラス基板１７の位置合わせや塗布材の描画パターンの形状認識などのために、ガラス基板１７に対向するように設けられている。
【００８４】
図２に戻って、この実施形態では、以上の各部を制御する制御部を備えている。即ち、架台１の内部には、各機構の駆動を行なうリニアモータとテーブルを移動させるモータを制御する主制御部が設けられている。そして、この主制御部に、ケーブルを介して、副制御部が接続されている。副制御部は、Ｚ軸移動テーブル１３（図２）を駆動するＺ軸サーボモータを制御する。
【００８５】
図７はかかる主制御部の構成とその制御の一具体例を示すブロック図であって、３４ａは主制御部、３４ａａはマイクロコンピュータ、３４ａｂはモータコントローラ、３４ａｃは画像処理コントローラ、３４ａｄは外部インターフェース、３４ａｅはデータ通信バス、３４ａｆはガントリ移動用Ｘ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｘ軸ドライバと略称）、３４ａｇは塗布ヘッド部移動用Ｙ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｙ軸ドライバと略称）、３４ａｈはワークテーブル回転用θ軸モータ用ドライバ（以下、θ軸ドライバと略称）、３４ａｉはワークテーブル移動用Ｔ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｔ軸ドライバと略称）、３４ｂは副制御部、３４ｃはハードディスク、３４ｄはＵＳＢ（ユニバーサル・シリアル・バス）メモリ、３４ｆはモニタ、３４ｇはキーボード、３５はレギュレータ、３６はバルブユニット、３７は画像認識カメラ、３８は通信ケーブルである。
【００８６】
同図において、主制御部３４ａは、マイクロコンピュータ３４ａａ、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３でのＹ軸方向移動機構を駆動するＹ軸ドライバ３４ａｇやガントリ２ａ〜２ｃのＸ軸方向移動機構を駆動するＸ軸ドライバ３４ａｆ，ガラス基板１７が搭載されたワークテーブル８（図１）をθ軸方向に駆動するθ軸ドライバ３４ａｈ，ワークテーブル６をＴ軸方向に駆動するＴ軸ドライバ３４ａｉを制御するモータコントローラ３４ａｂ、画像認識カメラ３７で得られる映像信号を処理する画像処理コントローラ３４ａｃ及び副制御部３４ｂや塗布ヘッド８（図１）のシール材などの塗布材の塗布動作を制御するレギュレータ３５，バルブユニット３６と通信を行なう外部インターフェース３４ａｄを内蔵しており、これらマイクロコンピュータ３４ａａとモータコントローラ３４ａｂと画像処理コントローラ３４ａｃと外部インターフェース３４ａｄとがデータ通信バス３４ａｅを介して相互に接続されている。また、副制御部３４ｂは、この外部インターフェース３４ａｄに通信ケーブル３８を介して接続されている。
【００８７】
また、主制御部３４ａには、ＵＳＢメモリ３４ｄや外部記憶装置であるハードディスク３４ｃ，モニタ３４ｆやキーボード３４ｇなどが接続されている。キーボード３４ｇから入力されたデータなどは、モニタ３４ｆで表示されるとともに、ハードディスク３４ｃやＵＳＢメモリ３４ｄなどの記憶媒体に記憶保管される。
【００８８】
マイクロコンピュータ３４ａａには、図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したＲＯＭ，主演算部での処理結果や外部インターフェース３４ａｄ，モータコントローラ３４ａｂからの入力データを格納するＲＡＭ，外部インターフェース３４ａｄやモータコントローラ３４ａｂとデータをやりとりする入出力部などを備えている。
【００８９】
Ｙ軸ドライバ３４ａｇで駆動される各塗布ヘッド８のＹ軸方向移動機構としてのリニアモータやＸ軸ドライバ３４ａで駆動されるガントリ２ａ〜２ｃ（図１）のＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂとしてのリニアモータは、各塗布ヘッド８やガントリ２ａ〜２ｃの位置を検出するリニアスケールが設けられており、その検出結果を夫々Ｙ軸ドライバ３４ａｇ，Ｘ軸ドライバ３４ａｆに供給して塗布ヘッド８のＹ軸方向，Ｘ軸方向の位置制御が行なわれる。また、同様にして、θ軸ドライバ３４ａｈで駆動されるワークテーブル６（図１）の回転駆動モータは、このガラス基板１７の回転量を検出するエンコーダが内蔵されており、その検出結果をθ軸ドライバ３４ａｈに供給してガラス基板１７の向きの制御が行なわれる。さらに、Ｔ軸ドライバ３４ａｉで駆動されるワークテーブル６のＴ軸方向移動機構としてのリニアモータは、このワークテーブル６の位置を検出するリニアスケールが設けられており、その検出結果を夫々Ｔ軸ドライバ３４ａｉに供給してワークテーブル６の位置制御が行なわれる。この位置制御により、ワークテーブル６は、図２で示す搬入されたガラス基板１７を搭載するための基板搬入側ａの位置や塗布処理されたガラス基板１７を搬出するための基板搬出側ｂの位置，Ａ位置，Ｂ位置，Ｃ位置での位置設定が行なわれる。
【００９０】
なお、図７では図示しないが、図３に示す構成のワークテーブル６に対するローラ１６ａ〜１６ｄの回転駆動機構，基板載置部材１９や基板位置決めピン２２ａ，２２ｂの上下動駆動機構も設けられており、これらもモータコントローラ３４ａｂによって制御される。
【００９１】
図８は図７における副制御部３４ｂの一具体例を示すブロック図であって、３４ｂａはマイクロコンピュータ、３４ｂｂはモータコントローラ、３４ｂｃは外部インターフェース、３４ｂｄはデータ通信バス、３９はＺ軸モータ用ドライバ（以下、Ｚ軸ドライバと略称する）であり、前出の図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００９２】
同図において、副制御部３４ｂは、マイクロコンピュータ３４ｂａやモータコントローラ３４ｂｂ，距離計３３（図６）で得られる高さデータの入力や主制御部３４ａとの信号伝送を行なう外部インターフェース３４ｂｃを内蔵しており、これらはデータ通信バス３４ｂｄを介して相互に接続されている。また、マイクロコンピュータ３４ｂａには、図示しないが、主演算部や後述する塗布描画時のノズル１４（図２，図６）のガラス基板１７の表面からの高さ制御を行なうための処理プログラムを格納したＲＯＭ，主演算部での処理結果や外部インターフェース３４ｂｃ及びモータコントローラ３４ｂｂからの入力データを格納するＲＡＭ，外部インターフェース３４ｂｃやモータコントローラ３４ｂｂとデータをやりとりする入出力部などを備えている。モータコントローラ３４ｂｂによって制御されるＺ軸ドライバ３９は、塗布ヘッド８（図１）毎に設けられてそのＺ軸サーボモータを駆動するものであって、これらＺ軸サーボモータには、その回転量を検出するエンコーダが内蔵されており、その検出結果がＺ軸ドライバ３９に戻してノズル１４の高さ位置制御が行なわれる。
【００９３】
主制御部３４ａと副制御部３４ｂとの連携した制御のもと、各モータ（リニアモータやＺ軸サーボモータ，θ軸サーボモータなど）が、キーボード３４ｇ（図７）から入力されてマイクロコンピュータ３４ａａのＲＡＭに格納されているデータに基いて移動・回転することにより、Ｘ軸方向移動機構４ａ，４ｂがガントリ２ａ〜２ｃをＸ軸方向に任意の距離だけ移動させ、かつ、ノズル１４（図２）を上下に移動するＺ軸移動テーブル１３（図２）を介して、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３（図１）に設けられた塗布ヘッド８のＹ軸方向移動機構により、Ｙ軸方向に任意の距離だけ移動させ、その移動中、塗布材収納筒３１（図２）に設定した圧力で継続して加圧されてノズル１４の先端部の吐出口からシール材などの液状の塗布材が吐出され、ガラス基板１７にこの塗布材による所望のパターンが描画される。
【００９４】
ノズル１４がＹ軸方向へ水平移動中に、距離計３３がノズル１４とガラス基板１７の表面との間の間隔を計測し、これを常に一定の間隔を維持するように、ノズル１４の高さがＺ軸移動テーブル１３の上下移動で制御される。
【００９５】
副制御部３４ｂによるＺ軸方向の制御は、ガントリの機能毎に異なる。ガントリ２ａに取り付けた塗布ヘッド８はＺ軸方向の移動によってシール材の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動し、ガントリ２ｂでは、同様に、Ｚ軸方向の移動によって電極部となる打点塗布用の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動し、ガントリ２ｃでは、同様に、Ｚ軸方向の移動によって液晶滴下用の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動する。
【００９６】
ガントリ２ａのシール材塗布用の塗布ヘッド８の例で説明すると、主制御部３４ａと副制御部３４ｂとの連携した制御のもと、各モータが、キーボード３４ｇから入力されてマイクロコンピュータ３４ａａのＲＡＭに格納されているデータに基いて、移動・回転することにより、ワークテーブル６（図１）に保持されたガラス基板１７をＸ軸方向に任意の距離を移動し、かつ、ノズル１４を上下に移動するＺ軸移動テーブル１３（図２）を介して支持したノズル１４（図２）を、ガントリ２ａ，２ｂをそのＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂでＸ軸方向に移動させることにより、Ｘ軸方向に任意の距離だけ移動させ、その移動中、塗布材収納筒３１（図６）に設定した気圧が継続して印加されてノズル１４の先端部の吐出口から塗布材、即ち、シール材が吐出され、ガラス基板１７に塗布材の所望の描画パターンが塗布される。
【００９７】
ノズル１４のＸ軸方向へ水平移動中に、距離計３３（図６）でノズル１４とガラス基板１７との間隔を計測し、この間隔が常に一定に維持されるように、ノズル１４のＺ軸方向の位置をＺ軸移動テーブル１３の上下移動によって制御する。
【００９８】
図９は以上の第１の実施形態の全体動作の一具体例を示すフローチャートである。以下、図２などを参照して、この動作を説明する。
【００９９】
同図において、動作開始されると（ステップ１００）、まず、Ｔ軸ドライバ３４ａｉが動作して、ワークテーブル６を架台１の基板搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに移動させ、これと同時に、ガントリ２ｂ，２ｃを基板搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置寄りに退避させる（ステップ１０１）。次に、搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６へガラス基板１７を引き込みつつ、同時にガントリ２ａをガラス基板１７が位置決めされる位置、つまり、図２のＡ位置寄りに移動させる。ワークテーブル６の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂ（図３，図４）で決まる所定の位置でガラス基板１７を仮位置決めし、エア吸着孔２１（図３），エア噴出／吸着孔２８（図４）によって吸着固定する（ステップ１０２）。
【０１００】
しかる後、画像認識カメラ３７（図７）でガラス基板１７上のマークを認識した後、位置決めし、θ軸ドライバ３４ａｈ（図７）によってワークテーブル６の下面に設けられているクロスローラ軸受２３やＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄにより、θ軸方向の位置ずれを補正する（ステップ１０３）。
【０１０１】
位置ずれが正しく補正されると、Ｙ軸ドライバ３４ａｇ（図７）やＺ軸ドライバ３９（図８）を駆動することにより、ガントリ２ａでのＹ軸移動機構やＺ軸移動テーブル１３を動作させて、塗布ヘッド８のノズル１４（図６）の高さをパターンの描画高さに設定し、塗布ヘッド８でガラス基板１７上にシール材を塗布する（ステップ１０４）。
【０１０２】
シール材塗布処理後、ワークテーブル６をＸ軸ドライバ３４ａｆを動作させて架台１の中間位置、つまり、図２のＢ位置に移動させ、同時に、先にシール材塗布を終えたガントリ２ａを架台１の搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに退避させる（ステップ１０５）。
【０１０３】
次に、ガントリ２ｂを架台１の中間位置、つまり、図２のＢ位置寄りに移動させ、電極材の打点塗布を実行する（ステップ１０６）。打点材の塗布が終了すると、ワークテーブル６を架台１の搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置に移動させ、同時に、電極材の打点塗布処理を終えたガントリ２ｂを架台１の搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに退避させる（ステップ１０７）。
【０１０４】
次に、ガントリ２ｃを架台１の搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置寄りに移動させ、シール材で囲まれた内部に液晶を滴下塗布する（ステップ１０８）。
【０１０５】
これで一連の塗布動作が終了し、ワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂへガラス基板１７が移される（ステップ１０９）。
【０１０６】
そして、以上の全工程を停止するか否かを判定し（ステップ１１１０）、全てのガラス基板１７についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了して動作が停止する（ステップ１１１）。
【０１０７】
ところで、以上の第１の実施形態では、１つのガントリに６個の塗布ヘッド８を設置しており、リニアモータによるこれら塗布ヘッド８のためのＹ軸方向移動機構によってガントリの横梁３上をその長手方向（Ｙ軸方向）に移動できる構造としているものである。このＹ軸方向移動機構によって塗布ヘッド８の停止位置を変えることにより、外形２〜３（ｍ）角サイズの１枚の大型のガラス基板１７から複数枚のパネルを製作する時の塗布に対応できるようにしている。
【０１０８】
なお、この実施形態では、各ガントリ２ａ〜２ｃに６個ずつ塗布ヘッド８を設置し、同じガントリ、例えば、ガントリ２ａの６個の塗布ヘッド８は全てシール材塗布用としているが、使用状況に応じて、ガントリ２ａの６個の塗布ヘッド８とガントリ２ｂの６個の塗布ヘッド８との計１２個の塗布ヘッド８を全てシール材塗布用として、あるいは打点材塗布用として用いるなどの選択も可能である。
【０１０９】
また、この実施形態では、同じガントリに設けられている塗布ヘッド８は、全て同じ塗布材をガラス基板１７上に塗布するものとしたが、同じガントリに異なる種類の塗布材を塗布する塗布ヘッドを設け、そのガントリに異なる機能をもたせるようにしてもよい。例えば、ガントリ２ａにおいて、６個の塗布ヘッド８の内の３個の塗布ヘッド８がシール材を吐出する塗布ヘッドとし、残りの３個の塗布ヘッド８が電極材を吐出する塗布ヘッドとして、このガントリ２ａにシール材の塗布機能と電極材の塗布機能との２つの異なる機能を持たせるようにすることもできる。また、このことからして、基台１上にガントリを１台のみ設け、このガントリに、同様にして、シール材の塗布機能、電極材の塗布機能及び液晶の滴下塗布機能を持たせるようにすることもできる。
【０１１０】
さらに、ガントリ２ａに設置した６個の塗布ヘッド８を休止させて、ガントリ２ａごと一方のストロークエンド側に退避させ、２つのガントリ２ｂ，２ｃの塗布ヘッド８を活用することも可能であり、テーチング・データとして設定し、臨機応変に活用することもできる。
【０１１１】
この第１の実施形態によると、複数材料の塗布、例えば、シール材塗布や導通用打点塗布，液晶滴下塗布を共通のワークテーブル６で行なうものであって、これにより、あたかも３つの機能が１つの装置内に集約して実現できるようになる。
【０１１２】
図１０は本発明による塗布装置及び塗布方法の第２の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図であって、４０は耐圧カバー、４１ａは基板搬入ゲート、４１ｂは基板搬出ゲート、４２は吸引ブロア、４３は配管であり、図２に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【０１１３】
同図において、この第２の実施形態は、架台１上のワークテーブル６とガントリ２ａ〜２ｃが移動する範囲を剛性のある耐圧カバー４０で覆い、この耐圧カバー４０の基板搬入側ａに搬入側搬送コンベア１８ａから耐圧カバー４０内にガラス基板１７を搬入してワークテーブル６上に載置するための基板搬入ゲート４１ａと、耐圧カバー４０の基板搬出側ｂに塗布処理済みのガラス基板１７を耐圧カバー４０内のワークテーブル６から外部に搬出して搬出側搬送コンベア１８ｂに載置するための基板搬出ゲート４１ｂとが設けられており、これらゲート４１ａ，４１ｂは開閉可能であって、ガラス基板１７が搬入のために、また、搬出のために通過するときのみ、開放される。
【０１１４】
また、耐圧カバー４０の内部は配管４３を通してエア吸引手段としての吸引ブロア４２に接続しており、この吸引ブロア４２により、耐圧カバー４０の内部が大気圧力よりも低い圧力の環境に設定されている。このように、内部を大気圧力よりも低い圧力の環境とすることにより、空気の密度が低下し、ワークテーブル６やガントリ２ａ〜２ｃといった構造物の移動によって巻き上がるダストの同伴能力が低下する。このことは、大気圧環境下に比べて、小さいダストしか巻き上がらず、さらには、巻き上がるダストの量が少量となり、クリーンな環境となったことで製造するパネルの歩留まりがより向上することにつながる。
【０１１５】
なお、塗布処理時間との兼ね合いにもよるが、耐圧カバー４０の内部の圧力をさらに下げて高真空にする場合には、吸引ブロア４２に代えて、真空ポンプを用いて吸引してもよい。
【０１１６】
以上の構成以外については、先の第１の実施形態と同様であり、その動作も図９で表わされることになる。
【０１１７】
以上のように、上記の各実施形態では、複数の機能を有する複数台の装置（ガントリ）を並べ、これら装置を移動可能とするとともに、ガラス基板が載置されたワークテーブルが装置によって塗布処理が行なわれる位置まで移動するものであるから、共通の１台のロボットや装置間に設置した複数台のロボットを使って対象ワークとなるガラス基板の受け渡しを行なうロボット搬送による基板の受け渡しを行なう必要がなく、また、ガラス基板の動線（移動ライン）を短縮することよって、第１に、ガラス基板の搬送時のパーティクル汚染を低減できて、液晶パネルの製造時の部留りが向上し、第２に、設置面積を縮小できてクリーンルームの有効活用が図れる。
【０１１８】
なお、以上の実施形態では、液晶パネルの作成のための塗布処理を例としたものであるが、これのみに限るものではない。従って、塗布処理される基板も、ガラス基板とは限らないものである。
【符号の説明】
【０１１９】
１ 架台
２ａ〜２ｃ ガントリ
３ 横梁
４ａ，４ｂ Ｘ軸方向移動機構
５ａ，５ｂ リニアレール
６ ワークテーブル
７ リニアレール
８ 塗布ヘッド
９ カバー
１０ 基板搬入口
１１ 基板搬出口
１３ Ｚ軸移動テーブル
１４ ノズル
１５，１５ａ〜１５ｅ 基板吸着プレート
１６，１６ａ〜１６ｄ ローラ
１７ ガラス基板
１８ａ 搬入側搬送コンベア
１８ｂ 搬出側搬送コンベア
１９ 基板載置部材
２０ａ〜２０ｄ 連結部材
２１ エア吸着孔
２２ａ，２２ｂ 基板位置決めピン
２３ クロスローラ軸受
２４ａ〜２４ｄ ＸＹθ軸方向微動機構
２５ クロスローラ軸受
２６ 直交軸受
２７ 基板吸着プレート
２７ａ 基板載置面
２７ｂ 前側面
２８ エア噴出／吸着孔
２９ エア吸着孔
３０ エア噴出孔
３４ａｆ ガントリ移動用Ｘ軸リニアモータ用ドライバ
３４ａｇ 塗布ヘッド部移動用Ｙ軸リニアモータ用ドライバ
３４ａｈ ワークテーブル回転用θ軸モータ用ドライバ
３４ａｉ ワークテーブル移動用Ｔ軸リニアモータ用ドライバ
３４ｂ 副制御部
３９ Ｚ軸モータ用ドライバ
４０ 耐圧カバー
４１ａ 基板搬入ゲート
４１ｂ 基板搬出ゲート
４２ 吸引ブロア
４３ 配管
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルなどのフラットパネルの製造に係り、特に、基板上へのシール材などの塗布や液晶の滴下塗布をする塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどを製造する従来技術としては、その一例として、真空状態で処理を施すための複数の真空処理室と大気圧状態で処理を施す複数の大気圧処理室とを備え、これら真空処理室間や大気圧処理室間，真空処理室と大気処理室との間に夫々ガラス基板を搬送するための外部から遮断されたロボット室を設け、かかる処理室間でガラス基板を搬送するときには、ロボット室のロボットがそのガラス基板を一方の処理室から他方の処理室に自動的に搬送するようにして、液晶パネルを製造する装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
かかる従来技術によると、ガラス基板が液晶パネルとなるまでの処理が人手を介することなく、全て自動的に処理するので、粒子汚染や分子汚染の恐れがほとんどない、としている。
【０００４】
また、他の例として、真空チャンバ内に設けた位置合わせ装置に基板を設置し、基板にシール材を塗布し、このようにシール材が塗布された基板と他の基板との２枚の基板を貼り合わせ、シール材を硬化し、最後に液晶を注入するという手順でパネルを製造する際、シール材を基板上に形成していく塗布作業を大気圧よりも低い圧力下で行ない、また、２枚の基板を貼り合わせる作業を大気圧以下の圧力下で行なうようにした技術も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
かかる従来技術によると、シール材の塗布や２枚の基板の貼り合わせが大気圧よりも低い圧力下で行なうものであるから、シール材内に混入する気泡を低減し、この気泡が原因となる割断不良やギャップ不良、または、液晶注入不良の不具合を低減できるし、基板周辺で巻き上がるダストなどの異物が低減し、異物によるパネル不良も低減できる、としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−３２４２９７号公報
【特許文献２】特開平２００１−１３５０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ＬＣＤ（液晶パネル）などのフラットパネルの分野においては、年々ガラス基板のサイズの大型化が急速に進んでおり、これに伴って、その製造装置も大型化してきている。加えて、安価に製造するためには、製造装置の内部や周辺で巻き上がるダストを低減して歩留まりを向上すること、さらに同時に、パネル１枚当りの製造時間を抑制することが共に強く求められている。
【０００８】
上記特許文献１に記載の従来技術では、ガラス基板からパネルを製造する際、大気圧処理室から真空処理室へガラス基板を搬送するとき、大気圧状態から真空状態への真空立ち上げ時間がロスタイムとなって、総合的な製造時間が増大するという問題がある。
【０００９】
また、上記特許文献２に記載の従来技術では、真空チャンバ内で塗布作業や基板の貼り合わせ作業を行なう際、真空チャンバ内への組み込みや取り出しが人手やロボットなどによって行なわれ、これらに保持された基板が上下に動くことなどによって周囲の空気が大きく流動することになり、この空気に同伴してダクトが巻上がる。また、同じ真空チャンバを用いるのではなく、別機能を有する複数台の装置を並べてパネルの製造を行なう場合でも、対象ワークとなるガラス基板を受け渡す際に、同様にして、ロボットなどを用いる場合、これに保持される基板の動きによって周囲の空気を大きく流動することになり、その周囲の空気が流動してダストがこれに同伴されて巻き上がることになる。このようなダクトの巻上がりがあると、これがパネルに付着して不良品となる確率が高くなる。
【００１０】
さらに、上記特許文献２の記載の技術では、第１の例として、塗布作業を真空環境内で行なう場合においては、真空中でシール材を塗布した後に一旦大気開放し、スペーサを散布し、点付けした紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して位置決めを仮止めしつつ２枚の基板を貼り合わせている。その後、位置決め装置から仮止めした基板を取り出して、別に用意したナイロン袋に入れて袋内を減圧し、つまり、再度真空にすることにより、２枚の基板を加圧する。次に、加熱して先に塗布したシール材を硬化して２枚の基板を接着する。最後に、袋から取り出し、つまり再度大気圧状態に開放して、大気圧中で液晶材料を封入し、液晶パネルを製造している。このため、シール材塗布から液晶パネルが完成までに２回真空状態にし、２回大気圧状態へ開放する製造手順が採られることになる。
【００１１】
また、第２の例として、貼り合わせ作業を真空環境で行なう場合では、大気圧中でシール材を塗布後にスペーサを散布し、点付けした紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して位置決めして仮止めし、真空中で２枚の基板を貼り合わせる。その後、大気圧状態に開放して、位置決め装置から基板を取り出し、真空パック法、つまり、再度真空状態にすることにより、２枚の基板を加圧する。次に、この真空パック状態で加熱して、先に塗布したシール材を硬化させて２枚の基板を接着する。最後に、袋から取り出し、つまり、再度大気圧状態に開放して、大気圧中で液晶材料を封入し、液晶パネルを製造していた。この例でも、上記と同様に、シール材の塗布から液晶パネルの完成までに２回真空状態にし、２回大気圧状態へ開放する製造手順が採られることになる。
【００１２】
結局のところ、第１，第２のいずれの例でも、シール材中に気泡の混入を抑制する目的で、シール材塗布から貼り合わせる工程までの塗布作業、または、貼り合わせ作業のいずれか一方を真空中で行なうものであるが、実際には、液晶注入前に熱硬化樹脂で加圧しながら圧着する時点で再度真空状態にしており、真空環境を作るための時間が必要となる。
【００１３】
ここで、熱硬化樹脂でシール材を硬化させて２枚の基板を圧着する際に、真空状態にして加圧しない製造方法もある。しかし、一般的な液晶注入方式としては、次段階の液晶注入段階で、液晶パネル内部を真空にするために液晶パネルをチャンバ内で一旦真空状態にし、液晶注入口を液晶に浸した後に大気圧状態に開放して、液晶パネル内部に大気圧中で液晶を押し上げて充填していく製造方法が採用される場合が多かった。
【００１４】
本発明の目的は、かかる問題を解消し、巻き上がるダストを低減するとともに、製造時間の短縮を可能とした塗布装置及び塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明は、塗布材を充填した材料収納筒と塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドを移動可能に設けられたガントリが１または複数台架台上に設置され、架台上に設置された基板載置テーブルに搭載された基板に対してガントリが移動し、ガントリに対して塗布ヘッドが移動することにより、基板に対して塗布ヘッドが移動し、ノズル吐出口から基板上に塗布材を吐出させる塗布装置であって、外部から基板載置テーブルへの基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ基板載置テーブルから外部への基板の搬出は、基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、基板載置テーブルを、搬入側搬送コンベアから搬入された基板が載置される位置から基板を搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、基板を載置した状態で、移動させる第１の移動機構と、基板載置テーブルに載置された基板を回動させる第２の移動機構とを備えたものである。
【００１６】
また、本発明による塗布装置は、架台上に複数台のガントリが設置され、これら複数台のガントリのうちのいずれかのガントリに設けられているの塗布ヘッドが、他のガントリに設けられている塗布ヘッドとは異なる種類の塗布材を基板上に吐出するものである。
【００１７】
また、本発明による塗布装置は、同じガントリに設けられている複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの塗布ヘッドと他の塗布ヘッドとは、種類が異なる塗布材を基板上に吐出するものである。
【００１８】
また、本発明による塗布装置は、基板載置テーブルが、基板載置テーブル上で基板を一方向に移動させるローラによる基板移動手段と、基板載置テーブル上で基板を吸着し、基板載置テーブル上で基板を位置固定する基板位置固定手段とを備えたものである。
【００１９】
また、本発明による塗布装置は、基板載置テーブルが、基板載置テーブル上で基板にエアを吹き付けることによって基板を一方向に移動させる基板移動手段と、基板載置テーブル上で基板を吸着し、基板載置テーブル上で基板を位置固定する基板位置固定手段とを備えたものである。
【００２０】
さらに、本発明による塗布装置は、架台上の基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、耐圧カバーで覆われた内部をエア吸引手段で大気圧よりも低い気圧に設定し、低い気圧の環境内でガントリの塗布ヘッドで基板載置テーブルに載置された基板への塗布動作を行なうものである。
【００２１】
上記目的を達成するために、本発明は、塗布材料を充填した塗布材収納筒と塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドが移動可能に設けられたガントリが１または複数台で架台上に設置され、架台上に設置された基板載置テーブルに載置された基板に対してガントリが移動し、ガントリに対して塗布ヘッドが移動することにより、基板に対して塗布ヘッドが移動し、ノズル吐出口から基板上に塗布材を吐出させる塗布方法であって、外部から基板載置テーブルへの基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ基板載置テーブルから外部への基板の搬出は、基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、基板載置テーブルは、搬入側搬送コンベアから搬入された基板が載置される位置から基板を搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、基板を載置した状態で、移動し、基板載置テーブルに載置された基板を回動させてθ軸ずれを補正するものである。
【００２２】
また、本発明による塗布方法は、架台上に複数台のガントリが設置され、これら複数台のガントリのうちのいずれかのガントリに設けられている塗布ヘッドは、他のガントリに設けられている塗布ヘッドとは異なる種類の塗布材を基板上に吐出するものである。
【００２３】
また、本発明による塗布装置は、同じガントリに設けられている複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの塗布ヘッドと他の塗布ヘッドとは、種類が異なる塗布材を基板上に吐出するものである。
【００２４】
また、本発明による塗布方法は、基板載置テーブル上で基板をローラによる基板移動手段で一方向に移動させて基板載置テーブル上での基板の位置決めを行ない、位置決めされた基板を吸着して、基板載置テーブル上で基板を位置固定するものである。
【００２５】
また、本発明による塗布方法は、基板載置テーブル上で基板にエアを吹き付けることにより、基板を一方向に移動させて基板載置テーブル上での基板の位置決めを行ない、位置決めされた基板を吸着して、基板載置テーブル上で基板を位置固定するものである。
【００２６】
さらに、本発明による塗布方法は、架台上の基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、耐圧カバーで覆われた内部を大気圧よりも低い気圧に設定し、低い気圧の環境内でガントリの塗布ヘッドで基板載置テーブルに載置された基板への塗布動作を行なうものである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、３種類の材料の塗布作業、例えば、シール材塗布，導通用打点塗布及び液晶滴下塗布の各塗布作業を共通のワークテーブル（基板載置テーブル）で行ない、さらに、かかる塗布作業の前後の基板の受け渡しは搬入，搬出コンベアで行なうことにより、ダストの巻き上げを最小にした状態で、あたかも３つの機能が１つの装置内に集約して実現できるようになる。
【００２８】
これにより、複数の機能を有する複数台の装置を並べて、共通の１台のロボットや装置間に設置した複数台のロボットを用いて対象ワークとなる基板の受け渡しを行なう従来のロボット搬送方式に比べて、基板の動線（移動ライン）を短縮することができて、第１に、基板の搬送時のパーティクル汚染を低減できて、液晶パネル製造時の歩留まりが向上し、第２に、設置面積を縮小できてクリーンルームの有効活用が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の要部を示す外観斜視図である。
【図２】本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図である。
【図３】図１及び図２におけるワークテーブル６の一具体例を示す外観斜視図である。
【図４】図１及び図２におけるワークテーブル６の他の具体例を示す外観斜視図である。
【図５】図４におけるエア噴出／吸着孔２８での構成の一具体例を示す図である。
【図６】図１における塗布ヘッド８の一具体例の腰部を拡大して示す斜視図である。
【図７】図１，図２に示す第１の実施形態での主制御部の構成とその制御の一具体例を示すブロック図である。
【図８】図７における副制御部３４ｂの一具体例を示すブロック図である。
【図９】図１，図２に示す第１の実施形態の全体動作の一具体例を示すフローチャートである。
【図１０】本発明による塗布装置及び塗布方法の第２の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
ガラス基板は年々大型化してきており、これまでの大型化に対応する傾向をみると、装置内で位置決めする手段が大型化し、その重量は増加の一途をたどってきている。これに伴って、駆動源であるモータの大型化やボールネジ，ガイドといった軸受や動力伝達機構の大型化、さらにまた、モータドライバの大容量化や配線規模の増大といった機構系に限らず、制御系も加えた基板駆動部の大規模化につながってしまうという問題があった。
【００３１】
一方、第２の問題として、装置内外のガラス基板のやりとりにおいて、このガラス基板を搬入・搬出する手段もまた、大型化，重量化する傾向となっているという他の問題もある。
【００３２】
製造プロセスを見た場合、これまで、ガラス基板にシール材を塗布する装置，電極点を打点で塗布する装置及び液晶を滴下塗布する装置といった３種の機能の装置が並んで設置されており、これがガラス基板の貼り合わせ装置へとつながっていた。これら３種の装置間では、搬送ロボットがアクセスして大型のガラス基板の搬入・搬出を行なってきた。かかる搬入・搬出動作においては、水平移動のみならず、装置間の移動中やガラス基板を各装置のテーブルへの搭置するときに、ガラス基板を保持した状態で上下動を繰り返し行なう場合もあり、これにより、周囲の空気が上下に流動し、これを同伴してダストが巻き上げられる。
【００３３】
そこで、本発明では、ロボットで受け渡す方式に変えて、上記夫々の装置の塗布機能（以下では、特に断らない限り、液晶の滴下塗布機能も含む）を持つ１または複数のガントリ（門型フレーム部）を備えた１つの塗布装置または塗布システムとし、夫々のガントリに共通のワークテーブルを設けてこのワークテーブルにガラス基板を搭載し、ガラス基板が搭載されたこのワークテーブルを上記の機能毎に割り当てられた位置に設置することにより、該当するガントリを用いて該当する塗布動作を行なうようにするものであり、異なる機能の装置間の基板の移動をこれが載置されて同じワークテーブルの移動で行なうことにより、基板のロボットによる搬送や人手による搬送を排除できるようにするものである。
【００３４】
また、本発明では、このワークテーブルへの基板の搬入やワークテーブルからの基板の搬出は、搬入側搬送コンベアや搬出側搬送コンベアで行なうものであり、これら搬送コンベアでは、それに搭載されたガラス基板の高さがワークテーブルに載置されているときのガラス基板の高さに等しく維持されるようにする。
【００３５】
以上のことから、夫々のガントリで塗布動作が行なわれる間、ガラス基板は同じワークテーブルに搭載された状態にあって、ワークテーブルに対して動くことがなく、ガラス基板への塗布動作中、ダストが巻き上げられることはない。また、ガラス基板のワークテーブルへの搬入や搬出時でも、搬入コンベアからワークテーブルへ、また、ワークテーブルから搬出コンベアへ、高さを変えることなく（即ち、持ち上げられたり、持ち下げられたりすることなく）、搬送されることになり、これにより、ダストが巻き上げられることはない。従って、製造されるパネルの歩留まりが向上する。
【００３６】
また、全てのガントリやワークテーブル，それらの駆動機構などを含む空間全体をカバーで覆い、その空間内の圧力を大気圧より低くすることにより、この空間内の空気の量を少なくし、これにより、さらにダストの巻き上げ力を小さくして巻き上げられるダストの量を低減できる構造としている。
【００３７】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【００３８】
図１は本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の要部を示す外観斜視図であって、１は架台、２ａ，２ｂ，２ｃはガントリ、３は横梁、４ａ，４ｂはＸ軸方向移動機構、５ａ，５ｂはリニアレール、６はワークテーブル（基板載置テーブル）、７はリニアレール、８は塗布ヘッドである。
【００３９】
同図において、架台１の長さ方向をＸ軸方向、幅方向をＹ軸方向として、架台１上のＹ軸方向に対向する両辺部に夫々、Ｘ軸方向に沿うリニアレール５ａ，５ｂが設けられており、これらリニアレール５ａ，５ｂ間がガラス基板（図示せず）が載置されるワークテーブル６の通路をなしている。この通路には、Ｘ軸方向に伸延したリニアレール７が敷設されており、また、ワークテーブル６の裏面側には、リニアモータからなるワークテーブル移動機構（図示せず）が設けられていて、これにより、ワークテーブル６は、このリニアレール７に沿って、ガラス基板が搬入される基板搬入側ａからガラス基板が搬出される基板搬出側ｂまでの間を架台１の長手方向に沿って移動することができる。
【００４０】
ここで、ワークテーブル６の移動方向はＸ軸方向であるが、ワークテーブル６の移動方向については、以下では、Ｔ軸方向ということにする。従って、ワークテーブル６が移動するリニアレール７も、Ｔ軸方向に伸延しているものとするし、このワークテーブル６を移動させるための上記のワークテーブル移動機構も、Ｔ軸方向移動機構ということになる。
【００４１】
架台１上には、また、３台のガントリ２ａ〜２ｃが、ワークテーブル６の通路をまたぐようにして、設けられており、夫々の両端側にリニアモータからなるＸ軸方向移動機構（ガントリ移動機構）４ａ，４ｂが設けられている。そして、かかるＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂにより、これらガントリ２ａ〜２ｃは夫々独立に、リニアレール５ａ，５ｂに沿ってＸ軸方向に移動することができる。
【００４２】
ガントリ２ａ〜２ｃ夫々の横梁３の一方の側面には、複数の塗布ヘッド８が設けられている。これら塗布ヘッド８は、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３に設けられたＹ軸方向移動機構（図示せず）により、かかる横梁３の側面をＹ軸方向に移動することができる。図示する例では、ガントリ２ａ〜２ｃには、６個ずつ塗布ヘッド８が設けられており、そのうちの３個の塗布ヘッド８が横梁３の一方の端側に寄せられ、残りの３個の塗布ヘッド８が横梁３の他方の端側に寄せられている状態を示している。
【００４３】
ここで、ガントリ２ａ〜２ｃには夫々、機能が分担されている。最も基板搬入側ａに配置されるガントリ２ａはガラス基板へのシール材の塗布機能を割り当てられたものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々シール材の塗布ヘッドである。次に基板搬入側ａに配置されるガントリ２ｂは作成される液晶パネルの電極部となる打点のガラス基板への塗布機能が割り当てられているものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々打点の塗布ヘッドである。最も基板搬出側ｂに配置されるガントリ２ｃはガラス基板への液晶の滴下塗布機能を割り当てられたものであって、そこに設けられている塗布ヘッド８は夫々、ガラス基板上の塗布されたシール材で囲まれた領域内に液晶を滴下塗布する塗布ヘッドである。
【００４４】
塗布処理されるガラス基板（図示せず）は、図示しない搬入側搬送コンベアによって搬入側ａから搬入される。このとき、ワークテーブル６は搬入側ａに位置付けられており、搬入されたガラス基板が搬入側搬送コンベアからこのワークテーブル６上に移される。このようにしてガラス基板が載置されたワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、順次所定の位置に移動され、夫々の所定位置に設定される毎に、ワークテーブル６に載置されたガラス基板上に、ガントリ２ａの各塗布ヘッド８によってシール材が塗布され、ガントリ２ｂの各塗布ヘッド８によって打点が塗布され、ガントリ２ｃの各塗布ヘッド８によって液晶が滴下塗布される。しかる後、ワークテーブル６は基板搬出側ｂに位置付けられ、処理済みのガラス基板がこのワークテーブル６から図示しない搬出側搬送コンベアに移されて搬出搬送される。
【００４５】
図２は本発明による塗布装置及び塗布方法の第１の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図であって、９はカバー、１０は基板搬入口、１１は基板搬出口、１２はファンフィルタユニット、１３はＺ軸移動テーブル、１４はノズル、１５は基板吸着プレート、１６はローラ、１７はガラス基板、１８ａは搬入側搬送コンベア、１８ｂは搬出側搬送コンベアであり、図１に対応する部分には同一符号を付けて重複する説明を省略する。
【００４６】
同図において、架台１上のガントリ２ａ〜２ｃやワークテーブル６が移動範囲が、全体として、カバー９で覆われている。このカバー９の天井には、複数のファンフィルタユニット１２が設けられている。このカバー９の基板搬入側ａには、搬入側搬送コンベア１８ａで搬送されてきたガラス基板１７をカバー９内に搬入するための小さい開口（ガラス基板１７の幅よりも若干大きい幅で、ガラス基板１７の厚みりも若干大きい高さの開口）の基板搬入口１０が設けられており、この基板搬入口１０から搬入されたガラス基板１７はワークテーブル６上に載置される。また、このカバー９の基板搬出側ｂには、カバー９内から外部に塗布処理された（即ち、塗布処理済みの）ガラス基板１７を排出するための、基板搬入口１０と同様の大きさの小さい開口である基板搬出口１１が設けられており、この基板搬出口１１から搬出された塗布処理済みのガラス基板１７が搬出側搬送コンベア１８ｂに搭載される。
【００４７】
ここで、ワークテーブル６の上面の基板載置面と搬送コンベア１８ａ，１８ｂの基板載置面とは同じ高さの面（同一平面内の面）であり、また、ワークテーブル６の基板載置面は、後述するように、基板吸着プレート１５とローラ１６とからなるものである。なお、かかる搬送コンベア１８ａ，１８ｂとしては、案内ガイドを有するローラ式の搬送コンベアのほか、ボール状のコンベア、あるいはウォーキングビーム、などを用いるとよい。
【００４８】
かかる構成により、搬入側搬送コンベア１８ａで搬送されたガラス基板１７がカバー９内に搬入されるときには、搬入側搬送コンベア１８ａによってガラス基板１７がそのときの高さを保ったまま搬入口１０からカバー１７内に押し込まれ、このガラス基板１７が、ワークテーブル６上に達すると、これまでの高さを保ったままローラ１６によってワークテーブル６上を移動させられて、所定の位置で基板吸着プレート１５上に載置されて吸着され、位置固定される。
【００４９】
このようにして、ガラス基板１７を搭載したワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の基板搬入側ａ寄りのＡ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ａの塗布ヘッド８により、シール材の塗布が行なわれ、ガラス基板１７上に複数（この場合、６個）の閉鎖したシール材のパターンが描画される。なお、かかるシール材のパターンは、ガントリ２ａにおいて、塗布ヘッド８のＺ軸移動テーブル１３に搭載されたノズル１４からシール材を吐出しながら、Ｙ軸方向移動機構でもって塗布ヘッド８をガントリ２ａの横梁３（図１）に沿ってＹ軸方向に移動させ、かつＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂ（図１）でもってガントリ２ａをＸ軸方向に移動させることによって塗布ヘッド８をＸ軸方向に移動させることにより、ノズル１４を矩形状のパターンの軌跡に沿って移動させて描画がされる。このとき、Ｚ軸方向移動機構（図示せず）により、Ｚ軸移動テーブル１３のＺ方向の高さが調整されて、ノズル１４のシール材吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５０】
次いで、ワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の中央部のＢ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ｂの塗布ヘッド８により、ガラス基板１７上のシール材の矩形状の描画パターン毎に、この描画パターンの外周の所定の位置（例えば、４隅の位置）に電極剤の打点の塗布が行なわれる。なお、このときも、上記と同様にして、ガントリ２ｂに設けられた塗布ヘッド８のＸ，Ｙ軸方向の移動により、そのノズル１４が各シール材の描画パターンの打点を塗布すべき位置に設定され、その位置でノズル１４の吐出口から電極材が吐出される。この場合も、上記と同様にして、ノズル１４の吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５１】
しかる後、ワークテーブル６は、Ｔ軸方向移動機構により、Ｔ軸方向に移動して架台１上の基板搬出側ｂ寄りのＣ位置に位置設定され、この位置でガントリ２ｃの塗布ヘッド８により、ガラス基板１７上のシール材の描画パターン毎に、この描画パターンで囲まれた領域内に液晶の滴下塗布が行なわれる。なお、このときも、上記と同様にして、ガントリ２ｃに設けられた塗布ヘッド８のＸ，Ｙ軸方向の移動により、そのノズル１４が各シール材の描画パターンに囲まれた領域内の液晶が滴下されるべき位置に設定され、その位置でノズル１４の吐出口から液晶が滴下される。この場合も、上記と同様にして、ノズル１４の吐出口のガラス基板１７の表面からの高さが常時規定の高さに保持される。
【００５２】
以上により、カラス基板１７への塗布処理が終了し、ワークテーブル６上のこの塗布処理済みのガラス基板１７が基板搬出口１１からカバー９外に排出されるが、このときには、ワークテーブル６のローラ１６によってこの基板搬出口１１からカバー９外にガラス基板１７が、そのときの高さをそのまま維持して、押し出され、このガラス基板１７が搬出側搬送コンベア１８ｂ上に達すると、そのときの高さでこの搬出側搬送コンベア１８ｂ上を移動させられて、所定の位置に位置固定される。
【００５３】
このようにして、ガラス基板１７は、搬入側搬送コンベア１８ａからカバー９内のワークテーブル６上に移されるときでも、また、カバー９内のワークテーブル６上から搬出側搬送コンベア１８ｂに移されるときも、ロボットや人手を用いることなく、高さを一定に保持したままＴ軸方向の移動だけでもって行なうことができるので、カバー９内で空気が上下に流動することがなく、ダストが巻き上げられることがない。また、同様に、異なる機能が割り当てられたガントリ２ａ，２ｂ，２ｃ間のガラス基板１７の移動も、ワークテーブル６に搭載されたままでＴ軸方向の移動だけによって行なわれるものであるから、カバー９内で空気が上下に流動することがなく、ダストが巻き上げられることがない。このため、巻き上がったダストがガラス基板１７のシール材などの塗布面に付着することがなく、ダストが付着することによるパネルの歩留まりの低減を回避できるようになる。
【００５４】
また、シール材の塗布，電極材の打点の塗布，液晶の滴下塗布という異なる塗布処理機能の装置（ガントリ２ａ〜２ｃ）を同じ架台１上に設け、これら装置間をワークテーブル６に搭載したままでガラス基板１７を移動させることにより、夫々の装置で夫々毎の塗布処理を行なうものであるから、ロボットなどを用いた装置間のガラス基板の搬送に比べ、１つの装置から次の装置に移して処理を開始させるまでの時間を短縮することができ、製造に要する時間を短縮することができるとともに、これら装置間の間隔も短縮することができ、かかる異なる機能処理を行なう装置全体の小型化を図ることができる。
【００５５】
図３は図１及び図２におけるワークテーブル６の一具体例を示す外観斜視図であって、１６ａ〜１６ｅは基板吸着プレート、１６ａ〜１６ｄはローラ、１９は基板載置部材、２０ａ〜２０ｄは連結部材、２１はエア吸着孔、２２ａ，２２ｂは基板位置決めピン、２３はクロスローラ軸受、２４ａ〜２４ｄはＸＹθ軸方向微動機構、２５はクロスローラ軸受、２６は直交軸受である。
【００５６】
同図において、ワークテーブル６は、Ｘ軸方向に互いに平行で、かつ等間隔で配置される複数（ここでは、５個）のＹ軸方向が長手方向となる基板吸着ブレート１５ａ〜１５ｅが夫々、細長い平板状の連結部材１６ａ〜１６ｄで連結された構成の基板搭載部材１９を有している。これら基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅは、図２での基板吸着プレート１５に相当するものであって、横断面形状が矩形状もしくは正方形状をなしており、連結部材２０ａ〜２０ｄは基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅの高さよりも薄く、これにより、連結部材２０ａ〜２０ｄの部分が基板載置部材１９の窪んだ谷部を形成している。これら谷部に（即ち、連結部材２０ａ〜２０ｄの上面側に）夫々、この谷部のＹ軸方向の全長に渡るローラ１６ａ〜１６ｄが配置されている。これらローラ１６ａ〜１６ｄは、図２でのローラ１６に相当するものであって、基板載置部材１９上に載置されるガラス基板１７（図２）をＴ（Ｘ）軸方向に移動させるための基板移動機構を構成するものであり、図示しない回転駆動機構により、回転駆動される。
【００５７】
基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅ夫々の上面には、ガラス基板１７（図２）を吸着して位置固定するためのエア吸着孔２１が複数個ずつ（図示では、４個ずつ）設けられており、かかる基板搭載部材１９のＸ軸方向の端側、即ち、基板搬入側ａ（図１，図２）とは反対側の最も端にある基板吸着プレート１５ｅの外側面に近接して、複数（ここでは、２個）の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが設けられている。
【００５８】
また、かかる基板搭載部材１９の中心部が、その裏面側で、回転部材としてのクロスローラ軸受２３によって支持されており、また、基板搭載部材１９の裏面でのこのクロスローラ軸受２３から異なる方向で、かつ互いに等しい距離の位置が夫々、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによって支持されている。クロスローラ軸受２３は、基板搭載部材１９をその支持位置を中心にθ軸方向に回動させるものであり、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄは、クロスローラ軸受２５と直交軸受２６とで構成されて、基板搭載部材１９がクロスローラ軸受２３によってその中心部を中心にθ軸方向に回動するとともに、ＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによってその支持位置をθ軸方向に回動させ、ＸＹ軸方向に移動させるものである。これにより、基板搭載部材１９が、その中心位置を中心に、回動し、ワークテーブル６に搭載されたガラス基板１７（図１）のθ軸方向のずれを調整することができる。
【００５９】
かかる構成の基板搭載部材１９は、図示しない基台上に載置されており、この基台の裏面側に図１で説明したＴ軸方向移動機構が設けられて、これにより、ワークテーブル６がＴ軸方向に移動することができる。
【００６０】
また、ローラ１６ａ〜１６ｄはこの基台に対して位置が固定されているが、基板吸着プレート１６ａ〜１６ｅと連結部材２０ａ〜２０ｄとからなる基板載置部材１９や基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは、クロスローラ軸受２３とＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄとともに、基台に対して上下動できる。
【００６１】
そこで、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬入口１０側にあって、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を取り込むときには、基板搭載部材１９は降下した状態にあり、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは上昇した状態にあって、ローラ１６ａ〜１６ｄや基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが一部、基板載置部材１９の基板吸着プレート１５ａ〜１５ｅの上面よりも上方に突出した状態にある。
【００６２】
そして、このときには、ローラ１６ａ〜１６ｄは回転駆動された状態にあり、図２で説明したように、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７がワークテーブル６上に押し込まれ、このガラス基板１７が回転するローラ１６ａ〜１６ｄ上に乗ると、このローラ１６ａ〜１６ｄの回転によってもこのガラス基板１７が基板位置決めピン２２ａ，２２ｂの方向に移動する。ガラス基板１７が基板位置決めピン２２ａ，２２ｂに当接すると、ローラ１６ａ〜１６ｄの回転が停止し、基板載置部材１９が上昇してその上面にガラス基板１７が載置された状態となり、次いで、エア吸着孔２１が基板位置固定機構として吸着動作を行なうことにより、ガラス基板１７が、基板載置部材１９の上面に吸着されて、ワークテーブル６上に固定された状態となる。
【００６３】
また、図２で説明したように、ワークテーブル６が架台１の基板搬出側ｂに移動して塗布処理済みのガラス基板１７を基板搬出口１１を介して搬出側搬送コンベア１８ｂに移す場合には、基板載置部材１９とともに、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂを降下させ、ローラ１６ａ〜１６ｄ上にガラス基板１７が搭載された状態でこれらローラ１６ａ〜１６ｄを回転させる。これにより、ガラス基板１７はワークテーブル６上から基板搬出口１１を通って搬出側搬送コンベア１８ｂに移動する。
【００６４】
このようにして、ガラス基板１７を搬入側搬送コンベア１８ａから、ロボットや人手を用いることなく、ワークテーブル６上に移送させることができるし、また、塗布処理済みのガラス基板１７をワークテーブル６から、ロボットや人手を用いることなく、搬出側搬送コンベア１８ｂ上に移送させることができる。
【００６５】
図４は図１及び図２におけるワークテーブル６の他の具体例を示す外観斜視図であって、２７は基板吸着プレート、２７ａは基板載置面、２７ｂは前側面、２８はエア噴出／吸着孔であり、図３に対応する部分には同一符号を付けて重複する説明を省略する。
【００６６】
同図において、この具体例は、１つの平板状の基板吸着プレート２７が、図３に示した具体例と同様、図示しない基台上にクロスローラ軸受２３及びＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄによって支持された構成をなしている。但し、この基板吸着プレート２７は、この基台に対する位置及び高さが固定されている。この基板吸着プレート２７の上面は平坦な面をなして、図示しないガラス基板の載置面２７ａとなるものであり、この基板載置面２７ａはこれにガラス基板全体が載置される面積を有している。
【００６７】
この基板吸着プレート２７の基板搬入側ａ（図２）とは反対側の前側面２７ｂ側に近接して、先の図３に示す具体例と同様、複数（ここでは、２個）の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂが設けられている。これら基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは、先の図３に示す具体例と同様、基台に対して上下動するものであって、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬入口１０側にあって、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を取り込むときには、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは上昇した状態にあって、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａよりも上方に突出した状態にある。これにより、基板搬入口１０（図２）から搬入されたガラス基板１７は、これら基板位置決めピン２２ａ，２２ｂに当接することにより、基板吸着プレート２７に対して位置決めされる。また、図２で説明したように、ワークテーブル６がカバー９の基板搬出口１１側にあって、ワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂにガラス基板１７が搬出されるときには、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂは下降した状態にあって、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａよりも下方にある。
【００６８】
基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａには、Ｘ（Ｔ）軸方向とＹ軸方向とに沿って所定の間隔でエア噴出／吸着孔２８が設けられている（図４では、Ｘ軸方向に９個ずつ、Ｙ軸方向に７個ずつ設けられている場合を示すが、これに限るものではない）。これらエア噴出／吸着孔２８は、基板載置面２７ａにガラス基板が位置決めされた状態で搭載されているときには、エア吸着孔として機能し、ガラス基板を基板載置面２７ａにエア吸着して固定させる。また、搬入側搬送コンベア１８ａからガラス基板１７を搬入するときや搬出側搬送コンベア１８ｂにガラス基板１７を搬出するときには、このガラス基板１７を基板載置面２７ａ上をＸ軸（Ｔ軸）方向に移動させるために、エア噴出／吸着孔２８は、エア噴出孔として機能する。
【００６９】
図５は図４におけるエア噴出／吸着孔２８での構成の一具体例を示す図であって、２９はエア吸着孔、３０はエア噴出孔であり、前出図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００７０】
図５（ａ）において、エア噴出／吸着孔２８には、エア吸着孔２９とエア噴出孔３０とが連通している。エア吸着孔２９では、真空ポンプなどの真空駆動源（図示せず）により、矢印で示すように、基板吸着プレート２７の基板載置面２７ａ側のエアが吸引され、エア噴出孔３０では、エアポンプなどのエア駆動源（図示せず）により、基板吸着プレート２７のエア噴出／吸着孔２８から外部にエアが噴出される。ここで、エア吸着孔２９は、基板載置面２７ａに垂直な方向に設置されているが、エア噴出孔３０は、基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して設けられており、これにより、エア噴出孔３０から噴出されるエアは、エア噴出／吸着孔２８から基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して噴出されることになる。
【００７１】
図５（ｂ）は、図２で説明したように、ガラス基板１７を搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６上に移す場合や塗布処理済みのガラス基板１７をワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂ上に移す場合のエア噴出／吸着孔２８の状態を示すものである。
【００７２】
この場合には、エア噴出孔３０からダクト量を低減した清浄なエアが噴出するものであって、破線矢印で示すように、エアはエア噴出／吸着孔２８から基板載置面２７ａに対してＴ（Ｘ）軸方向に傾斜して噴出されてガラス基板１７の裏面に当てられる。これにより、ガラス基板１７は、基板載置面２７ａからわずかに（例えば、２μｍ程度）持ち上げられ、かつＴ軸方向に押されることになる。従って、ガラス基板１７は、基板載置面２７ａに沿ってＴ（Ｘ）軸方向に搬送されることになる。
【００７３】
図５（ｃ）は、図２で説明したように、ワークテーブル６上で位置決めされたガラス基板１７をこのワークテーブル６の基板載置面２７ａに固定した状態を示すものである。
【００７４】
この場合には、エア吸着孔２９からエアを吸引するものであって、図５（ｂ）で説明したように、ガラス基板１７がＴ（Ｘ）軸方向に搬送され、基板位置決めピン２２ａ，２２ｂ（図４）により、基板載置面２７ａに対して位置決めされると、エア噴出孔３０からのエアの噴出が停止して、代わりにエア吸着孔２９からエアの吸引が行なわれる。これにより、ガラス基板１７が基板載置面２７ａに載置され、さらにエアの吸引が行なわれることにより、ガラス基板１７が基板載置面２７ａに吸着されて位置が固定される。
【００７５】
このようにして、エアの作用により、基板載置面２７ａに対してガラス基板１７をＴ（Ｘ）軸方向に搬送し、また、ガラス基板１７を基板載置面２７ａに固定するものであり、基板吸着プレート２７には、エア噴出／吸着孔２８による基板移動機構と基板位置固定機構とが設けられていることになる。また、図５（ｃ）に示す状態にある塗布処理済みのガラス基板１７を搬出側搬送コンベア１８ｂ（図２）に搬送するときには、図５（ｃ）に示す状態から図５（ｂ）に示す状態に切り替えればよい。エア吸着孔２９でのエア吸着／停止やエア噴出孔３０でのエア噴出／停止は、電磁弁によって切り替え動作によって行なわれる。
【００７６】
なお、基板載置面２７ａにエア吸着孔２９とエア噴出孔３０とを別々に設けるようにしてもよいし、また、図５において、エア噴出／吸着孔２８にエア噴出孔３０のような傾斜したエア孔を連通し、このエア孔をエア吸着とエア噴出とに兼用するようにしてもよい。
【００７７】
この具体例では、図３に示す具体例のようなロール１６が不要となるし、基板載置部材１９を上下動させる駆動手段も不要となり、構成がより簡略化される。
【００７８】
図６は図１における塗布ヘッド８の一具体例の要部を拡大して示す斜視図であって、３１は塗布材収納筒、３２はノズル支持具、３３は距離計であり、前出図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００７９】
同図において、塗布材収納筒３１やノズル１４が設けられたノズル支持具３１及び距離計３３は、Ｚ軸移動テーブル１３（図２）に設けられている。
【００８０】
なお、ガントリ２ａの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材としてシール材が収納され、ガントリ２ｂの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材として導電性の液体が収納され、ガントリ２ｃの塗布ヘッド８では、塗布材収納筒３１に塗布材として液晶が収納されている。
【００８１】
距離計３３は、ノズル１４の先端部からワークテーブル６（図１）に搭載されているガラス基板１７の表面（上面）までの距離を非接触式の三角測距法で計測する。即ち、距離計３３の筐体内に発光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレーザ光はガラス基板１７上の計測点Ｓで反射し、同じくこの筐体内に設けられた受光素子で受光され、その受光位置に応じて計測される。また、ガラス基板１７上でのレーザ光の計測点Ｓとノズル１４の直下位置とは、ガラス基板１７上で僅かな距離ΔＸ及びΔＹだけずれているが、この僅かな距離程度のずれでは、ガラス基板１７の表面の凹凸の差が無視できる範囲なので、距離計３３の計測結果とノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離との間に差は殆ど存在しない。従って、この距離計３３の計測結果に基いてＺ軸移動テーブル１３（図２）を制御することにより、ガラス基板１７の表面の凹凸（うねり）に合わせてノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離（間隔）を一定に維持することができる。
【００８２】
このようにして、ノズル１４の先端部からガラス基板１７の表面（上面）までの距離（間隔）を一定に維持し、かつ、ノズル１４から吐出される単位時間当りの塗布材の量を定量に維持することにより、ガラス基板１７上に塗布描画されるパターンはその幅や厚さが一様になる。
【００８３】
なお、図示しないが、照明の可能な光源を備えた鏡筒と画像認識カメラは、各ノズル１４の平行調整や間隔調整用に使用される他、ガラス基板１７の位置合わせや塗布材の描画パターンの形状認識などのために、ガラス基板１７に対向するように設けられている。
【００８４】
図２に戻って、この実施形態では、以上の各部を制御する制御部を備えている。即ち、架台１の内部には、各機構の駆動を行なうリニアモータとテーブルを移動させるモータを制御する主制御部が設けられている。そして、この主制御部に、ケーブルを介して、副制御部が接続されている。副制御部は、Ｚ軸移動テーブル１３（図２）を駆動するＺ軸サーボモータを制御する。
【００８５】
図７はかかる主制御部の構成とその制御の一具体例を示すブロック図であって、３４ａは主制御部、３４ａａはマイクロコンピュータ、３４ａｂはモータコントローラ、３４ａｃは画像処理コントローラ、３４ａｄは外部インターフェース、３４ａｅはデータ通信バス、３４ａｆはガントリ移動用Ｘ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｘ軸ドライバと略称）、３４ａｇは塗布ヘッド部移動用Ｙ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｙ軸ドライバと略称）、３４ａｈはワークテーブル回転用θ軸モータ用ドライバ（以下、θ軸ドライバと略称）、３４ａｉはワークテーブル移動用Ｔ軸リニアモータ用ドライバ（以下、Ｔ軸ドライバと略称）、３４ｂは副制御部、３４ｃはハードディスク、３４ｄはＵＳＢ（ユニバーサル・シリアル・バス）メモリ、３４ｆはモニタ、３４ｇはキーボード、３５はレギュレータ、３６はバルブユニット、３７は画像認識カメラ、３８は通信ケーブルである。
【００８６】
同図において、主制御部３４ａは、マイクロコンピュータ３４ａａ、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３でのＹ軸方向移動機構を駆動するＹ軸ドライバ３４ａｇやガントリ２ａ〜２ｃのＸ軸方向移動機構を駆動するＸ軸ドライバ３４ａｆ，ガラス基板１７が搭載されたワークテーブル８（図１）をθ軸方向に駆動するθ軸ドライバ３４ａｈ，ワークテーブル６をＴ軸方向に駆動するＴ軸ドライバ３４ａｉを制御するモータコントローラ３４ａｂ、画像認識カメラ３７で得られる映像信号を処理する画像処理コントローラ３４ａｃ及び副制御部３４ｂや塗布ヘッド８（図１）のシール材などの塗布材の塗布動作を制御するレギュレータ３５，バルブユニット３６と通信を行なう外部インターフェース３４ａｄを内蔵しており、これらマイクロコンピュータ３４ａａとモータコントローラ３４ａｂと画像処理コントローラ３４ａｃと外部インターフェース３４ａｄとがデータ通信バス３４ａｅを介して相互に接続されている。また、副制御部３４ｂは、この外部インターフェース３４ａｄに通信ケーブル３８を介して接続されている。
【００８７】
また、主制御部３４ａには、ＵＳＢメモリ３４ｄや外部記憶装置であるハードディスク３４ｃ，モニタ３４ｆやキーボード３４ｇなどが接続されている。キーボード３４ｇから入力されたデータなどは、モニタ３４ｆで表示されるとともに、ハードディスク３４ｃやＵＳＢメモリ３４ｄなどの記憶媒体に記憶保管される。
【００８８】
マイクロコンピュータ３４ａａには、図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したＲＯＭ，主演算部での処理結果や外部インターフェース３４ａｄ，モータコントローラ３４ａｂからの入力データを格納するＲＡＭ，外部インターフェース３４ａｄやモータコントローラ３４ａｂとデータをやりとりする入出力部などを備えている。
【００８９】
Ｙ軸ドライバ３４ａｇで駆動される各塗布ヘッド８のＹ軸方向移動機構としてのリニアモータやＸ軸ドライバ３４ａで駆動されるガントリ２ａ〜２ｃ（図１）のＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂとしてのリニアモータは、各塗布ヘッド８やガントリ２ａ〜２ｃの位置を検出するリニアスケールが設けられており、その検出結果を夫々Ｙ軸ドライバ３４ａｇ，Ｘ軸ドライバ３４ａｆに供給して塗布ヘッド８のＹ軸方向，Ｘ軸方向の位置制御が行なわれる。また、同様にして、θ軸ドライバ３４ａｈで駆動されるワークテーブル６（図１）の回転駆動モータは、このガラス基板１７の回転量を検出するエンコーダが内蔵されており、その検出結果をθ軸ドライバ３４ａｈに供給してガラス基板１７の向きの制御が行なわれる。さらに、Ｔ軸ドライバ３４ａｉで駆動されるワークテーブル６のＴ軸方向移動機構としてのリニアモータは、このワークテーブル６の位置を検出するリニアスケールが設けられており、その検出結果を夫々Ｔ軸ドライバ３４ａｉに供給してワークテーブル６の位置制御が行なわれる。この位置制御により、ワークテーブル６は、図２で示す搬入されたガラス基板１７を搭載するための基板搬入側ａの位置や塗布処理されたガラス基板１７を搬出するための基板搬出側ｂの位置，Ａ位置，Ｂ位置，Ｃ位置での位置設定が行なわれる。
【００９０】
なお、図７では図示しないが、図３に示す構成のワークテーブル６に対するローラ１６ａ〜１６ｄの回転駆動機構，基板載置部材１９や基板位置決めピン２２ａ，２２ｂの上下動駆動機構も設けられており、これらもモータコントローラ３４ａｂによって制御される。
【００９１】
図８は図７における副制御部３４ｂの一具体例を示すブロック図であって、３４ｂａはマイクロコンピュータ、３４ｂｂはモータコントローラ、３４ｂｃは外部インターフェース、３４ｂｄはデータ通信バス、３９はＺ軸モータ用ドライバ（以下、Ｚ軸ドライバと略称する）であり、前出の図面に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【００９２】
同図において、副制御部３４ｂは、マイクロコンピュータ３４ｂａやモータコントローラ３４ｂｂ，距離計３３（図６）で得られる高さデータの入力や主制御部３４ａとの信号伝送を行なう外部インターフェース３４ｂｃを内蔵しており、これらはデータ通信バス３４ｂｄを介して相互に接続されている。また、マイクロコンピュータ３４ｂａには、図示しないが、主演算部や後述する塗布描画時のノズル１４（図２，図６）のガラス基板１７の表面からの高さ制御を行なうための処理プログラムを格納したＲＯＭ，主演算部での処理結果や外部インターフェース３４ｂｃ及びモータコントローラ３４ｂｂからの入力データを格納するＲＡＭ，外部インターフェース３４ｂｃやモータコントローラ３４ｂｂとデータをやりとりする入出力部などを備えている。モータコントローラ３４ｂｂによって制御されるＺ軸ドライバ３９は、塗布ヘッド８（図１）毎に設けられてそのＺ軸サーボモータを駆動するものであって、これらＺ軸サーボモータには、その回転量を検出するエンコーダが内蔵されており、その検出結果がＺ軸ドライバ３９に戻してノズル１４の高さ位置制御が行なわれる。
【００９３】
主制御部３４ａと副制御部３４ｂとの連携した制御のもと、各モータ（リニアモータやＺ軸サーボモータ，θ軸サーボモータなど）が、キーボード３４ｇ（図７）から入力されてマイクロコンピュータ３４ａａのＲＡＭに格納されているデータに基いて移動・回転することにより、Ｘ軸方向移動機構４ａ，４ｂがガントリ２ａ〜２ｃをＸ軸方向に任意の距離だけ移動させ、かつ、ノズル１４（図２）を上下に移動するＺ軸移動テーブル１３（図２）を介して、ガントリ２ａ〜２ｃの横梁３（図１）に設けられた塗布ヘッド８のＹ軸方向移動機構により、Ｙ軸方向に任意の距離だけ移動させ、その移動中、塗布材収納筒３１（図２）に設定した圧力で継続して加圧されてノズル１４の先端部の吐出口からシール材などの液状の塗布材が吐出され、ガラス基板１７にこの塗布材による所望のパターンが描画される。
【００９４】
ノズル１４がＹ軸方向へ水平移動中に、距離計３３がノズル１４とガラス基板１７の表面との間の間隔を計測し、これを常に一定の間隔を維持するように、ノズル１４の高さがＺ軸移動テーブル１３の上下移動で制御される。
【００９５】
副制御部３４ｂによるＺ軸方向の制御は、ガントリの機能毎に異なる。ガントリ２ａに取り付けた塗布ヘッド８はＺ軸方向の移動によってシール材の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動し、ガントリ２ｂでは、同様に、Ｚ軸方向の移動によって電極部となる打点塗布用の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動し、ガントリ２ｃでは、同様に、Ｚ軸方向の移動によって液晶滴下用の塗布ヘッド８のノズル１４を上下駆動する。
【００９６】
ガントリ２ａのシール材塗布用の塗布ヘッド８の例で説明すると、主制御部３４ａと副制御部３４ｂとの連携した制御のもと、各モータが、キーボード３４ｇから入力されてマイクロコンピュータ３４ａａのＲＡＭに格納されているデータに基いて、移動・回転することにより、ワークテーブル６（図１）に保持されたガラス基板１７をＸ軸方向に任意の距離を移動し、かつ、ノズル１４を上下に移動するＺ軸移動テーブル１３（図２）を介して支持したノズル１４（図２）を、ガントリ２ａ，２ｂをそのＸ軸方向移動機構４ａ，４ｂでＸ軸方向に移動させることにより、Ｘ軸方向に任意の距離だけ移動させ、その移動中、塗布材収納筒３１（図６）に設定した気圧が継続して印加されてノズル１４の先端部の吐出口から塗布材、即ち、シール材が吐出され、ガラス基板１７に塗布材の所望の描画パターンが塗布される。
【００９７】
ノズル１４のＸ軸方向へ水平移動中に、距離計３３（図６）でノズル１４とガラス基板１７との間隔を計測し、この間隔が常に一定に維持されるように、ノズル１４のＺ軸方向の位置をＺ軸移動テーブル１３の上下移動によって制御する。
【００９８】
図９は以上の第１の実施形態の全体動作の一具体例を示すフローチャートである。以下、図２などを参照して、この動作を説明する。
【００９９】
同図において、動作開始されると（ステップ１００）、まず、Ｔ軸ドライバ３４ａｉが動作して、ワークテーブル６を架台１の基板搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに移動させ、これと同時に、ガントリ２ｂ，２ｃを基板搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置寄りに退避させる（ステップ１０１）。次に、搬入側搬送コンベア１８ａからワークテーブル６へガラス基板１７を引き込みつつ、同時にガントリ２ａをガラス基板１７が位置決めされる位置、つまり、図２のＡ位置寄りに移動させる。ワークテーブル６の基板位置決めピン２２ａ，２２ｂ（図３，図４）で決まる所定の位置でガラス基板１７を仮位置決めし、エア吸着孔２１（図３），エア噴出／吸着孔２８（図４）によって吸着固定する（ステップ１０２）。
【０１００】
しかる後、画像認識カメラ３７（図７）でガラス基板１７上のマークを認識した後、位置決めし、θ軸ドライバ３４ａｈ（図７）によってワークテーブル６の下面に設けられているクロスローラ軸受２３やＸＹθ軸方向微動機構２４ａ〜２４ｄにより、θ軸方向の位置ずれを補正する（ステップ１０３）。
【０１０１】
位置ずれが正しく補正されると、Ｙ軸ドライバ３４ａｇ（図７）やＺ軸ドライバ３９（図８）を駆動することにより、ガントリ２ａでのＹ軸移動機構やＺ軸移動テーブル１３を動作させて、塗布ヘッド８のノズル１４（図６）の高さをパターンの描画高さに設定し、塗布ヘッド８でガラス基板１７上にシール材を塗布する（ステップ１０４）。
【０１０２】
シール材塗布処理後、ワークテーブル６をＸ軸ドライバ３４ａｆを動作させて架台１の中間位置、つまり、図２のＢ位置に移動させ、同時に、先にシール材塗布を終えたガントリ２ａを架台１の搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに退避させる（ステップ１０５）。
【０１０３】
次に、ガントリ２ｂを架台１の中間位置、つまり、図２のＢ位置寄りに移動させ、電極材の打点塗布を実行する（ステップ１０６）。打点材の塗布が終了すると、ワークテーブル６を架台１の搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置に移動させ、同時に、電極材の打点塗布処理を終えたガントリ２ｂを架台１の搬入側ａ寄り、つまり、図２のＡ位置寄りに退避させる（ステップ１０７）。
【０１０４】
次に、ガントリ２ｃを架台１の搬出側ｂ寄り、つまり、図２のＣ位置寄りに移動させ、シール材で囲まれた内部に液晶を滴下塗布する（ステップ１０８）。
【０１０５】
これで一連の塗布動作が終了し、ワークテーブル６から搬出側搬送コンベア１８ｂへガラス基板１７が移される（ステップ１０９）。
【０１０６】
そして、以上の全工程を停止するか否かを判定し（ステップ１１１０）、全てのガラス基板１７についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了して動作が停止する（ステップ１１１）。
【０１０７】
ところで、以上の第１の実施形態では、１つのガントリに６個の塗布ヘッド８を設置しており、リニアモータによるこれら塗布ヘッド８のためのＹ軸方向移動機構によってガントリの横梁３上をその長手方向（Ｙ軸方向）に移動できる構造としているものである。このＹ軸方向移動機構によって塗布ヘッド８の停止位置を変えることにより、外形２〜３（ｍ）角サイズの１枚の大型のガラス基板１７から複数枚のパネルを製作する時の塗布に対応できるようにしている。
【０１０８】
なお、この実施形態では、各ガントリ２ａ〜２ｃに６個ずつ塗布ヘッド８を設置し、同じガントリ、例えば、ガントリ２ａの６個の塗布ヘッド８は全てシール材塗布用としているが、使用状況に応じて、ガントリ２ａの６個の塗布ヘッド８とガントリ２ｂの６個の塗布ヘッド８との計１２個の塗布ヘッド８を全てシール材塗布用として、あるいは打点材塗布用として用いるなどの選択も可能である。
【０１０９】
また、この実施形態では、同じガントリに設けられている塗布ヘッド８は、全て同じ塗布材をガラス基板１７上に塗布するものとしたが、同じガントリに異なる種類の塗布材を塗布する塗布ヘッドを設け、そのガントリに異なる機能をもたせるようにしてもよい。例えば、ガントリ２ａにおいて、６個の塗布ヘッド８の内の３個の塗布ヘッド８がシール材を吐出する塗布ヘッドとし、残りの３個の塗布ヘッド８が電極材を吐出する塗布ヘッドとして、このガントリ２ａにシール材の塗布機能と電極材の塗布機能との２つの異なる機能を持たせるようにすることもできる。また、このことからして、基台１上にガントリを１台のみ設け、このガントリに、同様にして、シール材の塗布機能、電極材の塗布機能及び液晶の滴下塗布機能を持たせるようにすることもできる。
【０１１０】
さらに、ガントリ２ａに設置した６個の塗布ヘッド８を休止させて、ガントリ２ａごと一方のストロークエンド側に退避させ、２つのガントリ２ｂ，２ｃの塗布ヘッド８を活用することも可能であり、テーチング・データとして設定し、臨機応変に活用することもできる。
【０１１１】
この第１の実施形態によると、複数材料の塗布、例えば、シール材塗布や導通用打点塗布，液晶滴下塗布を共通のワークテーブル６で行なうものであって、これにより、あたかも３つの機能が１つの装置内に集約して実現できるようになる。
【０１１２】
図１０は本発明による塗布装置及び塗布方法の第２の実施形態の全体構成を概略的に示す構成図であって、４０は耐圧カバー、４１ａは基板搬入ゲート、４１ｂは基板搬出ゲート、４２は吸引ブロア、４３は配管であり、図２に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。
【０１１３】
同図において、この第２の実施形態は、架台１上のワークテーブル６とガントリ２ａ〜２ｃが移動する範囲を剛性のある耐圧カバー４０で覆い、この耐圧カバー４０の基板搬入側ａに搬入側搬送コンベア１８ａから耐圧カバー４０内にガラス基板１７を搬入してワークテーブル６上に載置するための基板搬入ゲート４１ａと、耐圧カバー４０の基板搬出側ｂに塗布処理済みのガラス基板１７を耐圧カバー４０内のワークテーブル６から外部に搬出して搬出側搬送コンベア１８ｂに載置するための基板搬出ゲート４１ｂとが設けられており、これらゲート４１ａ，４１ｂは開閉可能であって、ガラス基板１７が搬入のために、また、搬出のために通過するときのみ、開放される。
【０１１４】
また、耐圧カバー４０の内部は配管４３を通してエア吸引手段としての吸引ブロア４２に接続しており、この吸引ブロア４２により、耐圧カバー４０の内部が大気圧力よりも低い圧力の環境に設定されている。このように、内部を大気圧力よりも低い圧力の環境とすることにより、空気の密度が低下し、ワークテーブル６やガントリ２ａ〜２ｃといった構造物の移動によって巻き上がるダストの同伴能力が低下する。このことは、大気圧環境下に比べて、小さいダストしか巻き上がらず、さらには、巻き上がるダストの量が少量となり、クリーンな環境となったことで製造するパネルの歩留まりがより向上することにつながる。
【０１１５】
なお、塗布処理時間との兼ね合いにもよるが、耐圧カバー４０の内部の圧力をさらに下げて高真空にする場合には、吸引ブロア４２に代えて、真空ポンプを用いて吸引してもよい。
【０１１６】
以上の構成以外については、先の第１の実施形態と同様であり、その動作も図９で表わされることになる。
【０１１７】
以上のように、上記の各実施形態では、複数の機能を有する複数台の装置（ガントリ）を並べ、これら装置を移動可能とするとともに、ガラス基板が載置されたワークテーブルが装置によって塗布処理が行なわれる位置まで移動するものであるから、共通の１台のロボットや装置間に設置した複数台のロボットを使って対象ワークとなるガラス基板の受け渡しを行なうロボット搬送による基板の受け渡しを行なう必要がなく、また、ガラス基板の動線（移動ライン）を短縮することよって、第１に、ガラス基板の搬送時のパーティクル汚染を低減できて、液晶パネルの製造時の部留りが向上し、第２に、設置面積を縮小できてクリーンルームの有効活用が図れる。
【０１１８】
なお、以上の実施形態では、液晶パネルの作成のための塗布処理を例としたものであるが、これのみに限るものではない。従って、塗布処理される基板も、ガラス基板とは限らないものである。
【符号の説明】
【０１１９】
１ 架台
２ａ〜２ｃ ガントリ
３ 横梁
４ａ，４ｂ Ｘ軸方向移動機構
５ａ，５ｂ リニアレール
６ ワークテーブル
７ リニアレール
８ 塗布ヘッド
９ カバー
１０ 基板搬入口
１１ 基板搬出口
１３ Ｚ軸移動テーブル
１４ ノズル
１５，１５ａ〜１５ｅ 基板吸着プレート
１６，１６ａ〜１６ｄ ローラ
１７ ガラス基板
１８ａ 搬入側搬送コンベア
１８ｂ 搬出側搬送コンベア
１９ 基板載置部材
２０ａ〜２０ｄ 連結部材
２１ エア吸着孔
２２ａ，２２ｂ 基板位置決めピン
２３ クロスローラ軸受
２４ａ〜２４ｄ ＸＹθ軸方向微動機構
２５ クロスローラ軸受
２６ 直交軸受
２７ 基板吸着プレート
２７ａ 基板載置面
２７ｂ 前側面
２８ エア噴出／吸着孔
２９ エア吸着孔
３０ エア噴出孔
３４ａｆ ガントリ移動用Ｘ軸リニアモータ用ドライバ
３４ａｇ 塗布ヘッド部移動用Ｙ軸リニアモータ用ドライバ
３４ａｈ ワークテーブル回転用θ軸モータ用ドライバ
３４ａｉ ワークテーブル移動用Ｔ軸リニアモータ用ドライバ
３４ｂ 副制御部
３９ Ｚ軸モータ用ドライバ
４０ 耐圧カバー
４１ａ 基板搬入ゲート
４１ｂ 基板搬出ゲート
４２ 吸引ブロア
４３ 配管
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布材を充填した材料収納筒と該塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドを移動可能に設けられたガントリが１または複数台架台上に設置され、該架台上に設置された基板載置テーブルに搭載された基板に対して該ガントリが移動し、該ガントリに対して該塗布ヘッドが移動することにより、該基板に対して該塗布ヘッドが移動し、該ノズル吐出口から該基板上に該塗布材を吐出させる塗布装置において、
外部から該基板載置テーブルへの該基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ該基板載置テーブルから外部への該基板の搬出は、該基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、
該基板載置テーブルを、搬入側搬送コンベアから搬入された該基板が載置される位置から該基板を該搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、該基板を載置した状態で、移動させる第１の移動機構と、
該基板載置テーブルに載置された該基板を回動させる第２の移動機構と
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記架台上に複数台の前記ガントリが設置され、
複数台の前記ガントリのうちのいずれかの前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドは、他の前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドとは異なる種類の前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
同じ前記ガントリに設けられている前記複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの前記塗布ヘッドと他の前記塗布ヘッドとは、種類が異なる前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１，２または３において、
前記基板載置テーブルは、
前記基板載置テーブル上で前記基板を一方向に移動させるローラによる基板移動手段と、
前記基板載置テーブル上で前記基板を吸着し、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する基板位置固定手段と
を備えたことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項５】
請求項１，２または３において、
前記基板載置テーブルは、
前記基板載置テーブル上で前記基板にエアを吹き付けることによって前記基板を一方向に移動させる基板移動手段と、
前記基板載置テーブル上で前記基板を吸着し、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する基板位置固定手段と
を備えたことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つにおいて、
前記架台上の前記基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、該耐圧カバーで覆われた内部をエア吸引手段で大気圧よりも低い気圧に設定し、該低い気圧の環境内で前記ガントリの前記塗布ヘッドで前記基板載置テーブルに載置された前記基板への塗布動作を行なうことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項７】
塗布材料を充填した塗布材収納筒と該塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドが移動可能に設けられたガントリが１または複数台で架台上に設置され、該架台上に設置された基板載置テーブルに載置された基板に対して該ガントリが移動し、該ガントリに対して該塗布ヘッドが移動することにより、該基板に対して該塗布ヘッドが移動し、該ノズル吐出口から該基板上に該塗布材を吐出させる塗布方法において、
外部から該基板載置テーブルへの該基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ該基板載置テーブルから外部への該基板の搬出は、該基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、
該基板載置テーブルは、搬入側搬送コンベアから搬入された該基板が載置される位置から該基板を該搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、該基板を載置した状態で、移動し、
該基板載置テーブルに載置された該基板を回動させてθ軸ずれを補正する
ことを特徴とする塗布方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記架台上に複数台の前記ガントリが設置され、
複数台の前記ガントリのうちのいずれかの前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドは、他の前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドとは異なる種類の前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布方法。
【請求項９】
請求項７または８において、
同じ前記ガントリに設けられている前記複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの前記塗布ヘッドと他の前記塗布ヘッドとは、種類が異なる前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布方法。
【請求項１０】
請求項７，８または９において、
前記基板載置テーブル上で前記基板をローラによる基板移動手段で一方向に移動させて前記基板載置テーブル上での前記基板の位置決めを行ない、
位置決めされた前記基板を吸着して、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する
ことを特徴とするとする塗布方法。
【請求項１１】
請求項７，８または９において、
前記基板載置テーブル上で前記基板にエアを吹き付けることにより、前記基板を一方向に移動させて前記基板載置テーブル上での前記基板の位置決めを行ない、
位置決めされた前記基板を吸着して、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する
ことを特徴とするとする塗布方法。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか１つにおいて、
前記架台上の前記基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、該耐圧カバーで覆われた内部を大気圧よりも低い気圧に設定し、該低い気圧の環境内で前記ガントリの前記塗布ヘッドで前記基板載置テーブルに載置された前記基板への塗布動作を行なうことを特徴とするとする塗布方法。
【請求項１】
塗布材を充填した材料収納筒と該塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドを移動可能に設けられたガントリが１または複数台架台上に設置され、該架台上に設置された基板載置テーブルに搭載された基板に対して該ガントリが移動し、該ガントリに対して該塗布ヘッドが移動することにより、該基板に対して該塗布ヘッドが移動し、該ノズル吐出口から該基板上に該塗布材を吐出させる塗布装置において、
外部から該基板載置テーブルへの該基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ該基板載置テーブルから外部への該基板の搬出は、該基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、
該基板載置テーブルを、搬入側搬送コンベアから搬入された該基板が載置される位置から該基板を該搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、該基板を載置した状態で、移動させる第１の移動機構と、
該基板載置テーブルに載置された該基板を回動させる第２の移動機構と
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記架台上に複数台の前記ガントリが設置され、
複数台の前記ガントリのうちのいずれかの前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドは、他の前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドとは異なる種類の前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
同じ前記ガントリに設けられている前記複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの前記塗布ヘッドと他の前記塗布ヘッドとは、種類が異なる前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１，２または３において、
前記基板載置テーブルは、
前記基板載置テーブル上で前記基板を一方向に移動させるローラによる基板移動手段と、
前記基板載置テーブル上で前記基板を吸着し、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する基板位置固定手段と
を備えたことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項５】
請求項１，２または３において、
前記基板載置テーブルは、
前記基板載置テーブル上で前記基板にエアを吹き付けることによって前記基板を一方向に移動させる基板移動手段と、
前記基板載置テーブル上で前記基板を吸着し、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する基板位置固定手段と
を備えたことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つにおいて、
前記架台上の前記基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、該耐圧カバーで覆われた内部をエア吸引手段で大気圧よりも低い気圧に設定し、該低い気圧の環境内で前記ガントリの前記塗布ヘッドで前記基板載置テーブルに載置された前記基板への塗布動作を行なうことを特徴とするとする塗布装置。
【請求項７】
塗布材料を充填した塗布材収納筒と該塗布材収納筒からの塗布材料を吐出するノズル吐出口とを備えた１または複数の塗布ヘッドが移動可能に設けられたガントリが１または複数台で架台上に設置され、該架台上に設置された基板載置テーブルに載置された基板に対して該ガントリが移動し、該ガントリに対して該塗布ヘッドが移動することにより、該基板に対して該塗布ヘッドが移動し、該ノズル吐出口から該基板上に該塗布材を吐出させる塗布方法において、
外部から該基板載置テーブルへの該基板の搬入は、搬入側搬送コンベアから搬入高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行なわれ、かつ該基板載置テーブルから外部への該基板の搬出は、該基板載置テーブルから搬出側搬送コンベアに搬出高さを該基板載置テーブルでの基板載置面と同じ高さに維持した状態で行われ、
該基板載置テーブルは、搬入側搬送コンベアから搬入された該基板が載置される位置から該基板を該搬出搬送コンベアに搬出する位置まで、該基板を載置した状態で、移動し、
該基板載置テーブルに載置された該基板を回動させてθ軸ずれを補正する
ことを特徴とする塗布方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記架台上に複数台の前記ガントリが設置され、
複数台の前記ガントリのうちのいずれかの前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドは、他の前記ガントリに設けられている前記塗布ヘッドとは異なる種類の前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布方法。
【請求項９】
請求項７または８において、
同じ前記ガントリに設けられている前記複数の塗布ヘッドのうちのいずれかの前記塗布ヘッドと他の前記塗布ヘッドとは、種類が異なる前記塗布材を前記基板上に吐出することを特徴とする塗布方法。
【請求項１０】
請求項７，８または９において、
前記基板載置テーブル上で前記基板をローラによる基板移動手段で一方向に移動させて前記基板載置テーブル上での前記基板の位置決めを行ない、
位置決めされた前記基板を吸着して、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する
ことを特徴とするとする塗布方法。
【請求項１１】
請求項７，８または９において、
前記基板載置テーブル上で前記基板にエアを吹き付けることにより、前記基板を一方向に移動させて前記基板載置テーブル上での前記基板の位置決めを行ない、
位置決めされた前記基板を吸着して、前記基板載置テーブル上で前記基板を位置固定する
ことを特徴とするとする塗布方法。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか１つにおいて、
前記架台上の前記基板載置テーブルの移動範囲を耐圧カバーで覆い、該耐圧カバーで覆われた内部を大気圧よりも低い気圧に設定し、該低い気圧の環境内で前記ガントリの前記塗布ヘッドで前記基板載置テーブルに載置された前記基板への塗布動作を行なうことを特徴とするとする塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−２８４５８０（Ｐ２０１０−２８４５８０Ａ）
【公開日】平成２２年１２月２４日（２０１０．１２．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１３９４３０（Ｐ２００９−１３９４３０）
【出願日】平成２１年６月１０日（２００９．６．１０）
【出願人】（０００００５４５２）株式会社日立プラントテクノロジー (1,767)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月２４日（２０１０．１２．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年６月１０日（２００９．６．１０）
【出願人】（０００００５４５２）株式会社日立プラントテクノロジー (1,767)
【Ｆターム（参考）】
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