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Fターム[4D075BB44]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 放射線の照射(赤外線を除く) (2,434) | 表面改質、活性化 (147)

Fターム[4D075BB44]に分類される特許

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【課題】 所望のパターン形成領域に整合したパターンを形成することによって生産性を向上したパターン形成方法、識別コード形成方法、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 液滴吐出ノズルから吐出した微小液滴がデータセルに着弾する前に、制御部が加熱手段としての加熱ヒータ24を制御し、基板2(コード形成領域Z)の実基板温度を、着弾した微小液滴が隣接するデータセルに食み出さない温度であって、かつ突沸を起こさない温度、すなわち目標基板温度に維持するようにした。 (もっと読む)


【課題】 より塗布パターンの非塗布表面部への塗布を防止する。
【解決手段】 本発明における塗布液を被塗布材表面に塗布してなる塗布液被塗布材の製造方法は、前記被塗布材表面は、塗布液が被塗布材表面に塗布される塗布表面部と、塗布液が被塗布材表面に塗布されない非塗布表面部とで構成される塗布パターンに塗布され、前記塗布液を塗布する前に、前記塗布表面部の前記塗布液に対する濡れ性を前記非塗布表面部の前記塗布液に対する濡れ性よりも大きくする表面改質処理を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


紙又は板紙のウェブのコーティングにおいて必須の要求は、コーティング剤混合の塗付された層が加工された全体的表面に広げられることである。コーティング剤混合及びコーティングされる表面の表面エネルギは、加工される表面に塗付されたコーティング剤混合の作用において極めて重要な役割を担う。本発明によれば、下地材及びコーティング剤混合の表面エネルギは、互いに適合し、コーティング剤混合又はそこから分離された液層の表面エネルギが、加工される表面の表面エネルギより低い又は同等であるようにされる。 (もっと読む)


【課題】伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】伝導性の高分子単量体、酸化剤及びアルコール溶媒を含む混合溶液と、有機ケイ素化合物、水、酸触媒及びアルコール溶媒を含むシリカゾル溶液と、を混合して製造された伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法である。これにより、疎水性であり、かつ水及び有機溶媒に不溶性であり、機械的強度にすぐれ、熱的、化学的に安定しており、またその組成を多様に調節できる伝導性の有機無機複合体組成物を提供できる。 (もっと読む)


【課題】 表面に凹凸を有するFRP成形品において、模様が途切れることなく美麗な印刷層を有する意匠柄入りFRP成形品を提供する。
【解決手段】 表面に凹凸を有するFRP成形品の表面に、プライマーからなる接着層、意匠柄を提供するインクジェット印刷層及び樹脂層を順に積層してなる意匠柄入りFRP成形品であって、樹脂層は、透明または半透明な材料からなり、接着層の積層の前にFRP成形品表面に紫外線を照射しておくことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 液状材料が膜パターン形成領域から流出したり、領域外に濡れ広がることを抑制して、所定のパターン形状及び厚さの膜パターンを形成することができる、膜パターン形成方法、膜パターン、レジスト膜、及び絶縁膜、並びに回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイス、表面弾性波発振装置、電気光学装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 基板1の面を撥液化処理し、液状材料の液滴4を、レジスト膜9を形成する領域2の周縁部に配置し、周縁帯膜7aを形成する。次に、基板1の面を親液化処理し、周縁帯膜7aに囲まれた領域内に液状材料を充填して中央膜8を形成し、周縁帯膜7aと中央膜8とで、レジスト膜9を形成する。絶縁膜も同様に形成する。回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイスは、上記方法で形成された膜を備え、電気光学装置は当該半導体装置を備え、電子機器は上記電気光学装置、回路基板、表面弾性波発振装置を備える。 (もっと読む)


【課題】 液体プロセスによる微細パターンの薄膜の形成を確実に行うことが可能な機能性基板を提供すること、当該機能性基板の製造方法を提供すること、所望のパターンの薄膜を確実に形成することが可能な微細パターンの形成方法を提供すること、断線、短絡等のない微細なパターンの導電膜配線を提供すること、当該導電膜配線を備えた電子光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】 本発明の機能性基板の製造方法は、基板本体に第1の処理を施す第1の工程と、第1の処理が施された基板本体上に自己組織化膜を形成する第2の工程とを備え、自己組織化膜の所定の液滴に対する後退接触角をA[°]、自己組織化膜の前記液滴に対する前進接触角をB[°]としたとき、A/B≦0.60の関係を満足するように、第1の処理の処理条件および自己組織化膜の形成条件を設定することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 液状材料が膜パターン形成領域から流出したり、膜パターン形成領域外に濡れ広がったりすることを抑制して、所定のパターン形状及び厚さの膜パターンを形成することができる、膜パターン形成方法、膜パターン、レジスト膜、及び絶縁膜、並びに回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイス、表面弾性波発振装置、電気光学装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 液状材料の液滴4を吐出して、基板1の面上に着弾させ、レジスト膜9を形成する領域2の周縁部に配置し、固化させた周縁帯膜7aに囲まれた領域内に液状材料を充填する。充填された液状材料を固化して中央膜8を形成し、周縁帯膜7aと中央膜8とで、レジスト膜9を形成する。絶縁膜も同様にして形成され、回路基板、半導体装置、表面弾性波デバイスは、上記膜を備え、電気光学装置は当該半導体装置を備え、電子機器は上記電気光学装置、回路基板、表面弾性波発振装置を備える。 (もっと読む)


【課題】 AD法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程(a)と、工程(a)において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程(b)とを含む。 (もっと読む)


【課題】導電性ローラ基体部の表面への塗料の塗装後に塗膜層からの液だれを生じることがないトラバース塗装工程時の塗膜硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】回転するパイプ型ローラ2等の基体部5の表面に塗料を塗布するトラバース塗装工程時の塗膜硬化方法において、塗装工程の直後に連続してランプ18’等にて前記ローラ1の塗膜層4をトラバース照射して硬化させ、次いで、別工程にて紫外線照射手段あるいは電子線照射手段18”により前記ローラ1の塗膜層4を硬化・架橋することにより、トラバース塗装の利点を活かして、塗装直後の塗膜層4をその場でランプ18’等にて硬化させることができるので、塗膜層4の液だれを懸念することなく、パイプ型ローラ2等を次工程である紫外線照射手段あるいは電子線照射手段18”を用いた硬化・架橋工程に持ち込むことができる。 (もっと読む)


【課題】特殊なポリウレタン系樹脂を必要とせずに、ポリウレタン系樹脂コーティング剤の性能を改善して、携帯電話などのキーパッドなどにおけるシリコーンゴム成形表面との付着性を充分に向上させ、併せて、指触への柔軟性や耐摩耗性或いは耐候性や強靭性などをもバランス良く高める事を提供する。
【解決手段】(A)高分子ポリオールが(A1)と(A2)の成分を含有し、(B)有機ジイソシアネート及び必要により(C)鎖延長剤を成分とするポリウレタン樹脂コーティング剤。 (A1)数平均分子量500〜5,000のポリカーボネートポリオール (A2)数平均分子量5,000〜30,000で、1分子中に1〜2個の水酸基を含有するアクリルポリオール (もっと読む)


層を浸漬コーティングする工程を含む有機電子デバイスの製造方法およびそれによって製造されたデバイスが開示される。
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【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、連続的に成膜ができ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。特には、ロールから巻き出し、ロールに巻き取ることができるフィルムのような基材に対して、電気的絶縁性物質からなる薄膜を、連続的に、安定的、且つ効率的に成膜することができる真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。
【解決手段】 蒸着材料が移動するハースから基材の間の位置に、およびまたは、前記位置の近傍に、前記移動する蒸着材料の除電を行うための、アースレベルに設定された、蒸着材料除電部を備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属酸化物膜形成用溶液を用いる安価なWetコートであって、複雑な構造部を有する基材や多孔質材料の基材等に対しても均一かつ緻密で充分な膜厚を有する金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または金属錯体と、酸化剤および還元剤の少なくとも一方とが溶解した第一金属酸化物膜形成用溶液と、基材とを接触させることにより上記基材上に第一金属酸化物膜を形成する第一金属酸化物膜形成工程と、上記第一金属酸化物膜を備えた基材を金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱し、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した第二金属酸化物膜形成用溶液と接触させることにより第二金属酸化物膜を得る第二金属酸化物膜形成工程とを有する金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 簡素な方法により、導電性ローラまたは導電性エンドレスベルト基体部の表面への塗料の塗りむらや厚みの不均一を解消できるリングコーター塗装工程の前処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 導電性ローラ1の基体部の表面に塗料を塗布するリングコーター塗装方法において、塗装工程の直前にプラズマ照射手段17によりプラズマを前記ローラ1の基体部表面に照射し、これらプラズマ照射手段17とローラ1とを軸方向に相対移動させて前記基体部の表面を改質することにより、比較的容易に作りだすことができるプラズマ状態の雰囲気中で、導電性ローラ1の基体部表面が改質されて塗料の濡れ性が高まり、塗りむらや厚みの不均一性が解消される。その結果、塗料の密着性が向上し、長期運転時の塗膜層の剥離等の不具合が解消される。 (もっと読む)


【課題】 硬化手段を塗装工程の内部に取り込んで、塗膜層に液だれを生じさせることなく、要スペースも少なく工程時間も短縮できるトラバース塗装工程における連続硬化方法を提供する。
【解決手段】 回転する導電性ローラ1(またはエンドレスベルト)の基体部5の表面に塗料を塗布するトラバース塗装方法において、塗装工程の直後に紫外線あるいは電子線を前記ローラ1の塗膜層4にトラバース照射し、前記照射手段18とローラ1とを軸方向に相対移動させて前記塗装と硬化を連続して行うことにより、トラバース塗装方法の利点を活かして、塗装コーター10と紫外線照射手段18等とを併設し、塗装された塗膜層4の表面が、その後の紫外線等の照射により、即座に均一かつ効果的に硬化されて、液だれを生じることなく、要スペースも少なく工程時間も短縮できて品質が向上する。 (もっと読む)


【課題】 ナノ材料である微粒子の機能を損ねることなく各種ナノ材料を適度に分散した状態で基板上に固定する汎用的な方法とそれを実現する装置を提供する。
【解決手段】 成膜物質に含まれる元素を成分とする化合物を含む溶媒に微粒子を溶解または分散させた原料溶液をエアロゾル化し、生成したエアロゾルを真空の容器内に導入してプラズマ化し、プラズマ化学的気相蒸着(CVD)法により堆積させることによって、微粒子13が分散した状態で混入した、堆積物元素を含む薄膜12を被処理物表面10に形成して複合薄膜を得る。 (もっと読む)


基材および少なくとも1つのニードルを有するマイクロニードルアレイを提供する工程と;マスキング層によって基材が少なくとも部分的に被覆され、そして少なくとも1つのニードルが少なくとも部分的に暴露されたまま残るように、マイクロニードルアレイ上に取り外し可能なマスキング層を提供する工程と;マイクロニードルアレイの暴露部分の少なくとも一部にコーティング材料を適用する工程とを含んでなるマイクロニードルアレイのコーティング方法。
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【課題】 熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を基材に用いた高精細且つ高周波用途に適した配線基板用フィルム基材を提供すること。
【解決手段】 ポリイミドまたは液晶ポリマー(LCP)からなる樹脂フィルム11と、樹脂フィルム11上に塗布された有機SOG溶液の塗布膜を硬化させたシロキサンポリマーを含むポリマー膜12と、ポリマー膜12を下地層としてNi−B無電解メッキ液に浸漬してメッキ処理により形成された金属膜13と、を有する配線基板用フィルム基材10。
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