【課題】密着性及び良好な視野角特性を両立した光学機能材料（特に、光学補償シート）を提供すること。該光学補償シートを偏光膜の少なくとも一方に配置した偏光板、および該光学補償シートを具備した表示品位の高い液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に配向膜を形成した後に、その上に液晶性化合物を含む液晶層塗布液を塗布して液晶層を形成してなる光学機能材料において、配向膜上に気相法による表面処理を施してから後に液晶層塗布液を塗布して形成されたことを特徴とする光学機能材料。 （もっと読む）

【課題】 光触媒インクを使用することによって生じる製造コストの増加を抑止する。
【解決手段】 所定の波長の光に照射されることによって活性化される光触媒インクＸの保管装置であって、上記光触媒インクＸを貯留する容器１と、上記容器１内に貯留された上記光触媒インクＸに対して上記所定の波長の光を照射する光源装置２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 液滴吐出装置を用いて良好なべた状パターンを形成すること。
【解決手段】 複数のノズルを備えたヘッドに対して、表面を第１の方向に相対移動させながら前記複数のノズルから液滴を吐出する液滴吐出装置が用いられる場合に、層形成方法は、前記表面上の２つの基準領域のそれぞれに第１の液滴をそれぞれ配置して、前記２つの基準領域に対応して孤立した２つのパターンを設ける第１の工程と、前記２つのパターンを固定する第２の工程と、前記第２の工程の後で、前記表面を親液化する第３の工程と、前記第３の工程の後で、前記２つの基準領域の間に第２の液滴を配置して、前記２つのパターンを繋げる第４の工程と、を包含している。 （もっと読む）

【課題】迅速かつ高精度に親疎水パターニングを行い、親疎水パターニングに伴う費用的負担を軽減することを可能とする親疎水パターニング装置等を提供する。
【解決手段】親疎水パターニング装置１は、ＵＶ照射ヘッド９の角度調整及び横方向位置調整により、ＵＶ照射ヘッド９の照射口２９の位置を親疎水パターンに合わせる。親疎水パターニング装置１は、Ｘ方向移動機構１１、Ｙ方向移動機構１３、θ方向回転機構１５を制御し、基板３とＵＶ照射ヘッドユニット７との相対的位置決めを行う。親疎水パターニング装置１は、ＵＶ照射ヘッド９から基板３の表面に形成された光親疎水膜に向けて所定の位置にＵＶ光照射を行う。ＵＶ光が照射された領域は新疎水性が変化して親水性領域となり、ＵＶ光が照射されない領域は疎水性領域となり、親疎水パターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反応活性種等の化学種を利用することにより、簡便に膜を形成することができる製膜方法、あるいはパターニング方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明は、少なくとも１つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して基体上に前記化学種からなる複数の膜を配置する製膜方法を提供する。本発明は少なくとも１つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して前記化学種からなる複数の膜を配置するパターニング方法を提供する。また、本発明は、前記製膜方法又はパターニング方法を使用する電子装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 誘電率と被膜強度を表わすヤング率とに優れたシリカ系被膜、特に、比誘電率が２．７以下と小さく、さらに被膜強度を表わすヤング率が半導体配線層作製プロセスに耐えうるだけの強度特性を備えたシリカ系被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 （ｉ）シリカ系被膜形成用塗布液を基板上に塗布し、（ｉｉ）塗布後の基板を加熱処理し、（ｉｉｉ）加熱後の基板に、ケイ素の不対電子を安定化できる物質を含む雰囲気中で活性エネルギー線を照射して、シリカ系被膜を得る。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、発光素子間
の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制することがで
きる電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板２上に第１バンクＢ１と第２バンクＢ２からなるバンクＢを形
成し、その第１バンクＢ１によって形成された凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能液滴
及び発光有機材料を含む機能液滴を吐出し、有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する。
このとき、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴を凹部９に
吐出する前に、第２バンクＢ２に撥液性を付与するためのＣＦ４プラズマ処理を行う。さ
らに、ＣＦ４プラズマ処理によって結合された撥液性官能基Ｆを親液性であるＯＨ基に置
換して親液性にするための水蒸気処理を所定時間行う。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性基材の静電塗装方法でありながら、静電塗装前に電気絶縁性基材に対して予め導電性処理を施すことなく、静電塗装の際の火災原因となるといった問題を十分に解決することができるとともに、塗料の付着性を十分に向上させることができ、しかも塗装廃棄物の量を低減させて環境負荷の低減を図りながら電気絶縁性基材に対して効率よく確実に塗装を施すことが可能な電気絶縁性基材の静電塗装方法を提供すること。
【解決手段】表面固有抵抗値が１０^９Ω以上の電気絶縁性基材１の被塗装面の一部を接地する工程と、該被塗装面に対して導電性塗料２０を静電塗装する工程とを含むことを特徴とする電気絶縁性基材の静電塗装方法。 （もっと読む）

【課題】 基板の塗布不要領域に付着物を残さずに基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板上に塗布液を塗布するとき、基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に塗布液が不溶となる不溶液を供給して、その塗布不要領域上にその不溶液の液膜を生成する。次に、液膜が形成された後の基板の塗布面上に塗布液を塗布する。そして、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。 （もっと読む）

【課題】 新規かつ簡便な撥水パターン構造物の製造方法、及び該撥水パターン構造物の製造方法により製造された高い撥水性を有する撥水パターン構造物の提供。
【解決手段】 撥水性化合物を含む液中で、光の照射により突起を形成可能な突起形成性層を有する突起形成材料の該突起形成性層に対しパターン状に光照射を行い、少なくとも露光領域に前記撥水性化合物が直接化学的に結合した突起形状物を形成する突起形成工程を含む撥水パターン構造物の製造方法、及び、該撥水パターン構造物の製造方法により製造された撥水パターン構造物である。 （もっと読む）

【課題】位相差値の経時変化が小さく、斜め方向についても優れた特性を有する、広帯域かつ広視野角の光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、およびそのような方法で得られた光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の表面に配向処理を施す工程と、該基材の該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する工程と、該液晶組成物中の液晶材料を該基材の配向方向に応じて配向させて、第１の複屈折層を形成する工程と、該第１の複屈折層を、（該液晶材料の液晶転移温度＋２０℃）以上の温度で０．５時間以上エージングする工程と、該基材表面に形成された該第１の複屈折層を透明保護フィルム（Ｔ）の表面に転写する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、光分解性薄膜の光分解効率を上昇させ、比較的短時間の露光により、十分に光分解させることによって、基板表面の濡れ性を効率よく制御する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、光分解性薄膜（１００）に被覆された基板（１０）表面の一部に光照射する露光工程を含み、該光照射で光分解性薄膜（１００）を分解し、基板（１０）表面に所定の濡れ性を付与する官能基（１４）を露出させることによって、基板（１０）表面の濡れ性を制御する方法であって、前記露光工程は、光分解性薄膜（１００）を加熱しながら行う、濡れ性制御方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】金属基板層上に設けられたフッ素樹脂被膜層を傷めず、該フッ素樹脂被膜層と金属基板層との接着性を損なうことなく、該フッ素樹脂被膜層表面に表示層を設けた、トップコート層を設けなくてもよいフッ素樹脂被覆物を製造する。
【解決手段】金属基板層と、この金属基板層の少なくとも片面に形成されたフッ素樹脂被膜層と、このフッ素樹脂被膜層上の一部分を親水化しパターンを表現するように形成された親水化部分と、この親水化部分を覆う表示層とを有するフッ素樹脂被覆物を製造する。 （もっと読む）

【課題】 液滴を乾燥して形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、識別コードの製造方法、識別コード、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 着弾位置の領域で、Ｘ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットと、Ｙ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットとからなる十字状のピニングスポットＢ１を成形するようにした。そして、着弾位置に着弾した微小液滴Ｆｂの外径が、セル幅Ｒａよりも若干小さい照射径Ｒｅになるタイミングで、そのピニングスポットＢ１のレーザビームを照射するようにした。 （もっと読む）

【課題】 液体を乾燥することによって形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。
【解決手段】 ビームスポットＢｓの反Ｙ矢印方向に、Ｙ矢印方向の幅が、積算照射時間で約５０μ秒に相対する幅になるように成形され、その照射強度が、中心位置近傍で、鋭いピークを有するブロースポットＢｓ１を成形するようにした。そして、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に沿って搬送速度Ｖｙ（２００ｍｍ／秒）で搬送されて、ブロースポットＢｓ１に侵入すると、液滴ＦＤのＸ矢印方向の中央位置近傍に、約５０μ秒間で、その照射強度を急激に増加して下降させるレーザビームＢが照射されるようにした。 （もっと読む）

【課題】 電磁波の投入エネルギー量を低減して、良質の機能性膜パターンを形成することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法および電子機器を提供する。
【解決手段】 この機能性膜パターン成膜方法では、第一の機能性液状材料としての機能性材料Ａを含む液滴３０Ａを基板２１上に吐出して第一の膜パターン４０Ａを形成する。次に、機能性材料Ａと同じ導電性を発現する材料で、機能性材料Ａより導電性に劣るが光熱変換効率の良い第二の機能性液状材料としての機能性材料Ｂを含む液滴３０Ｂを膜パターン４０Ａ上に吐出して第二の膜パターン４０Ｂを形成する。この状態で、膜パターン４０Ｂに電磁波としてのレーザ光５０を照射し、光熱変換により発生する熱で膜パターン４０Ａ，４０Ｂに導電性を発現させ、配線パターン１９を形成する。焼成されやすい機能性材料Ｂの発熱により、焼成されにくい機能性材料Ａの焼成を補助できる。 （もっと読む）

【課題】微細化や細線化が図られた膜パターンを精度よく均一に形成することのできる膜パターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上に表面が撥液化された第１のバンクＢ１を形成する工程と、第１のバンクＢ１によって区画された領域に第１の機能液Ｌ１を配置する工程と、第１の機能液Ｌ１を乾燥する工程と、第１のバンクＢ１上に第２のバンクＢ２を形成する工程と、第２のバンクＢ２によって区画された領域に第２の機能液Ｌ２を配置する工程とを有する。本発明においては、第１の機能液Ｌ１を配置する工程と第２のバンクＢ２を形成する工程との間に、第１のバンクＢ１の表面を親液処理する工程を設ける。これにより、第２の機能液Ｌ２と下地である第１のバンクＢ１との濡れ性が向上し、良好な第２の膜パターンＦ２を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】深みのある黒真珠色塗膜を得る。
【解決手段】黒真珠色塗膜の形成方法は、鱗片状の鱗片状の酸化チタン化合物顔料または鱗片状の酸化チタン化合物被覆顔料を含有するベース塗料を中塗塗膜１０上に塗布してベース塗膜１２を形成するベース塗膜形成工程と、ベース塗膜１２上に光吸収剤を含まないクリア塗膜１４を形成するクリア塗膜形成工程と、ベース塗膜１２とクリア塗膜１４を焼き付けて硬化させる焼き付け工程と、酸化チタン化合物を還元可能な光をクリア塗膜１４上から照射し前記酸化チタン化合物を黒色化させる光照射工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平坦な銅箔と絶縁基板との接着強度を向上させる、即ち銅箔に粗化処理を施さずとも銅箔と絶縁基板との接着強度を向上させるための銅箔の表面処理方法を提供することである。
【解決手段】銅若しくは銅合金箔と高分子絶縁材料とを接着する前に、銅もしくは銅合金箔の接着表面をＵＶ照射処理することを特徴とするプリント配線板の製造方法で、特にUV照射処理前の時点で銅若しくは銅合金箔表面に有機防錆剤が塗布されている場合に有効である。 （もっと読む）

本発明は、表面を有する生分解可能なポリマー基層から作製される持続性のある親水性表面を有する生分解可能な基層に関し、生分解可能なポリマー基層は、基層をコロナグロー放電にかけること、及び／又は基層の乾燥重量に基づく約０．０１から約２．０重量％の量の親水性ポリマー材料で基層をコーティングすることにより親水性にされたことを特徴とする。生分解可能な基層は、吸収性パーソナルケア製品、生物医学デバイス、及び食品包装に用いることができる。
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