【課題】基板処理に要する時間を短縮させる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、主としてステージ３と、リフトピンＬＰと、架橋構造４と、スリットノズル４１と、ノズル昇降機構とを備える。基板処理装置では、搬送ロボット６と基板９０の受け渡しを行う位置（搬送高さ位置Ｌ２）よりも上の、離間高さ位置Ｌ５までスリットノズル４１を上昇させることができる。また、基板処理装置は、塗布処理後に退避位置へ向けて移動するスリットノズル４１が基板９０の上方にある間に、基板９０を搬送高さ位置Ｌ２に配置するよう、リフトピン昇降機構およびノズル昇降機構の動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】水置換が完了する間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、パターン品質が損なわれない、現像装置における基板搬送方法、基板搬送装置を提供する。
【解決手段】現像槽から水洗槽へは、その初期には現像液２０を基板の先端部の現像液量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部での現像液量を少なくＤ２、末期には先端部での現像液量を少なくＤ２保って行い、水置換は現像液量の少ない先端部から開始する。水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その初期には水を先端部で水量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部で少なくＤ２、末期には先端部での水量を少なくＤ２保って行い、エアナイフでの水の排除は水量の少ない基板の先端部から開始する。 （もっと読む）

【課題】ステージへの基板の固定に時間を要する場合であっても、塗布装置全体のサイクルタイムが長期化するのを抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】ステージの表面に基板を載置する基板載置工程と、ステージの表面に載置された基板上に初期膜を形成する初期膜形成工程と、塗布ユニットから塗布液を吐出させつつ、基板上に塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、を有する塗布装置の塗布方法において、基板載置工程は、基板をステージの表面に吸着する吸着工程を有しており、この吸着工程は、塗布開始位置を含む基板の初期膜形成領域を吸着する初期吸着工程と、初期膜形成領域を除く基板の塗布膜形成領域を吸着する本吸着工程とを含み、初期吸着工程が完了した後、本吸着工程が完了する前に、初期膜形成工程が開始される構成とする。 （もっと読む）

【課題】溝の周辺の雰囲気の影響により液体の伸び量が変動することを防止し、ノズルの液滴吐出量の測定精度を向上させることができる液滴量測定方法を提供する。
【解決手段】液滴を貯留可能な溝３２に、溝３２を覆うカバー部材４０を、少なくとも一の液滴が着弾可能に溝３２の一部を露出させた状態で装着する溝被覆工程と、溝３２の一部へ液滴を着弾させ、溝３２のカバー部材４０に覆われた部分に液滴を濡れ拡がらせる液滴伸張工程と、溝３２に濡れ拡がった液滴の長さを計測する計測工程と、を有し、液滴の長さの計測値に基づいて、液滴の量を推定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、スリット幅と流体流路の絞り幅とを容易に変更可能なリングヘッドを提供することにある。また、軸芯体の周面に高品位な塗膜が形成されてなるローラ部材の製造方法を提供することにある。
【解決手段】内部に環状の流体分配室を備え、第１のリング部材と第２のリング部材との間隙に構成される、内周面全周に開口しているスリットと、流体導入口と、該流体分配室と該スリットとを連結する環状流路とを有しているリングヘッドであって、該第１のリング部材と該第２のリング部材との間には、該スリットの幅を規定する所定の厚みを有するスペーサが配置されており、流体の流路は、該スペーサにより流路幅が絞られている絞り部を有し、該スペーサはリングヘッドから着脱可能であることを特徴とするリングヘッド及び該リングヘッドを用いたローラ部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に塗布した塗布液を風紋などを生じることなく短時間の内に乾燥せしめる塗布装置を提供する。
【解決手段】密閉チャンバー１内に基板Ｗを載置する支持ピン２上と天板（整流板）３を設け、密閉チャンバー１は側面に外部に配置したロボット４との間で基板Ｗの受け渡しを行うための開口が形成され、この開口をシリンダユニット６の駆動で上下する蓋体７で開閉するようにし、前記天板３は複数に分割されており各々独立してシリンダユニット１２，１３によって昇降動せしめられる。 （もっと読む）

【課題】スリットダイを用いたウェブの間欠塗布装置において、ウェブの高い走行精度が必要なく、次工程の影響を無視でき、更にウェブの加減速範囲の速度ばらつきに関係なく、均一な塗布膜厚面を得ることができるウェブ塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布ユニット部が、同一ステージ上に、ウェブをニップして間欠搬送する二組のニップ手段と、ウェブ搬送面の下方側にウェブ保持用の吸着定盤と、上方側にスリットダイとを具備し、ウェブがニップ間で停止して吸着定盤に吸着保持された状態で、スリットダイで塗布し、塗布後吸着定盤と下流側ニップを離間してウェブを送り出す機構を具備しているウェブ塗布装置。さらに本装置は、塗布ユニット部は、ウェブ塗布装置全体の上流部分及び下流部分ら分離して独自の除振機構を具備し、また、塗布ユニット部に近接した上流部分及び近接した下流部分に、それぞれダンサー機構を具備する、 （もっと読む）

【課題】チャンバ蓋部における溶接部分の剥離等の発生を抑制することにより不良基板が生産されるのを抑えることのできる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板載置部に対して相対的に接離可能なチャンバ蓋部を備え、この基板載置部とチャンバ蓋部とによって形成される基板収容部内に、塗布液が塗布された基板を収容した状態で前記基板収容部内を減圧させることにより前記塗布液を乾燥させる減圧乾燥装置において、前記チャンバ蓋部は、前記基板載置部と対面するとともに４つの縁辺部を有する四辺形状を有しており、基板載置部側と反対側の外表面には、隣り合う縁辺部と交差する方向に延びるように補強リブを溶接する。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布される液状体の厚さの分布を均一にすることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、前記基板の浮上高さを測定する非接触センサが設けられていることを特徴とする。基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布装置において基板の浮上高さを測定する非接触センサが設けられていることとしたので、実際の基板の浮上量を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】設備の大型化及び設備コストを抑制するとともに、塗工桶内の塗料の乾燥を防止して、被塗装物の表面の塗装ムラの発生や異物の付着等による塗装不良の発生を防止することができる塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】塗膜形成装置１Ａは、塗料供給ユニット１０と塗布ユニット１１とを備えている。塗布ユニット１１は保持部１８と移動部１９と塗工桶２０とを備えている。保持部１８は基体４を支持する支持具２４を備えている。塗工桶２０は移動部１９により軸芯Ｐに沿って移動される。塗工桶２０はシール部材４１とカバー部材４２とを備えている。シール部材４１は弾性材料からなり気体４及び支持具２４と当接すると弾性変形する。カバー部材４２は塗工桶２０が支持具２４と相対した際に支持具２４と当接して該塗工桶２０内の空間を密閉して塗料供給ユニット１０から供給された塗料の乾燥を防止する。 （もっと読む）

【課題】装置コストの大幅なアップなしに、柔軟な素材からなる場合であっても、円筒形部材の内外面を同時に、精度、及び、効率良く塗布を行う円筒状部材の内外面同時塗装方法を提供する。
【解決手段】円筒状部材をその軸が鉛直になるよう保ちながら内外面を同時に塗装する円筒状部材の内外面同時塗装方法において、円筒状部材の内部となるように設けられた、円筒状部材の内面の全周に対し、放射状に第１の塗料を吐出するスリット状の第１のノズルと、第１のノズルに対向するように円筒状部材の外部となるように、円筒状部材の外面の全周に対し、円筒状部材の軸方向に第２の塗料を環状に吐出するスリット状の第２のノズルと、により、かつ、第１のノズルから吐出される第１の塗料が円筒状部材の内面に接触する高さと、第２のノズルから吐出される第２の塗料が円筒状部材の外面に接触する高さと、が同じになる位置で、内外面を同時に塗装する。 （もっと読む）

【課題】機能性材料の塗布液の粘度に依存せず、吐出安定性に優れ、柱状又は筒状の被塗布物外周面に膜厚のバラツキが抑制された良好な機能膜を形成可能な機能性材料塗布装置、及び機能性材料塗布方法を提供すること。
【解決手段】機能性材料を含む塗布液１４を連続して加圧して、環状吐出ヘッド１２のノズル１２３から液柱状の塗布液１４を吐出させ、その吐出した液柱状の塗布液１４を液滴化して、被塗布物１０へ塗布する。このように、連続的に加圧して塗布液１４を吐出させるため、高粘度の塗布液（例えば水に近い粘度３ｍＰａ・ｓ程度以下のものから、粘度３００ｍＰａ・ｓ程度の塗布物）でも、安定して塗布液１４を吐出し、被塗布物１０へ塗布することが可能となる。そして、柱状又は筒状の被塗布物外周面に膜厚のバラツキが抑制された良好な機能膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】丸棒状部材の部材外周面に、ホットメルトが適切に塗布されるようにする。
【解決手段】ディッピングローラ６０の外周付着面６０Ａに外周塗布面７０Ａが平行に臨むように配設した塗布ローラ７０は、第２駆動手段７４により回転駆動される。塗布ローラ７０の外周塗布面７０Ａに部材外周面１３を平行に臨ませる丸棒状部材１１は、部材支持部８２に支持された状態で第３駆動手段８８により回転駆動される。丸棒状部材１１の部材外周面１３全周にホットメルトＨＭの塗布が完了したら、第２駆動手段７４を制御して塗布ローラ７０の回転を停止させると共に、第３駆動手段８８を制御して丸棒状部材１１の回転を塗布時よりも増速させる。そして丸棒状部材１１を、増速回転した状態で塗布ローラ７０から離間させる。 （もっと読む）

【課題】ポンプの吐出圧力を必要以上に高くすることなく、定圧弁の二次側圧力若しくは二次側流量を一定に保って、定圧若しくは定流量の処理液の供給を実現できるようにすること。
【解決手段】処理液を貯留する処理液タンク３と、処理液を供給する処理液供給ノズル３６とを接続する配管２に、処理液タンク３から処理液を連続的に吐出するベローズポンプ４と、このベローズポンプ４の二次側に位置し、ベローズポンプ４による液流の脈動を抑制する定圧弁５と、を介設する処理液供給システムにおいて、配管２におけるベローズポンプ４の二次側に、ベローズポンプ４による液流の脈動の圧力低下を補完する気体を供給する気体供給源７を接続すると共に、この気体供給源７から配管２内に供給された気体を排出する気体抜き部８ａを有するフィルタ８を介設する。 （もっと読む）

【課題】均一な被覆層を形成することができるゴムローラの製造装置を提供する。
【解決手段】ゴムローラの製造装置は、ゴムローラ８の両端部を把持固定する把持部１，３を有する。ゴムローラの製造装置は、ゴムローラ８の外周を取り囲んだ状態でゴムローラ８の長手方向に移動可能であり、被覆層を成す塗工液をゴムローラ８の外周に吐出する塗工ヘッド２をさらに有する。ゴムローラの製造装置は、把持部１，３に付着した塗工液を把持部１，３から除去する除去部４，５をさらに有する。 （もっと読む）

【課題】ガントリの走行をガイドするレールが分割されている場合であっても、不良基板が大量に生産されるのを抑制し、塗布基板の歩留まりを向上させることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板を保持するステージが配設された基台と、前記基台に特定方向に延びた状態で設けられ、複数に分割されたレールと、前記レールに沿って前記基板に対して相対的に走行し、前記基板に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備える塗布装置であって、前記塗布ユニットの動作の変動を検出する変動検出手段が設けられ、この変動検出手段の検出結果により基板上における塗布状態の良否を判断し、塗布状態が不適であると判断した場合には、前記塗布ユニットを停止させるように構成する。 （もっと読む）

【課題】ワーク搬送経路２に沿って当該ワーク搬送経路２脇に複数の作業ブース１９〜２３が設けられ、搬送用走行体１には、各作業ブース１９〜２３との間でワークＷを移載するワーク移載手段１０が設けられた作業設備において、各作業ブースに搬入されるワークＷの位置を最適にしながら、設備全体のコストダウンを図る。
【解決手段】各作業ブース１９〜２３には、ワーク搬送経路２からの距離が作業ブース(19,20)(21)(22,23)によって異なるように設定された作業位置Ｙ１〜Ｙ４でワークＷを支持するワーク支持手段２８，３４，３７が配設され、搬送用走行体１のワーク移載手段１０で作業ブース１９〜２３に搬入されるワークが当該作業ブース１９〜２３に設定された作業位置Ｙ１〜Ｙ３でワーク支持手段２８，３４，３７により支持される。 （もっと読む）

【課題】複数の工程からなるパイプや棒状の基体を塗布する作業において、パレットを用いることによって、基体を次工程に受け渡す際に発生していた基体の取り外しと取り付け作業をなくし、作業効率を大幅に向上させることができる搬送装置及び搬送方法の提供。
【解決手段】中空部材のパイプや棒状部材のシャフトの基体を用い、該基体を把持する把持手段を対応させたパレットを有し、少なくとも、前記基体の表面に浸漬塗布を行う塗布工程及び、前記塗布工程で形成された前記シャフト上の塗布層を乾燥させる乾燥工程を含む各工程に前記パレットを搬送するパレット搬送移動台と、前記各工程のうち特定の工程にて、前記搬送移動台から、前記シャフトをセットしたまま前記パレットを保持して前記特定の工程の加工位置に移動して前記基体に加工させるパレット移載加工台とを有し、所定の加工終了後搬送移動台上に前記パレットを戻して次工程に移動させる基体搬送装置。 （もっと読む）

【課題】塗装ラインにおいて、水洗などの前処理されたワークの被塗装面の乾燥や塗装後のワークの塗装面の乾燥・焼付けなどに活用することができる熱処理装置を提案する。
【解決手段】下側開放の熱処理炉４０、この熱処理炉４０内の加熱手段（熱風循環経路５４、加熱手段５５、熱風循環用ブロワー５６、及びコントローラー５７）、当該熱処理炉４０の真下に位置させることができるワーク支持台４５、及び熱処理炉４０とワーク支持台４５とを相対的に昇降移動させてワーク支持台４５上で支持されたワークＷを熱処理炉４０に対して上下方向に出し入れする昇降駆動手段４４から構成された熱処理装置。 （もっと読む）

【課題】複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度を副走査方向において均一とする。
【解決手段】塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１および第１ノズル１４１の副走査方向における基板９の相対移動方向後側（以下、単に「後側」という。）の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。そして、後側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの後側の領域において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの両側における溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、後側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。 （もっと読む）