【課題】 本発明の目的は、インク吸収性を損なうことなく、皮膜耐久性及び耐擦過性に優れたインクジェット記録媒体とその製造方法及びそれを用いた記録方法を提供することにある。
【解決手段】 支持体上に、少なくとも無機微粒子、親水性樹脂及び水不溶性樹脂を含有する多孔質性のインク吸収層を有するインクジェット記録媒体において、該親水性樹脂の少なくとも１種が、アセトアセチル基と反応する架橋剤により架橋されたアセトアセチル変性ポリビニルアルコールであることを特徴とするインクジェット記録媒体。 （もっと読む）

【課題】リップ・ロール間の隙間を高精度に測定し、高精度な塗工フィルムの作製のために、リップ・ロール間の隙間を高精度に設定すること。
【解決手段】
塗工用スロットダイ２０の両側端部にスロットダイ先端のリップ前面２１Ａと同一面をなす平坦なブロック前面２８Ａ、２９Ａを有する測定器取付ブロック２８、２９を取り付け、この測定器取付ブロック２８、２９に変位測定器２８、２９を取り付け、ブロック前面２８Ａ、２９Ａにブロックゲージ５０の表面５０Ａを押し当て、ブロックゲージ表面５０Ａを変位測定器２８、２、によって測定してキャリブレーションを行い、キャリブレーション完了後にブロックゲージ５０を取り除き、塗工へッドを塗工ロール側に前進移動させ、変位測定器２８、２９の計測値によってスロットダイ２０のリップ２１と塗工ロール外周面１１Ａとの隙間を測定する。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルの状態を最適化して、塗布ムラを抑制する。
【解決手段】スリットノズル４１において、第１リップ４１０の第１リップ面４１０ａを第２リップ４１１の第２リップ面４１１ａより段差Ｄだけ低い位置に配置する。本塗布処理におけるスリットノズル４１の走査方向（（＋Ｘ）方向）とは逆方向（（−Ｘ）方向）にスリットノズル４１を走査させつつ、予備塗布部材であるローラ７１にレジスト液を塗布して予備塗布処理を行う。予備塗布処理により正常化されたスリットノズル４１を（＋Ｘ）方向に走査しつつ、基板９０にレジスト液を塗布して本塗布処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 粒子が分散している液体がノズル先端から射出されない状態が長時間続いた場合においても、その後、所定の領域に液体を射出する。
【解決手段】 糊射出口１１から糊を射出する際、当該射出処理に先立って、ばね１４によって糊射出口１１に押圧されているニードル弁１２を糊射出口１１から離間する処理と、糊射出口１１から離間したニードル弁１２を糊射出口１１に押圧する処理とからなる予備射出処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 熱可塑性樹脂フィルムにおける波しわ外観を最小限及び／又は完全に抑制する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 塗工フィルム（１３６）の製造方法は、ベースフィルム（１１４）の第１面（１１６）をコーティング材料（１２４）で被覆して塗工フィルム（１３６）を形成することを含むが、ベースフィルム（１１４）はカレンダー法で形成され、カレンダー加工の際に所定時間において第１面（１１６）が第１ロール（１０４）と物理的に接触する表面積が第２面（１１８）が第２ロール（１０６）と物理的に接触する表面積よりも小さく、塗工フィルム（１３６）は非塗工の第２面を有する。 （もっと読む）

【課題】 ダイヘッド或いはコーティング面を傷付けることなく、ダイヘッドとコーティング面のギャップを測定する。
【解決手段】 ダイヘッド１００の両端には測定ブロック１１０が設けられ、測定ブロック１１０のエア孔１１１からエアを吐出する。エアを吐出する時に発生するエアの圧力抵抗値を差圧計１２０で測定し、圧力抵抗値からギャップ寸法を演算する。差圧計で測定された信号は、制御装置１７０に送信され、制御装置１７０は予め設定されたプリセット値と測定値との差が無くなるようにダイヘッド移動機構１８０を操作する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明に係るレジストパターン形成装置の代表的な構成は、基板１を搬送する基板搬送手段10と、前記基板１にレジストパターンを転写する転写手段11と、前記転写手段11にレジストインクを吐出するインク吐出ヘッド12とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、インクジェット記録シートに記録された画像や文字に対し、カーテン塗布で発生する空気同伴現象、ヒール故障等による画像ムラの発生がなく、印字濃度が高く鮮鋭な画質を有するインクジェット記録シートと、それを安定に製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】 支持体の少なくとも一方の面に、複数層からなるインク吸収層を有するインクジェット記録シートにおいて、最下層インク吸収層の塗布液粘度が、他のインク吸収層の塗布液粘度より低く、最下層インク吸収層の湿潤膜厚が、該最下層インク吸収層に隣接するインク吸収層の湿潤膜厚よりも小さく、該インク吸収層が無機微粒子及び親水性バインダーを含有し、かつ該インク吸収層がカーテン塗布装置により同時重層塗布して形成されたことを特徴とするインクジェット記録シート。 （もっと読む）

【課題】吐出口と基板との距離を正確に制御可能であるとともに、ノズルの作製が容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１では、処理対象となる基板と垂直な方向における位置である垂直位置を測定するリニアゲージ８１，８２が、処理対象の基板に処理液を吐出するスリットノズル４１の吐出口４１ｃおよび測定部位Ｐ，Ｐ’の垂直位置を測定し、当該垂直位置の測定結果を利用して、スリットノズル４１を基板と垂直な方向へ移動させる昇降機構４３，４４によるスリットノズル４１の昇降制御が行われる。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度を自在に制御した条件下において塗布膜を硬化させ、塗布層の品質、特に耐擦傷性、密着性、 等を向上させることができる塗布膜の硬化方法、装置及び光学フィルムを提供する。
【解決手段】走行する帯状の支持体１６の表面に形成された塗布膜に紫外線照射手段５０により紫外線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法。紫外線照射手段の照射面に対し、所定間隔をもって対向させて支持体の表面を配置するとともに、照射面と支持体との間に不活性ガスを供給して照射面と支持体との間に大気圧以上の加圧空間を形成し、この加圧空間内部の酸素濃度を０．１〜０．５％の範囲に制御する。 （もっと読む）

【課題】ロットダイコータ方式の塗布装置を使用した高速かつ薄層の塗布において、塗布液の脈動を抑止して、薄層で且つ塗布ムラ等の塗布欠陥のない塗布を行う。
【解決手段】塗布液を送液手段により送液配管２４を経てスロットダイ１３に圧送し、連続走行する支持体Ｗ上にスロットダイにより塗布液を塗布する塗布方法。塗布液の粘度を０．０１Ｎ・ｓ／ｍ² 以下とし、塗布液の流量を３００ｍｌ／分以下とし、送液配管内の圧力を０．０２〜０．５ＭＰａに制御する。 （もっと読む）

【課題】 ウェブへの塗布液の塗布性の向上を図る。
【解決手段】 塗布液調製工程１６を行い塗布液１７を得る。塗布液１７中のアニオン性界面活性剤のモル濃度Ａ（ｍｏｌ／ｍ³）とカチオン性界面活性剤のモル濃度Ｃ（ｍｏｌ／ｍ³）との比（Ａ／Ｃ）を３．６以上とする。アニオン性界面活性剤のモル濃度Ａを１．５ｍｏｌ／ｍ³以上とする。塗布液１７をウェブ２１上に塗布する際の動的表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下となり、ハジキ耐性が付与されるとともに柔軟仕上げ効果などが発現するフィルム製品２５を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】支持体Ｗの走行方向上流側より減圧チャンバ４０とスロットダイ１３とを隣接して設けるとともに、スロットダイに対向させてバックアップローラ１１を設け、減圧チャンバにより張力を与えバックアップローラに巻き掛けて連続走行させる支持体上に、スロットダイを使用して塗布液１４を塗布する塗布方法。バックアップローラに巻き掛けられた支持体表面とスロットダイ先端とのクリアランスを１００μｍ以下の所定値に設定するとともに、クリアランスの変動を設定値の±７％以内に抑えて塗布液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】低粘度・超薄膜塗布を行っても耳部の濡れ広がりを効果的に抑制でき、耳部の裁断幅を小さくすることのできるので、生産性を向上することができる。
【解決手段】バックアップローラ１２に巻きがけ支持されて連続走行するウエブ１４表面に、リップランド１６を近接配置させたスロットダイ１８のスロット先端から塗布液を吐出してウエブ１４との間にビード２０を形成すると共に、該ビード２０のウエブ上流側を減圧チャンバー２６で減圧しながらウエブ表面に塗布液を塗布する際に、減圧チャンバー２６のウエブ幅方向の外幅をＡ（ｍｍ）とし、スロット２４の吐出幅をＢ（ｍｍ）としたときに、外幅Ａの中心と吐出幅Ｂの中心を一致させた状態で次式、Ｂ≦Ａ≦Ｂ＋５０（ｍｍ）を満足するようにＡとＢとの関係を設定する。 （もっと読む）

【課題】低反射率、密着性、面状及び耐擦傷性に優れる積層フィルムを効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】 透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾルゲル反応を行うケイ素化合物を含有してなる塗工液を塗工して屈折率１．４以下の低屈折率層を形成したフィルムを得、これを少なくもと２０秒間、４０〜９５℃、相対湿度１０〜９０％の雰囲気下に置く。 （もっと読む）

【課題】低粘度・超薄膜塗布の場合であっても、段状ムラの発生を効果的に抑制することができる。
【解決手段】バックアップローラ１２に支持されて連続走行するウエブ１４表面に、リップランド１６を近接配置させたスロットダイ１８のスロット先端から塗布液を吐出してウエブ１４との間にビード２０を形成すると共に、該ビード２０のウエブ上流側を減圧しながらウエブ表面に塗布液を塗布する際に、ビード２０のウエブ下流側に対するウエブ上流側の減圧度Ｐ₀ −Ｐ_b （ｋＰａ）が次式、Ｐ_S1＜Ｐ₀ −Ｐ_b ≦Ｐ_S1＋０．２を満足するようにＰ_b を設定して塗布する。 （もっと読む）

【課題】 表面に模様が形成され、模様に応じた艶差を有し、該艶差が視覚的に凹部として認識される、表面に凹凸感を有する化粧材であって、耐溶剤性、耐摩耗性、あるいは層間強度が高く、かつ凸部から凹部に移行する端部における凹凸の鮮映性（シャープネス）を強調することのできる化粧材を提供すること。
【解決手段】 基材上に少なくとも、部分的に設けられた低艶絵柄インキ層と、該低艶絵柄インキ層上に存在してこれと接触すると共に、低艶絵柄インキ層が形成された領域及び低艶絵柄インキ層が形成されていない領域を含む全面にわたって被覆する表面保護層を有する化粧材であって、低艶絵柄インキ層を構成する低艶絵柄インキが体質顔料を含み、表面保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化したものであり、かつ該表面保護層中には、該低艶絵柄インキ層の直上部及びその近傍に視覚的に凹部として認識される低光沢領域が形成されてなる化粧材である。 （もっと読む）

【課題】未塗布部を簡単に形成可能としながら、未塗布部と塗布部との境界部分における厚塗りを十分に防止することが可能な塗布方法を提供する。
【解決手段】回転するバー１４と搬送されるベースＢとの間に塗布液を供給しながらベースに塗布液を塗布する塗布方法であって、ベースＢに塗布される塗布液の塗布厚みの２倍以下の厚さのフィルム１５を、バー１４とベースＢとの間でバー１４を覆うように設けて塗布を行い、未塗布部１７を形成する。 （もっと読む）

【課題】薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、塗布液圧の変動によるスジ状ムラ等の発生を抑え、安定した塗布を維持する。
【解決手段】支持体Ｗの走行方向上流側より減圧チャンバ４０とスロットダイ１３とを隣接して設けるとともに、スロットダイに対向させてバックアップローラ１１を設け、減圧チャンバにより張力を与えバックアップローラに巻き掛けて連続走行させる支持体上に、スロットダイを使用して塗布液１４を塗布する塗布方法。ηが塗布液粘度であり、Ｖが塗布速度であり、ｈが湿潤状態の塗布膜厚であり、Ｌがスロット長さであり、Ｄがスロット幅である場合であって、Ａ＝η×Ｖ×ｈ×Ｌ×１／Ｄ³ のときに、２Ｎ／ｍ² ≦Ａ≦７００Ｎ／ｍ² で塗布液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】リバースロールコータ方式による塗布装置を用いて、広幅な塗布、例えば、全塗布幅が１０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であるような広幅な塗布を行うに際しても、幅方向に均一な塗布膜厚さで塗布することを可能にする塗布装置と塗布方法を提供すること。
【解決手段】転移ロールと、該転移ロール上に塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記転移ロールと間隙を隔てて配置された計量ロールとからなり、前記塗布液供給手段により前記転移ロール上に供給された塗布液を前記間隙を通過させることにより計量し、該計量された塗布液を前記転移ロールによりウェブの表面に塗布する塗布装置であり、該計量ロールを転移ロールの軸方向と平行に複数個配置してなる塗布装置で、塗布全幅分の塗布液の計量を該複数個の計量ロールで幅方向に分担して行うように構成。 （もっと読む）