【課題】基板の大型化に対応する基板加工の高精度化と、省スペース化を実現するパターン形成装置を提供する。
【解決手段】パターン形成装置１０１は、ガントリ１２１に設けられるインクジェットヘッドユニット１０３からインクを基板１０５に塗布しパターン形成を行う装置である。インク塗布方向（Ｘ軸方向）に移動する移動機構（Ｘ軸移動ステージ１１１）は、基板１０５をＸ軸方向に移動させる。また、塗布幅方向（Ｙ軸方向）に移動する移動機構（Ｙ軸移動ステージ１１３）は、基板１０５をＹ軸方向に移動させると共に、インクジェットヘッドユニット１０３もガントリ１２１のスライドレール１２３に沿ってＹ軸方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】 簡素な装置構成で、塗布液の安定した塗布が可能となるブレード塗布装置及びディスク塗布装置を提供し、塗布面でのスジ発生を防止する。
【解決手段】 開口を有するマスク２５を平面基板Ｄ上に重ね合わせ、マスク２５上方で該マスク２５に対して相対移動するブレード５１によって塗布液をマスク２５上に塗布するブレード塗布装置であって、ブレード５１の長手方向に垂直な断面形状のうち、塗布面に対面するブレード下側の押圧面５９のブレード移動方向長さＬが、塗布時における塗布液層の膜厚の１０〜２０倍の範囲であり、押圧面５９とブレード進行方向前方の前側面５５との成す角度αが１１０°≦α≦１５０°の範囲であり、押圧面５９とブレード進行方向後方の後側面６１との成す角度βが６０°≦β＜１００°の範囲とした。 （もっと読む）

本発明は、紙／ボードのウェブのカーテンコーティングにおける支持装置に関する。その装置は、衝突点の下流において比較的小さな直径のバッキングロール（６）を含む、コーティングされるウェブの下に置かれる支持要素と、スライド手段（７、８）を備え、かつ、そのロールの上流に位置付けられるベアリング要素（５）とから構成される。ベアリング要素（５）は、支持のないウェブ上でコーティングが達成される衝突点（１２）の上流のところ、又は、支持のあるウェブの上でコーティングが達成される衝突点（１２）に沿ったところの何れかで、ウェブ（W）を選択的に支持するために調整可能である。

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【課題】 簡素な装置構成で、マスク板から光ディスクを離反させる際に塗布液の飛滴の発生を防止して塗布液の安定した塗布が可能となるブレード塗布方法及びこれを用いたディスク塗布方法並びにブレード塗布装置を提供し、もって、良好な表面性状を有する塗布液の塗布を可能とする。
【解決手段】 開口２７を有するマスク板２５と、平面基板（光ディスク）Ｄ上に重ね合わせたマスク板２５上に塗布液４９を供給する塗布液供給部４１と、マスク板２５上方で該マスク板２５に対して相対移動するブレード５１と、塗布液４９をマスク板２５上に塗布した後にマスク板２５と平面基板Ｄとを離反させるマスク剥離手段（エアシリンダ）２３と、を具備し、マスク剥離手段２３によりマスク板２５と平面基板Ｄとを離反させるときに、マスク板２５の開口縁部２５ａと平面基板Ｄとの間に生じる液膜４９Ａを破壊する液膜破壊手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】 基板に対するパーティクルの付着や傷付きを防止しつつ、基板を迅速に方向転換して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板を水平に保ちながら方向転換して搬送するための基板搬送装置Ａであって、基板の下面との間に空気圧による緩衝層を形成するエアステージ１と、エアステージ１に隣接して上下動作可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の側縁部を第１の水平方向Ｆ１に沿って移動しうるように支持する支持手段２Ａ，２Ｂと、エアステージ１の中央部において、上下動作可能かつ鉛直軸周りに回転可能に設けられており、所定の上位置をとるとき、エアステージ１上における基板の下面中央部を支持するとともに、鉛直軸周りに回転することで当該基板を第１の水平方向Ｆ１から異なる第２の水平方向Ｆ２に方向転換させる回転手段３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 粉体膜を形成するに際して特殊な制御や装置を必要とせず、かつ、極めて微小なサイズの粒子を用いて基板表面に均質な粉体膜を迅速に形成できる粉体膜形成装置を提供する。
【解決手段】 粉体原料ｍに、機械的外力を付与して微粒子Ｃを生成する微粒子生成手段５０と、微粒子Ｃを付着させて表面に粉体膜Ｆを形成する基板４を保持する基板保持手段４ａと、微粒子生成手段５０および基板保持手段４ａを内部に設けた処理室７０と、微粒子Ｃの基板４への搬送状態を制御する搬送制御手段４０を備える。 （もっと読む）

印刷装置は、相対的に移動する被印刷体上に小滴を吐出するための複数のノズルを備えた射出アセンブリと、被印刷体に対する射出アセンブリの相対的変位量を増大させる機構と、射出アセンブリに対する被印刷体の表面の所定の寸法の検出により、射出アセンブリの相対的変位量を変更するための機構を作動させるように構成されたセンサとを備えている。
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【課題】作業者の経験年数や熟練度にかかわらず、しかもシャフトの長手方向の形態に左右されることなく常に均一な塗膜による塗装を自動的に行うことが出来、作業性及び生産性の向上を図ることが出来る棒状部材のシゴキ自動塗装方法及びそのシゴキ自動塗装装置を提供する。
【解決手段】シゴキ自動塗装装置は、主として、棒状の被塗装部材Ｗを所定の間隔で縦向きに着脱可能に装着し、周回させながら間欠的に搬送する被塗装部材Ｗの供給装置１と、前記供給装置１から搬送されて来る被塗装部材Ｗを把持し、塗装装置３のクランプ位置４まで移送させる旋回可能な受渡し装置２と、受渡し装置２から供給された被塗装部材Ｗの上下端末部を縦向きにクランプし、被塗装部材Ｗの表面に塗料を自動的にシゴキ塗装する芯金ユニット５を備えた塗装装置３とから構成されている。この実施形態では、塗装の完了した被塗装部材Ｗを自動乾燥させるために、前記受渡し装置２の反対側の供給装置１に乾燥装置６が接続させた構成としている。 （もっと読む）

【課題】 基板を水平搬送手段から基板回転処理ユニットへ移載する機構を有する装置において、発塵の心配が無く、湿式処理が行われても不都合を生じることがなく、構造が簡単で、フットプリントも比較的小さい装置を提供する。
【解決手段】 基板回転処理ユニット１０およびローラコンベア１６を備え、ローラコンベアの搬送路終端部と対向するようにかつ基板Ｗを支持するフリーローラ２８の基板支持面とローラコンベアの基板搬送面とが同一高さとなるように配置されるキャリア板２０と、ローラコンベアの搬送路終端部からキャリア板上へ基板を水平移動させる移載アーム３２と、基板を支持したキャリア板を、基板受け渡し位置Ａから基板回転処理ユニットの回転保持円板１２上へ移動させる支持・移動機構とを備え、回転保持円板が、キャリア板の載置面および基板を保持する支持ピン４４、４６を有する。 （もっと読む）

【課題】試料９を塗布液２に浸漬し、その液面から引き上げ、試料９に塗布膜を形成し、乾燥装置によって試料９を乾燥するディップコータにおいて、全体を大幅にコンパクト化する。
【解決手段】タンク１に塗布液２が充填され、乾燥装置として乾燥炉７が使用され、これがタンク１の上方に配置され、ロッド８が乾燥炉７を貫通し、吊り下げ手段がロッド８の下端に設けられ、吊り下げ手段に試料９が吊り下げられ、アクチュエータ１２によってロッド８が下降および上昇し、試料９が塗布液２に浸漬され、その液面から引き上げられ、試料９に塗布膜が形成され、その後、試料９が乾燥炉７に導入され、乾燥炉７によって試料９が乾燥される。 （もっと読む）

【課題】 吸着されたワークを容易に真空破壊して解除することができる吸着テーブル装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供する。
【解決手段】 吸着テーブル装置１９は、マザー基板１２７の載置面に吸引溝７３が設けられ、該吸引溝７３に吸引孔７５を有し、マザー基板１２７の載置面の中心部と外側部に個別に備えられている。吸引孔７５は、エアー吸引・供給装置７１に接続され、外側部に設けられた吸引孔７３から中心部に向けて順次解除される。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の一般的な形成方法であるスピンコート法やバーコート法には、基体の縁端部で塗布膜が厚くなってしまうという問題があり、この問題を回避するためには、最終製品の樹脂基板よりも広い基体の上に溶液を塗布し、乾燥、焼成工程を経て樹脂基板を形成した後、基体に接着した樹脂基板を必要なサイズに切断しなければならなかった。
【解決手段】溶液を全面に塗布する基体を保持する載置部、この基体に近接する溶液を一部にだけ塗布する基体とを保持する載置部、該載置部の少なくとも一方が上昇および下降する手段、基体の表面から所要のギャップをおいて近接するバー、などを有する塗布装置によって、溶液を塗布した後、溶液を全面に塗布する基体を保持する載置部または溶液を一部にだけ塗布する基体を保持する載置部の少なくとも一方を上昇または下降することによって塗布膜を切断し、溶液を全面に塗布する基体上に厚みが一定の塗布膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 駆動用モータの動力伝達機構により、リフター機構の高さが高くなることのないリフター機構等を提供する。
【解決手段】 アクチュエータ１９１により正逆回転されるリードねじ１９２と、左右雄ねじ部２０２ａ、ｂにそれぞれ螺合する左右雌ねじ部材１９３，１９３と、左右雌ねじ部材１９３，１９３のスライド移動を動力変換して、これを昇降させる運動変換機構１９４と、を備え、運動変換機構１９４は、右雌ねじ部材１９３に固定され第１カム溝２３３を有する第１運動変換部材２２１と、左雌ねじ部材１９３に固定され第２カム溝２３３を有する第２運動変換部材２２１と、第１、第２運動変換部材をスライド自在に支持するスライドガイド２２２と、第１、第２カム溝２３３，２３３にそれぞれ係合する第１、第２従動子２５３、２３３を有し、ピンベース１７２を昇降自在に支持する昇降部材２２３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する基板処理装置において基板の大型化に無理なく効率的に対応すること。
【解決手段】このレジスト塗布ユニット（ＣＴ）８２は、プロセスラインＡの方向（Ｘ方向）に長く延びるステージ１１２を有し、このステージ１１２上で基板Ｇを噴出口１２０からの空気圧で浮上させて同方向（Ｘ方向）に平流しで搬送しながら、ステージ１１２上方に配置された定置型のレジストノズル１１４より基板Ｇ上にレジスト液を供給して、基板上面に一定の膜厚でレジスト塗布膜を形成する。ステージ１１２の両端部の搬入、搬出領域に属する各噴出口１２０については、空気の噴出流量を基板Ｇとの相対的な位置関係で個別的かつ自動的に切り換える噴出制御部（流量切換弁）をステージ１１２の内部に設けている。 （もっと読む）

【課題】 大型ガラス基板の端縁部の撓みが確実に防止される基板端縁部被膜の除去装置を提供する
【解決手段】 基板保持部２の軸４を伸張せしめ、チャック３を上昇させ、この上昇位置で基板Ｗを受け取る。この状態では基板Ｗは自重によって周辺部が下方に撓んでいる。次いで、軸４を縮めてチャック３をバー部材１７の上面と面一になるまで下降せしめる。すると、基板Ｗの周縁部下面がバー部材１７によって支持され、基板Ｗは水平状態で保持される。このとき、洗浄ユニット１０のスリット１１内には洗浄液（溶剤）が表面張力で保持されている。この状態から、左右の洗浄ユニット１０を前進させ、洗浄ユニット１０のスリット１１内に基板Ｗの端縁部を挿入する。 （もっと読む）

本発明は、処理ステーション内で、処理ラインを完全に再設計することなく環境の変化に容易に順応し得る、垂直方向に輸送される処理ライン加工部品輸送用の低コストで製造可能な直進マニプレータに関する。マニプレータは、少なくとも二つの処理ステーションを加工部品（９）に接続し、少なくとも一つの巻上要素（１１）、同様に、少なくとも一つのグリッパ要素（１２）を前記巻上要素（１１）に据えられた加工部品（９）に対して接続している、少なくとも一つのガイド手段に沿ってずらすことが可能な少なくとも一つの走行要素（１０）をそなえて構成される。巻上要素（１１）及びグリッパ要素（１２）はその上に据えられ、モジュラー様式にあって拡張可能であり、それによって、巻上要素（１１）は処理ステーションの多数列に渡って延在し、その上、ステーション内で保持された加工部品（９）は各々グリッパ要素（１２）によって掴まれ得る。
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被塗布体と吹付けアセンブリーとの距離を調節可能な液状物質塗布機の昇降装置が開示される。昇降装置は、駆動部材により互いに逆方向に選択的に往復動する１組のスライダーを有する摺動部材と、前記スライダーの上部に配設されると共に、前記スライダーの往復動区間と対応する個所に形成されたガイド長孔を有する枠体と、前記ガイド長孔を介して前記１組のスライダーとそれぞれ結合されるように前記枠体の上面に載置されると共に、その上端は平板テーブルを支持する１組のクロスリンク部材と、を備える。前記クロスリンク部材は、略中央部分において互いにヒンジ結合する１組の単位リンクを備え、前記１組の単位リンクのうち一方の下端は前記スライダーと結合され、他方の下端は夫々平板テーブルにヒンジ結合され、前記枠体にヒンジ結合され、前記１組の単位リンクのうち一方の上端は前記平板テーブルにヒンジ結合され、他方の上端は前記平板テーブルを回転可能に支持して、前記スライダーの往復動により前記平板テーブルを昇降させる。 （もっと読む）

【課題】装置コストを比較的安価にでき、フラックスの消費量を低減でき、作業効率の高いフラックス塗布装置を提供する。
【解決手段】基板１００を保持する基板保持板２と、基板１００の下方に配置され、フラックスＦＬを収容するフラックス容器４０と、フラックスＦＬを塗布すべき塗布領域Ｃｒの形状に合致した接触面をもち、フラックスＦＬを吸収保持するスポンジ部材５０と、接触面が塗布領域Ｃｒに対向する対応する位置にスポンジ部材５０を保持し、スポンジ部材５０を下降させてフラックス容器４０内のフラックスＦＬに浸漬させ、スポンジ部材５０を上昇させて基板１００に対して下方から接触面を押し当てることにより、基板の塗布領域にフラックスを塗布する可動板１０、ガイドロッド１１およびアクチュエータ２０からなる移動機構とを有する。 （もっと読む）