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Fターム[4F041AA16]の内容

塗布装置−吐出、流下 (28,721) | 被塗物あるいは塗布部位 (7,419) | 特定部位 (651)

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【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
xyz直交座標系を定義したとき、z方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがy方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のy方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 (もっと読む)


【課題】吐出ヘッド52に収容されるペーストPの材料の凝集に起因した吐出孔5204の目詰まりを抑制しつつ、吐出孔5204から吐出されるペーストPの粘性を抑えて、吐出孔5204からのペーストPのスムーズな吐出を可能とする。
【解決手段】シリンジポンプ520内部に収容される塗布液Pを冷却する水冷管521と、水冷管521により冷却された塗布液Pを吐出孔5206から吐出される前に加熱する加熱素子522とを備える。したがって、吐出ヘッド52に収容される塗布液Pの材料の凝集に起因した吐出孔5206の目詰まりが抑制されるとともに、吐出孔5206から吐出される塗布液Pの粘性が抑えられて、吐出孔5206からの塗布液Pのスムーズな吐出が可能となっている。 (もっと読む)


【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板10上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板10が載置され、少なくとも180度回転可能な回転テーブル32と、基板10の中心を通る第1の方向(X方向)軸で2分割された第1の基板周辺領域及び第2の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板10の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部50と、基板10と樹脂膜形成ヘッド部50を相対的に、第1の方向とは直交する第2の方向(Y方向)に移動させる移動機構45とを備えた。 (もっと読む)


【課題】インクジェットヘッドが有するインク室構成部材において、製造時の作業性に優れ、かつひずみの少ないインク室構成部材を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドにおいてインクを収容するインク室となる穴を有するインク室構成部材を、プレート113A〜113Cの積層体の熱拡散接合によって接合して形成するにあたり、前記プレートの短手方向に細長く開口する第一の長穴210と、長手方向の両端部において長手方向に細長く開口する第二の長穴221、222とを前記プレートに形成し、これらの長穴に位置決めピンを挿通されている前記プレートの積層体を形成し、位置決めされている状態で前記プレートを熱拡散接合によって接合してインク室構成部材を形成する。 (もっと読む)


【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】個々の構成成分が不用意に分配あるいは混合されることを回避し、閉塞部材が開位置及び閉塞位置との間で自由に動くことができる分配装置を提供する。
【解決手段】複合成分素材を混合及び分配するための分配装置であって、複数のチャンバ2,3を有した複合成分カートリッジ1と、長手軸線を有したミキサー部材と、ミキサー部材の上に配置可能なミキサーハウジング10とを備える。各チャンバはミキサーハウジング10に固定された閉塞部材によって閉塞可能な分配開口を有する。ミキサーハウジング10は接続部材によってカートリッジ1に軸方向移動可能に接続されている。接続部材は回転部材20であり、該回転部材20、ミキサーハウジング10、及びカートリッジ1が、回転部材20の回転によってミキサーハウジング10とカートリッジ1との間に軸線方向の相対移動が生じるよう構成された協働作用部材を有する。 (もっと読む)


【課題】基材の左右方向の脈動を抑え、良好な両面同時塗布を行うこと。
【解決手段】基材Sを送出方向に搬送する送出機構20と、基材Sの表面S1側に配置され、塗液Dを送出方向に交差する向きに塗布領域Saと非塗布領域Sbとを交互に形成して塗液Dを塗布する第1塗布ヘッド31と、基材Sの裏面S2側に配置され、塗液を送出方向に交差する向きに塗布領域Saと非塗布領域Sbとを交互に形成して塗液を塗布する第2塗布ヘッド41と、基材Sの表面S1側で且つ第2塗布ヘッド41の基材Sを挟んだ対向する位置近傍に配置され、軸方向に沿った両端部に大径の第1ローラ、これら第1ローラの間に設けられた小径の第2ローラ、これら第1ローラと第2ローラを一体、かつ、同軸で連結する軸体を有する塗工ロール50とを備えた。 (もっと読む)


【課題】吐出量の変化を高精度に補正し、塗布形状ないしフィレット形状を安定させることができる塗布方法、塗布装置およびプログラムの提供。
【解決手段】毛細管現象を利用して吐出装置から吐出した液体材料を充填する液体材料の塗布方法であって、連続した複数の塗布領域からなる塗布パターン作成工程と、一の吐出パルスに複数の休止パルスを所定の比率で組み合わせたサイクルを複数作成し、各塗布領域に割り当てる工程と、各塗布領域について割り当てられたサイクルで塗布を実施する工程と、予め設定した補正周期で、補正周期の時点における吐出量を計測し、吐出量の補正量を算出する補正量算出工程と、補正量算出工程で算出した補正量に基づき、1以上のサイクルについて、一の吐出パルスに対する休止パルスの比率を調整する工程と、を含み、休止パルスの長さを吐出パルスの長さと比べ充分に短く設定した液体材料の塗布方法並びに装置及びプログラム。 (もっと読む)


【課題】ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する塗布液の塗布
の際に、ノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。
【解決手段】吐出口16aから塗布液を吐出するノズル16と、前記ノズル16の待機期間において前記ノズル16内の流路が前記塗布液から前記塗布液の溶剤Tに置換された状態で保持するメンテナンス手段26とを具備し、前記メンテナンス手段26は、前記ノズル16に前記溶剤Tを供給する溶剤供給手段33,34と、前記ノズル16の吐出口16aとの間に所定の間隙を形成する液保持板28の液保持面28aと、この液保持面28aを洗浄する液保持面洗浄手段51とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板表面の微細領域に安定して液体を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】この塗布装置では、ノズル1の内部にインク2を注入し、ノズル1に固定した歪センサ3の出力信号に基づいてノズル1の先端が基板4の表面に接触したか否かを判別する。制御部5は、Zステージ7を制御してノズル1を基板4の方向に移動させ、ノズル1の先端が基板4の表面に接触したことに応じてノズル1を停止させ、ノズル1の先端のインク2を基板4の表面に塗布する。したがって、ノズル1の先端径と略同じ径のインク層2aを塗布できる。 (もっと読む)


【課題】基板表面が帯電している場合でも、簡単な構成で欠陥部を正確に修正することが可能なパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置の加湿ユニット8は、インクジェットノズル1の先端部が挿入される円筒状の中空容器9と、中空容器9の内壁に設けられ、加湿用の水の吸収および放出が可能な加湿部材10とを含む。加湿部材10から放出された水の蒸気は、欠陥部7aおよびその近傍に供給される。したがって、基板5表面が帯電している場合でも、欠陥部7aおよびその近傍の静電気を局部的に除去できる。 (もっと読む)


【課題】 高精度に描画を行う。
【解決手段】 保持対象物を保持するステージと、ステージに保持された保持対象物に向けて液滴を吐出する、第1の吐出ヘッド、及び、第2の吐出ヘッドを備える吐出ヘッドユニットとを有し、ステージは、吐出ヘッドユニットとの間で、相対的に第1の方向に移動可能に保持対象物を保持し、更に、第1及び第2の吐出ヘッドから吐出され、ステージに保持された保持対象物に着弾した液滴を検出する検出器と、検出器による検出結果に基づいて、第1の吐出ヘッドと第2の吐出ヘッドとの間の第1の方向と平行な方向に沿う相対位置関係を把握し、把握した相対位置関係を加味して、ステージに保持された保持対象物と吐出ヘッドユニットとの間の相対的な移動、及び、第1及び第2の吐出ヘッドからの液滴の吐出を制御する制御装置とを含む描画装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】液滴吐出ヘッドや液滴吐出ヘッドを洗浄する洗浄機構に残留する汚れを好適に解消できる液滴吐出装置およびその洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置は、液滴吐出方式によるカラーフィルターの製造に用いられ、着色剤と樹脂材料と前記着色剤を溶解または分散する液性媒体とを含むカラーフィルター用インクを吐出する液滴吐出装置であって、この液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドに対して相対的に接離自在に設けられ、接触時に前記吐出部を気密的に覆う凹部を備えた洗浄ヘッドと、凹部内の媒体を吸引する吸引手段と、液滴吐出ヘッドの洗浄に用いる洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽と、洗浄液貯留槽から洗浄ヘッドの凹部内へ洗浄液を送液するための洗浄液搬送路と、を有することを特徴とする。液滴吐出ヘッドは、洗浄ヘッドの凹部内に送液された洗浄液によって洗浄される。 (もっと読む)


【課題】比較的少量のホットメルト剤を対象物に塗布する場合でも、糸ひきや接着不良のない高品質の塗布を行うことができるホットメルト塗布方法およびその装置を提供する。
【解決手段】ホットメルト剤を加熱して溶融させ、基板901、902のホットメルト剤800を塗布する塗布箇所を予備加熱し、基板901、902の予備加熱された塗布箇所に対して、加熱溶融されたホットメルト剤をノズル151から吐出させる。ノズルから吐出させて基板に塗布するホットメルト剤800の量、基板901、902の種類、及びホットメルト剤800の種類の少なくとも一つに基づいて、前記予備加熱の有無又は前記予備加熱の温度の設定を変更してもよい。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式を用いた微細パターンの形成におけるパターンのにじみが防止され、好ましい微細パターン形成が実現されるパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基板(10)のパターン形成面(10A)に形成されるパターン(12)に対応して、パターンの幅方向の両側の外縁を含む処理対象領域に対して、当該パターンを構成するドット(26)の直径未満の幅を有する光線(20)を照射して、当該処理対象領域に改質処理が施される改質処理工程と、改質処理が施された処理対象領域を含むパターンが形成される領域に対してインクジェット方式により機能性液体が打滴される打滴工程と、を含むことを特徴とする。改質処理の露光解像度はドット解像度の10倍以上とする態様が好ましい。また、改質処理中の基板に対して反応ガスを供給する反応ガス供給工程を含む態様が好ましい。 (もっと読む)


【課題】微少量の液体の噴射、吐出、分注、輸送等の制御が容易で、小型化を図るのに有効な液体供給装置を提供する。
【解決手段】中空部を有し、外部からの磁界により変形振動する中空磁歪素子12の中空内周面に管体11の外周面が密着するように当該管体11を中空磁歪素子12に保持した中空磁歪振動子を用いた。磁歪素子12の外周側にコイル13を巻き、このコイル13に電流を流すと磁歪材料の磁歪縦効果によりコイル13と並行な方向に伸長し、コイル13と直交する方向は磁歪横効果により収縮するので、中空部の内径も同時に収縮する。従って、中空部に挿入されている管体11に収縮力が作用し、その力により管体内部に充填された液体が管体の先端部11aより吐出することになる。 (もっと読む)


【課題】基板表面に対して相対移動するノズルからパターン形成材料を含む塗布液を塗布して、基板上に所定のパターンを形成するパターン形成技術において、パターン幅および端部位置の安定したパターンを形成する。
【解決手段】基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置X1よりも内側の位置X0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値G0にして塗布液の吐出を開始する。その後、ノズルを基板から離間させながら基板外側に向けて移動させ、パターン始端位置X1で移動方向を反転させる。終端近傍においても、塗布液の吐出量を低下させながらノズルを基板に近接させてゆき、パターン終端位置X3においてノズルを離間させるとともに移動方向を反転させる。 (もっと読む)


【課題】コーキング工事で使用後、ノズルにシール材が残って硬化することを防止する構造を提供する。
【解決手段】密閉すべく、ノズルの中に養生シートを取り付ける。 (もっと読む)


【課題】ヘッドのノズル面に残留する微細液晶の効率的な除去を実現する。
【解決手段】本発明の処理液吐出装置では、ヘッドのノズル面を洗浄するヘッド洗浄ユニットにて、ヘッドのノズル面に残留する微細液晶を効率的に除去できるように、残留する液晶に気体を噴射してサクションノズル方向に押し出す噴射ノズルを1つ又は複数個設ける。更に、噴射ノズルとサクションノズルとの間隔を調節するための水平駆動部材や、噴射ノズルの吐出口の高さを調節するための昇降部材や、噴射ノズルの吐出口の噴射圧力を調節するためにの圧力調節手段を設ける。 (もっと読む)


【課題】ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。
【解決手段】スリット状の吐出口16aから処理液を吐出するノズル16と、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤Tに置換された状態で保持するメンテナンス手段26とを具備し、前記ノズルの吐出口から基板Gに処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置1であって、前記メンテナンス手段は、前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段33,34と、前記ノズルの吐出口との間に所定の間隙を形成する液保持面28aとを有し、前記待機期間において、前記ノズルは、前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面T1は、前記ノズルの外面に形成される。 (もっと読む)


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