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Fターム[4F041AA02]の内容

塗布装置−吐出、流下 (28,721) | 被塗物あるいは塗布部位 (7,419) | 個々の物品 (6,100) | シート片、板片 (2,643)

Fターム[4F041AA02]に分類される特許

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【課題】 シーリング剤塗布装置におけるシーリングノズルの移動制御軌跡に追従してシーリング剤の塗布量を検査することができ、これにより、直線部以外に曲線部等の複雑なシーリング剤の塗布軌跡にも対応して検査することができる塗布量検査手段を備えたシーリング装置の提供。
【解決手段】 センサ2がシーリングノズル15の中心を軸として回動可能な状態に設けられ、センサ2がシーリングノズル15の移動制御軌跡に追従するように回動制御されるように構成され、センサ2の回動制御がロボット制御盤3のロボット制御手段で行われる。 (もっと読む)


【課題】駆動信号の印加や非印加を切り替えるための制御期間において、複数のスイッチが同時にオン状態になることを防止する。
【解決手段】インクを吐出させるための動作を実行可能なピエゾ素子417と、第1駆動信号COM_A、及び第2駆動信号COM_Bを生成する駆動信号生成部70と、第1駆動信号COM_Aのピエゾ素子417への印加を制御する第1スイッチ86Aと、第2駆動信号COM_Bのピエゾ素子417への印加を制御する第2スイッチ86Bと、第1駆動信号COM_Aが有する単位信号(駆動パルスPS1)の生成終了から次の単位信号(駆動パルスPS2)の生成開始までの間(期間t12)に、第1スイッチ86Aを所定期間に亘って強制的にオフ状態にさせるコントローラ(防止回路85)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ホットメルト接着剤などの加熱された液体の吐出装置では、加熱された吐出器本体とソレノイドバルブとの間における不都合な熱移動があった。
【解決手段】 ホットメルト接着剤などの加熱された液体を吐出するための装置であって、加熱された液体を吐出すべく適合してなる吐出器本体と、ソレノイドバルブと、ソレノイドバルブと吐出器本体との間を結合する空気圧ハウジング部分を具備した吐出装置により解決する。吐出装置の空気圧ハウジングは、ポリフェニレンスルフィド(PPS)や、フッ素樹脂ポリマーなどの熱可塑性ポリマーを含むような、断熱素材から形成されていて、吐出器本体から空気圧ハウジングを介して流れる熱移動を減少させ、もってソレノイドバルブを断熱できる。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式を用いた薄膜形成装置による薄膜形成方法に関するもので、薄いフィルム基板の両面に均一な塗布パターンを精度良く形成する方法を提供する。
【解決手段】基板上に塗布液を吐出する液吐出機構とフイルム基板を塗布面と反対側から吸引する機構を有し、基板のエッジ部全体を固定可能な構成とし、さらに位置決め機構を有する基板固定枠に基板を取り付けた状態で連続して両面に溶液を塗布する。 (もっと読む)


【課題】スペーサ粒子の吐出安定性の高い印刷装置を提供する。
【解決手段】
ヘッド本体20は内部フィルター30によって吐出室21と供給室22に分割されており、噴出口32からスペーサ分散液67を吐出する印刷状態では、供給室22内部でスペーサ分散液を流し、吐出室21内部でスペーサ分散液を流さないようにすれば、噴出口32からの吐出はスペーサ分散液の流れにより生じる圧力の影響を受け難い。逆に、吐出を行わない待機状態では、吐出室21と供給室22の両方でスペーサ分散液を流すようにすれば、スペーサ分散液67中のスペーサ粒子69の沈降が起こらず、内部フィルター30や噴出口32の目詰まりが置き難い。 (もっと読む)


【課題】スペーサ粒子の吐出安定性の高い印刷装置を提供する。
【解決手段】
本発明のヘッドモジュール2は、内部フィルター30によって輸送室22と吐出室21に二分されたヘッド本体20を有している。スペーサ分散液は輸送路12を通って、流入口23から輸送室22へ供給され、輸送室22内部を流入口23から流出口24へ向かって流れた後、流出口24から輸送路22へ戻り、再び流入口23へ送られる。このように、スペーサ分散液の流れは、吐出室21とは内部フィルター22で隔たれた輸送室22で起こるので、スペーサ分散液の流速が変動しても、ノズルプレート26側の吐出室21は影響を受けず、ノズルプレート26の噴出孔から吐出される液量および液滴中のスペーサ個数の安定性が高い。 (もっと読む)


【課題】 駆動信号を切り替える際において、複数のスイッチが同時にオン状態になることを防止する。
【解決手段】 インクを吐出させるための動作を実行可能なピエゾ素子417と、第1駆動信号COM_A、及び第2駆動信号COM_Bを生成する駆動信号生成部70と、第1駆動信号COM_Aのピエゾ素子417への印加を制御する第1スイッチ86Aと、第2駆動信号COM_Bのピエゾ素子417への印加を制御する第2スイッチ86Bと、ピエゾ素子417に印加される駆動信号を、第1駆動信号COM_Aから第2駆動信号COM_Bへ切り替える際に、第1スイッチ86A及び第2スイッチ86Bの両方をオフ状態にさせるコントローラ(防止回路85)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 被塗布部材(基板W)に塗布液を塗布する塗布装置において、塗布ヘッドの吐出口での目詰まりを防止する。
【解決手段】 ノズルプレート5cの吐出口5caからの吐出量を制御して、被塗布部材に塗布液を塗布する塗布装置において、制御器9による制御により、ノズルプレート5cの底面に対向配置の薄いガラス製の平板71を上方向に移動させ、吐出口5caの塗布液滴Lに接触可能に構成する。
ノズルプレート5cの吐出口5caにおいて、平板71を塗布液滴Lに接触させたとき、塗布液滴Lはその接触した平板71を引き寄せつつ平板71とノズルプレート5cとの間に広がり塗布液膜を形成するので、平板71はノズルプレート5c側に貼り付けられる。
その結果、吐出口5ca近傍における塗布液の空気との接触は回避され、塗布液固化によるノズル吐出口の目詰まりを回避できる。 (もっと読む)


【課題】 スリットノズルを有するコーティングヘッドを用いる場合において、塗工幅の変更を容易に行うことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】 スリットノズル6を有するコーティングヘッド1Bを用いて、走行している被塗布体に塗工材料を塗布する装置及び方法において、前記スリットノズル6の少なくとも一端側をコーティングヘッド1Bの側面方向に開放する開放端とし、該開放端にシム5a、5bを装着し且つスリットノズルの幅方向に関して該シムの装着位置を変えることによって、スリットノズルの塗布幅を調節する。前記シムは、可動治具7を備える装着手段によってスリットノズルの開放端に装着することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 液晶塗布が迅速でありながら、基板全体にかけて均一かつ正確な量で制御される、インクジェット方式の液晶塗布装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、LCD製造工程において、基板上に液晶を塗布する装置に関し、基板を支持するステージ110と、前記ステージと相対運動をしながら前記ステージ部上の基板に液晶を塗布するヘッド部130と、前記ステージと前記ヘッド部を相対運動させる駆動部140とを有する。本発明の液晶塗布装置は、前記ヘッド部によって塗布された液晶の状態を撮像する撮像装置133と、前記撮像装置によって撮像されたイメージに基づいて前記塗布された液晶が適正であるか否かを判断し、前記適否の判断に基づいて前記相対運動の速度を調節するために前記駆動部を制御する制御部150とを含むことを特徴とする。これにより、塗布液晶の適否を判断して液晶塗布時に移送される速度を調節することができる。 (もっと読む)


【課題】
保守が容易でかつ塗布装置の使用環境を汚染することのない、高粘度のペーストでも確実にノズルの先端を清掃する装置を実現する必要がある。
【解決手段】
そのため、本発明のノズル清掃装置は、上部にノズルの長さ以上の空間を設けたノズル清掃装置本体の上部をラテックスの薄膜で覆い、ラテックス薄膜をその張力を維持するように金具で固定し、ラテックス薄膜にノズルを押し込むことによって該薄膜をノズル表面に密着させてノズルに付着したペーストをラテックス薄膜表面に転写させることを特徴とする。
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【課題】 ロール状のワークに対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができるロール・ツー・ロール方式の液滴吐出装置等を提供する。
【解決手段】 長手方向に複数の描画領域を配したロール状のワークWを吸着セットする吸着テーブル31と、ワークWを間欠的に繰り出し、ワークWを撓ませた状態で吸着テーブル31に導入する繰り出し手段3と、機能液滴吐出ヘッド42を有し、機能液滴吐出ヘッド42を相対的に移動させながら、吸着セットされたワークWに描画領域単位で描画を行う描画手段と12、描画済みのワークWを撓ませた状態で巻き取る巻取り手段5と、機能液滴吐出ヘッド42からの吐出を受けるフラッシングボックス111を、ワークWのたわみ部分の少なくとも一方に収まるように配設したフラッシングユニット101と、を備えた (もっと読む)


【課題】シリコンウェハの反りを矯正して塗布ムラ等の発生を防止することができるスリットコート式塗布装置及びスリットコート式塗布方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェハ1の塗布面1aとは反対側の保持面1bを吸引保持する吸引手段30の設けられた保持テーブル20と、シリコンウェハ1の塗布面1aに相対向してスリット状のノズル開口41が設けられた塗布ヘッド40と、シリコンウェハ1の周方向に亘ってシリコンウェハ1の反り量を測定する測定手段60と、シリコンウェハ1の周縁部を先端で押圧する複数の押圧ピン73を有すると共に押圧ピン73のそれぞれが異なるタイミングでシリコンウェハ1を押圧可能に設けられた押圧手段70とを具備し、測定結果に基づいて押圧ピン73でシリコンウェハ1の周縁部を周方向で異なるタイミングで押圧し吸引手段30によってシリコンウェハ1を保持テーブル20上に吸着させて平坦化する。 (もっと読む)


【課題】 比較的簡易な配管構成であり、かつメンテナンス性の良い機能液供給装置等を提供する。
【解決手段】 機能液タンク161に対して機能液補充ユニット222を相対移動させることにより、機能液タンク161に各補充タンク222を対峙させ、接続手段232を介して補充タンク222と各機能液タンク161とを接続するタンク移動手段223と、を備え、機能液補充ユニット222は、補充タンク231と、機能液タンク161に連通する送液流路が形成されていると共に、送液流路の下流側に連通し、補充口に対して液密かつ離接自在に接続する接続具が形成された接続手段232と、接続手段232を介して、補充タンク161の機能液を機能液タンクに送液する送液手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 ロール状のワークに設けられた実描画領域に対し、描画動作を行う直前にフラッシング動作を行うことができ、実描画領域に安定して描画を行うことができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】 実描画領域aと、フラッシング開口bとから成る描画領域を、長手方向に複数有する長尺のワークWを長手方向に間欠送りし、複数の描画領域を順次描画スペースに導入するワーク導入手段3と、描画スペースに配置され、描画スペースに導入された描画領域を描画領域単位で吸着セットする吸着テーブル31と、描画スペースに対して、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる移動テーブル24と、吸着セットされた描画領域のフラッシング開口bに臨み、フラッシング開口bを通過した機能液滴吐出ヘッドからの吐出を受けるフラッシングボックス111と、を備える。 (もっと読む)


【課題】印字前のメディアの表面を活性化させ、印字後のインクの密着性を高め、高精度の印字ができるようにする。
【解決手段】描画装置は、インク吐出型の印字ヘッドを搭載したヘッド部とテーブルとを備え、前記ヘッド部を前記テーブルに対して移動して該ヘッド部の印字ヘッドによってテーブル上のメディアに印字を行う。この描画装置は、前記ヘッド部にその移動方向に沿った方向の両側又は片側に位置させて紫外線照射装置を設けている。この紫外線照射装置によって印字前のメディアに紫外線を照射し、メディアの表面を活性化させる。 (もっと読む)


【課題】印字スピードを上げても充分な紫外線照射量を確保することができる、製品の生産性の良い、メディア上に高精度に線を描くための描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、ヘッド案内部材4に沿って1軸方向に移動可能なインク吐出型の印字ヘッド10aを搭載したヘッド部10と、該ヘッド部10の横に配設され一方向に長い開閉自在な照射口24を有する紫外線照射装置16と、メディアを支持するためのテーブル36とを備え、ヘッド部10の印字ヘッド10aによってテーブル36上のメディア80に紫外線硬化型のインクを吐出し該メディア80に印字を行うとともに、メディア80に紫外線を前記照射口24から照射する。紫外線照射口24は、ヘッド部10のテーブル36に対する相対的移動方向に対して平行に配置される。 (もっと読む)


【課題】処理液の吐出対象となるローラに関して、その長手方向の全体に渡って付着物を確実に除去する。
【解決手段】スリットノズル41の予備塗布処理においては、回転しているローラ63に対してレジスト液が吐出される。ローラ63に付着したレジスト液は、ローラ63の下部において洗浄液81と混合された後、ブレード71によって掻き落とされる。このブレード71は、ヤング率が1MPaから20MPaの合成ゴムで構成される。これにより、ローラ63の長手方向において「うねり」や「たわみ」があったとしても、ブレード71がその「うねり」や「たわみ」に応じて変形して長手方向の全体に渡ってローラ63に接触できるため、ローラ63への付着物が確実に除去される。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストのウェハへの安定したディスペンシングを図る半導体製造用フォトレジストのディスペンス装置を提供する。
【解決手段】ディスペンスポンプ30により容器10から送られたフォトレジストを供給ライン20を経由させて異物除去用フィルター40でフィルターリングし、フィルターリングされたフォトレジストは噴射ノズル50を通じてウェハWに噴射される半導体製造用フォトレジストのディスペンス装置において、ディスペンスポンプ30の直前の供給ライン20に設けられて容器10からフォトレジストを送るチャージポンプ60と、チャージポンプ60の後方で、チャージポンプ60により送られたフォトレジストに含まれる気泡を除去する気泡除去フィルター70と、気泡除去フィルター70を通過したフォトレジストを貯蔵し、ディスペンスポンプ30に一定量のフォトレジストを安定的に供給するバッファタンク80と、を備える。 (もっと読む)


【課題】液体吐出方式の記録ヘッドから吐出される液滴の速度を高精度で測定する。
【解決手段】記録ヘッド13から吐出される液滴1に、ストロボ光源17からパルス光を照射してCCDカメラ15で撮像すると同時に、2つのレーザダイオード(LD1 26、LD2 27)からレーザ光束2a、2bを照射し、液滴1による反射光3をフォトセンサ14に入射させ、液滴1が各レーザ光束2a、2bを通過するタイミングの差と、レーザ光束2a、2b間の離間距離Lによって液滴1の速度を計測する。また、上流側のレーザ光束2aを液滴1が通過したタイミングに合わせて、下流側のLD2 27のパルス発光タイミングを制御することで、液滴1の速度変化に対応する。 (もっと読む)


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