【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置１０は、ワークＷに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽１１と、電着処理槽１１内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ１５と、ワークＷを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具２０と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ１６とを備えている。電着処理槽１１を円形にしたことで電着処理装置１０が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、導電性弾性層に塗工液を塗工して被覆層を形成する際に、塗工液の状態を安定に保つことができる塗工装置及び塗工方法を提供することである。
【解決手段】本発明に係る塗工装置は、導電性支持体上に少なくとも導電性弾性層を有するローラ２ｇ表面に被覆層を塗工する為の塗工装置であって、前記被覆層となる塗工液を溜める浸漬槽２ａと、前記ローラを前記浸漬槽に浸漬する手段２ｆと、前記浸漬槽にある塗工液を循環経路を通して循環させるポンプ２ｄと、前記循環経路中に極性吸着剤を有する吸着部２ｉと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】短時間で、且つ処理溶液に混入している異物を確実に濾過することができる浸漬処理装置および浸漬処理装置の運転方法を提供する。
【解決手段】貯留した処理溶液により、浸漬した処理対象物の表面処理を行う処理タンク２と、処理タンク２以上の容量を有するバッファタンク３と、処理タンク２とバッファタンク３とを相互に接続する循環流路４と、処理タンク２とバッファタンク３との間に処理溶液を送液する送液手段と、循環流路４に介設したフィルタ６と、送液手段を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、処理タンク２に貯留された処理溶液の濾過時に、処理タンク２に貯留している全ての処理溶液をバッファタンク３に送液した後、バッファタンク３から処理タンク２に送液する。 （もっと読む）

【課題】浸漬槽からオーバーフローして調整槽内に落下する塗布液の泡立ちを抑制することが可能な浸漬塗布装置および浸漬塗布方法を提供すること。
【解決手段】オーバーフロー液導管２０の下部開口部２４の開口面積をスライドプレート２５で絞り、オーバーフロー液導管２０内の液面２０Ａを調整槽３０内の液面３０Ａより高くし浸漬槽１０内の液面１０Ａに近づけて、浸漬槽１０のオーバーフロー辺１１からオーバーフローする塗布液の落差を小さくしている。 （もっと読む）

【課題】円筒状基材表面に均一性の高い膜厚を有する塗膜を形成することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布液を充填するための塗布槽と、前記塗布槽の上部に設けられ、前記塗布液が溢流する筒状部と、前記筒状部の上方に設けられ、前記筒状部の位置に対応する開口部を有する溶剤蒸発抑制部材と、を有し、前記筒状部に円筒状基材を浸漬させ、引き上げることにより前記円筒状基材に前記塗布液を塗布する塗布装置である。 （もっと読む）

【課題】コーティング液中に発生するダマを効率よく除去し、コーティング槽の底部から供給されるコーティング液の流速を均一にして、均一なコーティング処理を行うことができるコーティングユニットを提供する。
【解決手段】材料がコーティング液２６に浸漬されてコーティングされるコーティング槽１０と、所定の角度で折り曲げられたコーティング液注入部１２が、コーティング液排出部１４の内部に組み込まれ一体化されたコーティング液注入排出部１６と、コーティング槽１０から溢れ出したコーティング液２６を一時蓄えるコーティング液溜め槽１８と、コーティング液排出部１６とコーティング液溜め槽１８のコーティング液２６を回収し循環させるためのコーティング液回収槽２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】塗布開始端での膜垂れ（塗工上端部に生じる薄膜部）の発生を防止して均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することができる浸漬塗工方法を提供する。
【解決手段】円筒状基体としてのドラムを塗工槽内の塗工液に浸漬し、次いで被塗工基体を塗工液から引上げて被塗工基体上に塗膜を形成する浸漬塗工方法において、ドラムの上端部分について、引上げ速度をドラム引上げ距離の増加とともに低下させる。減速の態様としては、引上げ速度が指数関数に従って加速度的に低下するものが好ましい。また、上記減速操作の終了した時点で、ドラムの上端部を除く下方部の引上げに工程に移行するが、この工程ではドラムの引上げ速度を一定に維持する。本発明によれば、ドラム全長にわたって塗膜厚さが均一な電子写真感光体を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】溶媒蒸気の大気中への排出抑制と膜厚ムラの低減を両立できる浸漬塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布液槽１９に収容した塗布液１４に基体２３を浸漬し、フード２５を有する開口部３０より引き上げて塗膜を形成する浸漬塗布装置において、フード２５の温度は、少なくとも塗布液１４の温度より低く、基体２３の外面と、フード２５の内面２７との距離ｄは１０ｍｍ以下である。フード２５の内面２７に凹凸を設け、溶媒の凝縮を促進させることも好適である。 （もっと読む）

【課題】浸漬槽内面に塗布液が付着・固化したものにより塗膜品質が阻害されることなく、かつ、オーバーフローの均一性を向上させてより均一な塗布を行うことのできる浸漬塗布装置および方法を提供する。
【解決手段】貯蔵タンク、浸漬槽、貯蔵タンクから浸漬槽へ塗布液を送り浸漬槽からオーバーフローした塗布液を貯蔵タンクへ戻すための塗布液循環経路となる配管、および循環ポンプを備え、浸漬槽中の塗布液に被塗布物を浸漬し引き上げることにより、被塗布物の表面に塗膜を形成する塗布装置において、浸漬槽の内面が、臨界表面張力が塗布液の表面張力よりも小さい材料で被覆されており、かつ、浸漬槽の塗布液がオーバーフローする面が、臨界表面張力が塗布液の表面張力以上の材料で形成されている。この装置を用いる塗布方法。 （もっと読む）

【課題】塗工液を循環して浸漬塗工しても塗工ムラやハジキがない塗膜形成が可能な電子写真感光体の塗膜形成装置とその塗膜形成方法、感光体、画像形成装置を提供する。
【解決手段】導電性基体(1)を浸漬塗工する塗工槽(2)と、塗工液を収容する撹拌手段(5)と冷却手段(4)を具備する塗工液タンク(3)と、冷却手段(8)を具備すると共に水分吸着剤(9)を収容した水分吸着タンク(7)を備えた装置により、塗工液を連続的に循環させながら、塗工液タンクの冷却手段により塗工槽の塗工液を15℃以下に維持し、且つ水分吸着タンクにより温度上昇なく塗工液中の水分を除去し、浸漬塗工で導電性基体(1)に塗膜を形成し、この塗膜を乾燥して顔料含有層からなる感光層とする。これを用いて画像形成装置とする。 （もっと読む）

【課題】ゴムラテックスのエマルジョン破壊を発生させることなく、ゴムラテックス溶液を圧送することのできるポンプを具えたゴムラテックスディップ装置を提供する。
【解決手段】ゴムラテックスディップ装置において、ゴムラテックス圧送ポンプは、ゴムラテックス溶液部分を囲むケーシングと、ケーシング内で回転してゴムラテックスに流速を付与するインペラと、ケーシングの外部に設けられてインペラを回転駆動するインペラ駆動手段とを具え、インペラは永久磁石を内蔵するとともに、ゴムラテックス溶液に浮上して回転するよう構成され、インペラ駆動手段は、前記永久磁石に、インペラを回転させる向きの力を生起させる交番磁界発生装置を具える。 （もっと読む）

【課題】感光層塗布液中に含まれる下引き層由来のコンタミネーション物質を循環させながら除去することで、その含有量を低減させることができる電子写真感光体の製造装置、および、これにより製造され、画像欠陥の発生がなく、経済性にも寄与できる電子写真感光体を提供する。
【解決手段】塗布槽１と塗布液タンク２とを介して塗布液３を循環させながら、塗布槽１内で、導電性基体１０上に、浸漬塗布法により塗布液を塗布する電子写真感光体の製造装置である。塗布液タンク２と塗布槽１との間に液冷却装置４およびフィルター５を順に備え、塗布液タンク２流出後の塗布液温度Ｔ１と、フィルター５通過直前の塗布液温度Ｔ２とが、Ｔ１＞Ｔ２を満足する。 （もっと読む）

【課題】浸漬塗布の際に、被塗布基材の表面に均一に塗膜を形成する。
【解決手段】駆動装置４４により浸漬装置４６を用いて被塗布基材２０を浸漬塗布槽２２に浸漬させる。その際、液受けタンク２６から供給配管４２を介して送液される塗液流量をやや少なめにし、浸漬塗布槽２２に被塗布基材２０の浸漬による塗液溢れ量を制御する。次いで、被塗布基材２０が浸漬塗布槽２２内に浸漬して停止した後、被塗布基材２０を浸漬装置４６により引き上げ開始する時点までに、液受けタンク２６からの塗液送液流量（または塗液循環流量）をステップ上または連続的に循環手段である循環用ポンプ３０により増加させ、被塗布基材２０の表面に塗膜を形成する。 （もっと読む）