塗布装置および塗布方法
【課題】複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度を副走査方向において均一とする。
【解決手段】塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１および第１ノズル１４１の副走査方向における基板９の相対移動方向後側（以下、単に「後側」という。）の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。そして、後側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの後側の領域において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの両側における溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、後側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。
【解決手段】塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１および第１ノズル１４１の副走査方向における基板９の相対移動方向後側（以下、単に「後側」という。）の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。そして、後側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの後側の領域において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの両側における溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、後側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に揮発性の溶媒を含む流動性材料を塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板（以下、単に「基板」という。）上にレジスト液等の流動性材料を塗布する装置として、特許文献１および２に開示されているように、流動性材料を連続的に吐出するノズルを基板上で走査することにより、基板の主面全域に対して互いに接触する複数の平行線状に流動性材料を塗布する塗布装置が知られている。
【０００３】
このような塗布装置では、流動性材料の膜厚の均一性を向上するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献１では、レジスト塗布装置により塗布液が塗布された基板を、レジスト塗布装置とは別に設けられた溶剤雰囲気装置において塗布液の溶剤雰囲気に曝すことにより、溶剤を塗布液表面に付着させて塗布液表面の粘性を低下させ、その後、基板が収容されている容器内に気流を形成して当該気流により塗布液の表面を平坦化する技術が開示されている。特許文献１では、また、塗布液が塗布された基板が収容されている容器内を加圧することにより塗布液の揮発を抑制する技術も開示されている。
【０００４】
特許文献２の塗布成膜装置では、基板の上方２ｍｍ以内の位置に基板のほぼ全体を覆う乾燥防止板を設け、当該乾燥防止板に形成された直線状の隙間において、絶縁膜用の塗布液を吐出するノズルを基板に対して走査することにより、基板上に一様に塗布液が塗布される。これにより、基板と乾燥防止板との間に高濃度の溶剤雰囲気が形成され、基板に塗布された塗布液の乾燥が抑制される。また、特許文献２の塗布成膜装置では、溶剤をしみ込ませたスポンジ部材を乾燥防止板上に設け、スポンジ部材から蒸発する溶剤蒸気を乾燥防止板に形成された供給孔から基板と乾燥防止板との間に供給することにより、基板と乾燥防止板との間の溶剤濃度がより高くされる。
【特許文献１】特開２００３−１７４０２号公報
【特許文献２】特開２００５−１３７８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、流動性材料を吐出するノズルを走査することにより基板に流動性材料を塗布する塗布装置は、平面表示装置用の基板に対して画素形成材料を含む流動性材料を塗布する際にも利用されている。このような装置では、例えば、所定のピッチにて配列された複数のノズルの走査、および、走査方向に垂直な方向への基板のステップ移動が繰り返されることにより、基板上に形成された隔壁間の複数の溝に流動性材料がストライプ状に塗布される。
【０００６】
基板上では、流動性材料の各ラインから溶媒成分が蒸発することにより、画素形成材料が基板上に定着して画素形成材料の膜が形成され、溶媒が蒸発するまでの間に、画素形成材料が流動性材料の各ライン内において十分に分散することにより、画素形成材料の膜厚が均一となる。
【０００７】
しかしながら、複数のノズルにより流動性材料を塗布する場合、基板のステップ移動方向の後側には流動性材料が塗布されていないため、複数のノズルのうち、ステップ移動方向に関して最も後側に位置するノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲では、当該ラインのステップ移動方向に関する後側における雰囲気中の溶媒成分の濃度が前側における濃度よりも低くなっている。
【０００８】
このため、当該ノズルにより塗布された流動性材料のラインのステップ移動方向に関する後側の部位が、前側の部位よりも早く乾燥してしまい、基板上に形成される画素形成材料の膜において、後側の部位の膜厚が前側の部位の膜厚よりも大きくなってしまう。その結果、基板全体としてみた場合に塗布ムラが発生してしまい、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度を副走査方向において均一とすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構とを備え、前記吐出機構が、前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する第１吐出部と、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側に配置され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を吐出することにより、前記基板上の前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する第２吐出部とを備える。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記吐出機構において、前記第１吐出部に対する前記第２吐出部の相対位置が固定されている。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記第１吐出部が、前記第１流動性材料を連続的に吐出し、前記第２吐出部が、前記第２流動性材料を連続的に吐出する。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、前記第２吐出部が、前記副走査方向に関して位置が異なる複数の吐出口から前記第２流動性材料を吐出する。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記吐出機構が、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側に配置されて前記第２流動性材料を吐出するもう１つの第２吐出部をさらに備え、前記第１吐出部による前記第１流動性材料の塗布開始時に、前記もう１つの第２吐出部が前記主走査方向に移動しつつ前記第２流動性材料を吐出することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第２流動性材料が塗布される。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部をさらに備える。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、前記第１流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板上の塗布領域に向けて揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、前記吐出機構の前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されるとともに、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部とを備える。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の塗布装置であって、前記ガス供給部が、前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って前記基板の前記主面に対向するとともに前記主面に向けて前記ガスを噴出する噴出口を有する。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、請求項８または９に記載の塗布装置であって、前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するもう１つのガス供給部をさらに備える。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００２１】
請求項１２に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）吐出機構から基板に向けて流動性材料を吐出しつつ前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、ｂ）前記基板の前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記基板を前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程とを備え、前記ａ）工程が、ｄ）前記吐出機構の第１吐出部において前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程と、ｅ）前記ｄ）工程と並行して、または、前記ｄ）工程よりも前に、前記ｄ）工程にて塗布される前記第１流動性材料に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を第２吐出部から吐出することにより前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程とを備える。
【００２２】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の塗布方法であって、前記ｄ）工程において、前記第１流動性材料が連続的に吐出され、前記ｅ）工程において、前記第２流動性材料が連続的に吐出される。
【００２３】
請求項１４に記載の発明は、請求項１２または１３に記載の塗布方法であって、前記ａ）工程よりも前に、ｆ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記複数の吐出口から前記第１流動性材料を吐出しつつ前記第１吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程、または、ｇ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記第２吐出部から前記第２流動性材料を吐出しつつ前記第２吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記非塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程を備える。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された第１流動性材料の乾燥速度を副走査方向においてほぼ均一とすることができる。請求項２の発明では、吐出機構および移動機構の構造を簡素化することができる。請求項５，６，１０および１４の発明では、塗布領域の相対移動方向前側に塗布される第１流動性材料の乾燥速度を副走査方向においてほぼ均一とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置１を示す平面図であり、図２は塗布装置１の右側面図である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、揮発性の溶媒（例えば、芳香族の有機溶媒の１つであるメシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン））および基板９上に付与される有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。
【００２６】
塗布装置１は、図２に示すように、基板９を保持する基板保持部１１を備え、図１および図２に示すように、基板保持部１１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図１中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向（すなわち、Ｚ方向）に向く軸を中心として回転する基板移動機構１２を備える。基板保持部１１は、内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。
【００２７】
塗布装置１は、また、基板９上に形成されたアライメントマーク（図示省略）を撮像して検出するアライメントマーク検出部１３、基板保持部１１（図２参照）上の基板９に向けて流動性材料を吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の主面に平行かつ副走査方向に垂直な方向（すなわち、図１中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、塗布ヘッド１４の移動方向（すなわち、Ｘ方向）に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、および、塗布ヘッド１４に流動性材料を供給する流動性材料供給部１８を備え、図１に示すように、これらの構成を制御する制御部２を備える。
【００２８】
塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が、塗布ヘッド１４を基板９に対して主走査方向に相対的に移動するとともに基板９を塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動する移動機構となる。後述するように、塗布装置１では、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布時に、基板９が基板保持部１１と共に副走査方向において図１中の（−Ｙ）側から（＋Ｙ）側に向けて移動する。すなわち、図１中の（＋Ｙ）側が副走査方向における基板９の相対移動方向前側となり、（−Ｙ）側が副走査方向における基板９の相対移動方向後側となる。換言すれば、図１中の（＋Ｙ）側は、基板９の副走査方向における移動の下流側であり、（−Ｙ）側が基板９の移動の上流側である。
【００２９】
塗布ヘッド１４は、同一種類の有機ＥＬ液を連続的に吐出する複数（本実施の形態では、３本）の第１ノズル１４１、複数の第１ノズル１４１に対して（−Ｙ）側および（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側および前側）にそれぞれ１本ずつ配置されて有機ＥＬ液の溶媒（以下、単に「溶媒」という。）を連続的に吐出する第２ノズル１４２、および、３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２を共に保持する吐出部保持部であるノズルホルダ１４３を備える。
【００３０】
塗布装置１では、ノズルホルダ１４３により、第１ノズル１４１に対する第２ノズル１４２の相対位置が固定されており、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２により、塗布ヘッド１４が基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、２本の第２ノズル１４２が３本の第１ノズル１４１と共に基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対移動する。
【００３１】
５本のノズル（すなわち、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２）は、図１中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともに図１中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。５本のノズルの吐出口は、副走査方向に関して等間隔にて配列されており、隣接する２本のノズルの吐出口の間の副走査方向に関する距離は、基板９の塗布領域９１（図１中において破線で囲んで示す。）上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）の３倍に等しくされる。
【００３２】
塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１から塗布領域９１の隔壁間に形成される３本の溝に有機ＥＬ液が吐出されて塗布される。塗布装置１により有機ＥＬ液が塗布される２本の溝の間には、他の塗布装置等により他の種類の有機ＥＬ液が塗布される２本の溝が挟まれている。基板９では、塗布領域９１の外側の領域９２は、ドライバ回路の組み込みや後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、有機ＥＬ液が塗布されるべきではない領域であり、以下、「非塗布領域９２」という。なお、非塗布領域９２には隔壁は形成されていない。
【００３３】
次に、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布について説明する。図３は、有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に載置されて保持され、アライメントマーク検出部１３からの出力に基づいて基板移動機構１２が駆動されて基板９が移動および回転し、図１中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。換言すれば、塗布ヘッド１４が、基板９に対する副走査方向における相対移動の開始端に位置する。
【００３４】
塗布ヘッド１４は、図１および図２中に実線にて示す待機位置（すなわち、図１中の（−Ｘ）側の受液部１６の上方）に予め位置している。このとき、基板９の塗布領域９１の図１中における（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）のエッジは、塗布ヘッド１４の（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間に位置する。
【００３５】
続いて、制御部２により塗布ヘッド１４が制御されて３本の第１ノズル１４１から有機ＥＬ液の吐出が開始され、第１ノズル１４１の副走査方向の両側（すなわち、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側）の第２ノズル１４２から溶媒の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構１５が制御されて塗布ヘッド１４の主走査方向の移動（すなわち、図１中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側への移動）が開始される。
【００３６】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の主走査方向への相対移動時に、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を基板９に向けて連続的に吐出することにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布され、有機ＥＬ液の塗布と並行して、当該３本の溝に塗布される有機ＥＬ液の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）において、塗布領域９１の１本の溝に溶媒が塗布される。
【００３７】
また、塗布領域９１に対する有機ＥＬ液および溶媒の塗布と並行して、有機ＥＬ液が塗布される３本の溝の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）において、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒がライン状に塗布される（ステップＳ１２）。このとき、基板９上において隣接する有機ＥＬ液の２本のラインの間の距離、および、隣接する有機ＥＬ液のラインと溶媒のラインとの間の距離は、隔壁ピッチの３倍に等しくされる。なお、図１中における塗布領域９１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の非塗布領域９２は図示省略のマスクにより覆われているため有機ＥＬ液および溶媒は塗布されない。
【００３８】
ここで、有機ＥＬ液および溶媒をそれぞれ第１流動性材料および第２流動性材料とすると、塗布ヘッド１４は、第１流動性材料および第２流動性材料を連続的に吐出する吐出機構であり、複数の第１ノズル１４１は、副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から第１流動性材料を吐出して塗布領域９１に塗布する第１吐出部となっている。また、複数の第１ノズル１４１（すなわち、第１吐出部）の（−Ｙ）側に配置される第２ノズル１４２は、第２流動性材料を吐出して塗布領域９１に塗布する第２吐出部となっており、複数の第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に配置される第２ノズル１４２は、第２流動性材料を吐出して非塗布領域９２に塗布するもう１つの第２吐出部となっている。
【００３９】
塗布ヘッド１４が図１および図２中に二点鎖線にて示す待機位置（すなわち、図１中の（＋Ｘ）側の受液部１６の上方）まで移動して塗布ヘッド１４の主走査方向における移動が終了すると、塗布ヘッド１４が制御部２により制御され、（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）の第２ノズル１４２からの溶媒の吐出が停止される（ステップＳ１３）。そして、基板移動機構１２が駆動され、基板９が基板保持部１１と共に図１中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの９倍に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１４）。このとき、塗布ヘッド１４では、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２から受液部１６に向けて有機ＥＬ液および溶媒が連続的に吐出されている。
【００４０】
塗布装置１では、有機ＥＬ液の溶媒として速乾性のものが利用されているため、第１ノズル１４１により塗布領域９１に塗布された有機ＥＬ液は、塗布された直後からステップＳ１４における基板９の副走査方向への移動の間に迅速に乾燥し（すなわち、有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し）、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で基板９上に残置されて（すなわち、付与されて）有機ＥＬ材料の膜が形成される。また、第２ノズル１４２から塗布領域９１および非塗布領域９２に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、塗布領域９１および非塗布領域９２上には残らない。
【００４１】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、塗布ヘッド１４が、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図１中において（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布される（ステップＳ１５）。このとき、３本の第１ノズル１４１のうち、（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液は、ステップＳ１２において（−Ｙ）側の第２ノズル１４２により溶媒が塗布された溝に塗布されるが、上述のように、第２ノズル１４２により塗布された溶媒は既に蒸発しているため、当該溝において有機ＥＬ液と先に塗布された溶媒とが混ざることはない。
【００４２】
主走査方向における塗布ヘッド１４の移動が終了すると、基板９が図１中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの９倍に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１６）。そして、基板保持部１１および基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ１７）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ１５に戻って塗布ヘッド１４が、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を吐出しつつ主走査方向に移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布される（ステップＳ１５）。その後、基板９が副走査方向に移動し、塗布終了位置まで移動したか否かの確認が行われる（ステップＳ１６，Ｓ１７）。
【００４３】
塗布装置１では、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動、および、基板９の（＋Ｙ）側へのステップ移動が繰り返され（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する主走査方向における相対移動が行われる毎に、基板９が塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動され）、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ１５〜Ｓ１７）。塗布装置１では、副走査方向に関し、基板９上において有機ＥＬ液の塗布が進行する方向（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動方向）は、基板移動機構１２による基板９の移動方向とは反対向きとなっている。
【００４４】
そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて塗布装置１による基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、１枚の基板９に対する塗布ヘッド１４の最後の主走査では、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２から吐出された溶媒は、図１中における塗布領域９１の（−Ｙ）側の非塗布領域９２に塗布される。塗布装置１による塗布が終了した基板９は、他の塗布装置等へと搬送され、塗布装置１により塗布された有機ＥＬ液以外の他の２色の有機ＥＬ液が塗布される。
【００４５】
以上に説明したように、塗布装置１では、塗布ヘッド１４が主走査方向に移動することにより、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。このとき、３本の第１ノズル１４１のうち、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、中央の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のライン、および、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２により並行して塗布された溶媒のラインにより挟まれている。このため、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、両側のラインから蒸発した溶媒により、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。
【００４６】
また、中央の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のラインにより挟まれており、（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、中央の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のライン、および、先に塗布された有機ＥＬ液のライン群により挟まれている。このため、中央および（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲でも、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインと同様に、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。
【００４７】
ここで、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズルのみが塗布ヘッドに設けられている塗布装置を比較例とすると、比較例の塗布装置において（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向前側）の第１ノズル、および、中央の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、上記と同様に、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。しかしながら、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向後側）の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側には、他の有機ＥＬ液および溶媒のラインは塗布されておらず、（＋Ｙ）側にのみ、中央の第１ノズルにより並行して塗布された有機ＥＬ液のラインが配置されることとなる。
【００４８】
このため、（−Ｙ）側の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、（＋Ｙ）側および中央の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲と比べて有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が低くなってしまい、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度が、（＋Ｙ）側の２本の有機ＥＬ液のラインよりも大きくなってしまう。また、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの周囲では、当該ラインの（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が、ラインの（＋Ｙ）側における濃度よりも低くなってしまい、ラインの（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも早く乾燥してしまう。
【００４９】
図４．Ａは、比較例の塗布装置の３本の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発することにより、基板９ａ上の塗布領域９１ａに形成された有機ＥＬ材料の３本の膜９３ａを示す断面図である。図４．Ａでは、図示の都合上、基板９ａの塗布領域９１ａに形成されている隔壁の図示を省略しており、また、膜９３ａの高さを実際よりも大きく描いている（図４．Ｂにおいても同様）。
【００５０】
比較例の塗布装置では、上述のように、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも早く乾燥してしまうため、図４．Ａに示すように、（−Ｙ）側の膜９３において、（−Ｙ）側の部位の膜厚が（＋Ｙ）側の部位の膜厚よりも大きくなってしまう。そして、このように厚さに偏りがある有機ＥＬ材料の膜９３ａが、塗布領域９１ａに周期的に（すなわち、３本毎に）形成されて塗布ムラが発生することにより、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。
【００５１】
これに対し、本実施の形態に係る塗布装置１では、上述のように、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。また、３本の第１ノズル１４１のうち（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の領域（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側の領域であり、有機ＥＬ液がまだ塗布されていない領域）において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。
【００５２】
これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、図４．Ｂに示すように、隣接する有機ＥＬ材料の３本の膜９３の断面をほぼ同形状とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００５３】
ところで、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の基板に対する塗布では、塗布ムラが発生すると、製品となった後の平面表示装置の表示の質が低下する恐れがある。本実施の形態に係る塗布装置１では、上述のように、塗布ムラの発生を防止することができるため、塗布装置１は、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の塗布に特に適しているといえる。
【００５４】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の吐出開始時に、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２から塗布開始位置に位置する基板９に対して（すなわち、副走査方向における塗布ヘッド１４の相対移動の開始端側において）吐出された溶媒が、塗布領域９１（＋Ｙ）側の非塗布領域９２（すなわち、塗布領域９１の基板９の相対移動方向前側の領域であり、有機ＥＬ液が塗布されない領域）において蒸発する。これにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側に塗布された有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００５５】
塗布ヘッド１４では、一のノズルホルダ１４３により３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２が共に保持されることにより、第１ノズル１４１に対する第２ノズル１４２の相対位置が固定されるため、塗布ヘッド１４、および、塗布ヘッド１４を基板９に対して相対的に移動する移動機構の一部であるヘッド移動機構１５の構造を簡素化することができる。なお、副走査方向に関して、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間の距離は、必ずしも第１ノズル１４１のピッチ（本実施の形態では、隔壁ピッチの３倍に等しい。）と等しくされる必要はない（第２および第３の実施の形態においても同様）。また、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間の副走査方向に関する距離も、必ずしも第１ノズル１４１のピッチと等しくされる必要はない。
【００５６】
次に、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図５は、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａの平面図である。図５に示すように、塗布装置１ａの塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）に、溶媒を吐出する２本の第２ノズル１４２が設けられており、（＋Ｙ）側には第２ノズル１４２は設けられない。また、塗布装置１ａは、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１の上面に固定され、有機ＥＬ液の溶媒成分を含むガス（本実施の形態では、有機ＥＬ液の溶媒を気化したものであり、以下、「溶媒ガス」という。）を基板９に対して供給するガス供給部１９を備える。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００５７】
図５に示すように、塗布ヘッド１４の５本のノズル（すなわち、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２）は、図５中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともに図５中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。
【００５８】
塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、第１吐出部である３本の第１ノズル１４１が、副走査方向に関して等間隔（すなわち、隔壁ピッチの３倍のピッチ）にて配列された３つの吐出口を有し、３つの吐出口から基板９に向けて第１流動性材料である有機ＥＬ液が吐出される。また、第２吐出部である２本の第２ノズル１４２は、副走査方向に関して隔壁ピッチの３倍の距離をあけて配置された２つの吐出口を有し、２つの吐出口から第２流動性材料である有機ＥＬ液の溶媒が吐出される。また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１と（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２との間の副走査方向に関する距離も、隔壁ピッチの３倍とされる。
【００５９】
ガス供給部１９は、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた棒状の多孔性樹脂（例えば、スポンジ等）であり、基板９の塗布領域９１のＸ方向（すなわち、主走査方向）の全長に亘って基板保持部１１の主面上に取り付けられる。したがって、基板移動機構１２により基板保持部１１が移動されると、ガス供給部１９は、基板９に対して相対的に固定された状態で、基板９と共に副走査方向に移動することとなる。そして、ガス供給部１９に含浸された溶媒が蒸発することにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給される。
【００６０】
次に、塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布について説明する。図６は、塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ａにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ２１）。続いて、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図５中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動されることにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布されるとともに、当該３本の溝の（−Ｙ）側において、塗布領域９１の２本の溝に溶媒が塗布される（ステップＳ２２）。このとき、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位（すなわち、塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジ近傍の部位）には、ガス供給部１９により溶媒ガスが供給されている。
【００６１】
次に、基板移動機構１２により基板９が図５中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ２３）。基板９上では、第１の実施の形態と同様に、第１ノズル１４１により塗布領域９１に塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で基板９上に付与されて有機ＥＬ材料の膜が形成される。また、第２ノズル１４２から塗布領域９１に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、塗布領域９１上には残らない。
【００６２】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板保持部１１および基板９が図５中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ２４）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ２２に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。
【００６３】
塗布装置１ａでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００６４】
以上に説明したように、塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされており、また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲において、当該ラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００６５】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、特に、第１ノズル１４１の（−Ｙ）側に２本の第２ノズル１４２を設けることにより、各第２ノズル１４２から吐出されて塗布領域９１に塗布される溶媒の量を低減しつつ、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差を小さくすることができる。その結果、各第２ノズル１４２により塗布領域９１に塗布された溶媒のラインの蒸発に要する時間を短縮することができ、後から塗布される有機ＥＬ液が先に塗布された溶媒と混ざってしまうことをより確実に防止することができる。
【００６６】
なお、２本の第２ノズル１４２の吐出口は、副走査方向に関して必ずしも隔壁ピッチの３倍の距離をあけて配置される必要はなく、副走査方向に関して位置が異なるように配置されていればよい。これにより、上記と同様に、各第２ノズル１４２により塗布領域９１に塗布された溶媒のラインの蒸発に要する時間を短縮することができ、後から塗布される有機ＥＬ液が先に塗布された溶媒と混ざってしまうことをより確実に防止することができる。
【００６７】
また、塗布装置１ａでは、基板９の（＋Ｙ）側にガス供給部１９が設けられることにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。その結果、第１の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。なお、ガス供給部１９からのガスの噴出は、塗布ヘッド１４の１回目の主走査終了後に停止されてもよい。
【００６８】
塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布では、ガス供給部１９により溶媒ガスを供給することにより、第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に第２ノズル１４２を設ける場合に比べて、有機ＥＬ液の塗布作業中における（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２からの吐出停止動作を省略することができ、有機ＥＬ液の塗布を簡素化することができる。また、２本の第２ノズル１４２の吐出開始および停止を同時に行うことができるため、塗布ヘッド１４の構造を簡素化することができる。一方、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、基板保持部１１上にガス供給部１９（図５参照）を設ける必要がないため、基板保持部１１の構造を簡素化することができる。
【００６９】
次に、本発明の第３の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図７は、第３の実施の形態に係る塗布装置１ｂを示す平面図である。図７に示すように、塗布装置１ｂの塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）に溶媒を吐出する第２ノズル１４２が１本のみ設けられており、（＋Ｙ）側には第２ノズル１４２は設けられない。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００７０】
図８は、塗布装置１ｂによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ｂにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１（図２参照）に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ３１）。このとき、塗布ヘッド１４の４本のノズル（すなわち、３本の第１ノズル１４１および１本の第２ノズル１４２）は、図７中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に関し、基板９の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）のエッジと、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジとの間、すなわち、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に対応する位置に位置する。
【００７１】
続いて、制御部２によりヘッド移動機構１５が制御されることにより、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図７中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動する。これにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側（すなわち、外側）の非塗布領域９２に有機ＥＬ液および溶媒がストライプ状に塗布される（ステップＳ３２）。次に、制御部２により基板移動機構１２が制御されることにより、基板９が基板保持部１１と共に図７中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ３３）。
【００７２】
基板９上では、第１ノズル１４１により非塗布領域９２に塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で非塗布領域９２上に残置される。また、第２ノズル１４２から非塗布領域９２に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、非塗布領域９２上には残らない。塗布装置１ｂでは、ステップＳ３３における基板９の副走査方向への移動により、塗布ヘッド１４の図７中の（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１は、塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジの（−Ｙ）側に位置する。換言すれば、塗布ヘッド１４の４本のノズルが、副走査方向に関して塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に対応する位置に位置する。
【００７３】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、制御部２によりヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が制御され、塗布ヘッド１４が図７中において（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布され、その後、基板９が（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ３４，Ｓ３５）。
【００７４】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板保持部１１および基板９が図７中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ３６）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ３４に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ３４〜Ｓ３６）。
【００７５】
塗布装置１ｂでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ３４〜Ｓ３６）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および１本の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００７６】
以上に説明したように、塗布装置１ｂでは、第１の実施の形態と同様に、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされており、また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲において、当該ラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００７７】
塗布装置１ｂでは、特に、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液および溶媒が塗布され、これらの有機ＥＬ液および溶媒のラインから溶媒が蒸発することにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなる。その結果、第１および第２の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。なお、非塗布領域９２に塗布された有機ＥＬ液により形成された有機ＥＬ材料の膜は、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布終了後に除去される。
【００７８】
塗布装置１ｂでは、塗布ヘッド１４において第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に第２ノズル１４２を設ける必要がなく、また、基板保持部１１上にガス供給部１９を設ける必要もないため、塗布装置の構造を簡素化することができる。一方、第１および第２の実施の形態に係る塗布装置では、非塗布領域９２からの有機ＥＬ材料の除去作業を行う必要がないため、有機ＥＬ液の塗布を簡素化することができる。
【００７９】
次に、本発明の第４の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図９および図１０は、第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃを示す平面図および右側面図である。図９および図１０に示すように、塗布装置１ｃの塗布ヘッド１４には、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１が設けられており、溶媒を吐出する第２ノズルは設けられていない。また、塗布装置１ｃは、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）において基板保持部１１および基板移動機構１２を跨いで設けられるとともに基板９に対して溶媒ガスを連続的に供給するガス供給部１９ａを備える。さらに、図５に示す塗布装置１ａと同様に、図９に示す基板９の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）において基板保持部１１の上面に固定されるとともに基板９に対して溶媒ガスを供給するもう１つのガス供給部１９ｂを備える。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。また、以下の説明では、ガス供給部１９ａ，１９ｂを区別するために、それぞれ、「第１ガス供給部１９ａ」および「第２ガス供給部１９ｂ」という。
【００８０】
図９および図１０に示す第１ガス供給部１９ａは、噴出口１９１から基板９の主面に向けて溶媒ガスを連続的に噴出するガス噴出機構であり、基板移動機構１２およびヘッド移動機構１５と共に図示省略の基台に固定されているため、第１ガス供給部１９ａの塗布ヘッド１４に対する主走査方向および副走査方向の相対位置は固定されている。第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１は、Ｘ方向の全長が基板９の塗布領域９１（図９参照）のＸ方向の全長よりも長いスリット状であり、塗布領域９１のＸ方向（すなわち、主走査方向）の全長に亘って基板９の主面に対向する。
【００８１】
また、図９に示す第２ガス供給部１９ｂは、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａのガス供給部１９（図５参照）と同様に、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた棒状の多孔性樹脂（例えば、スポンジ等）であり、基板９の塗布領域９１のＸ方向の全長に亘って基板保持部１１の主面上に取り付けられて基板９に対して相対的に固定される。塗布装置１ｃでも、塗布装置１ａと同様に、第２ガス供給部１９ｂに含浸された溶媒が蒸発することにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給される。
【００８２】
図１１は、塗布装置１ｃによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ｃにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ４１）。続いて、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１から有機ＥＬ液を連続的に吐出しつつ図９中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動されることにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される（ステップＳ４２）。このとき、第１ガス供給部１９ａから基板９の塗布領域９１に向けて噴出された溶媒ガスは、有機ＥＬ液が塗布される３本の溝の（−Ｙ）側において塗布領域９１に供給される。また、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位には、第２ガス供給部１９ｂにより溶媒ガスが供給されている。
【００８３】
次に、基板移動機構１２により基板９が図９中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動された後、基板保持部１１および基板９が図９中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認される（ステップＳ４３，Ｓ４４）。そして、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ４２に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ４２〜Ｓ４４）。
【００８４】
塗布装置１ｃでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ４２〜Ｓ４４）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００８５】
以上に説明したように、塗布装置１ｃでは、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側に第１ガス供給部１９ａが設けられ、副走査方向において塗布ヘッド１４と共に基板９に対して相対的に移動しつつ基板９の塗布領域９１に溶媒ガスを供給することにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の領域（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側の領域であり、有機ＥＬ液がまだ塗布されていない領域）における有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。その結果、第１の実施の形態と同様に、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００８６】
塗布装置１ｃでは、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１が、塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って設けられることにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液の副走査方向における乾燥速度の均一性を、主走査方向に伸びる当該有機ＥＬ液のラインの全長に亘って向上することができる。これにより、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００８７】
また、基板９の（＋Ｙ）側に第２ガス供給部１９ｂが設けられることにより、第２の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００８８】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００８９】
例えば、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に設けられる第２ノズル１４２に代えて、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２の上方において基板保持部１１に取り付けられるとともに溶媒を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動可能とされる（すなわち、副走査方向において基板９に対して相対的に固定された）溶媒ノズルが設けられてもよい。この場合、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動と並行して、基板保持部１１に取り付けられた溶媒ノズルが、塗布ヘッド１４の移動方向と同じ方向へと移動することにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒が塗布され、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。また、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布では、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液の吐出停止（ステップＳ１３）と基板９の（＋Ｙ）方向への移動（ステップＳ１４）とは並行して行われてもよく、ステップＳ１４がステップＳ１３よりも前に行われてもよい。
【００９０】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、２本の第２ノズル１４２が、第１ノズル１４１を備える塗布ヘッド１４とは独立して主走査方向に移動可能な他の塗布ヘッドに設けられてもよい。この場合、第２ノズル１４２による溶媒の塗布は、必ずしも第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の塗布と並行して行われる必要はなく、第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の塗布よりも前に（好ましくは、有機ＥＬ液の塗布の直前に）、有機ＥＬ液が塗布される予定の溝の（−Ｙ）側に溶媒が塗布されてもよい。
【００９１】
また、塗布装置１ａでは、ガス供給部１９として、必ずしも有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた多孔質樹脂が用いられる必要はなく、例えば、溶媒を含浸させた脱脂綿等の繊維が利用されてもよい。あるいは、第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃの第１ガス供給部１９ａと同様のガス噴出機構が、ガス供給部１９として基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１に固定されてもよく、また、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１の上面に形成された主走査方向に伸びる溝部に溶媒が貯溜され、当該溶媒が蒸発することにより基板９の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給されてもよい。さらには、主走査方向に移動可能な溶媒ガスを噴出するガスノズルが基板保持部１１に取り付けられ（すなわち、基板９に対する相対位置が固定され）、ガスノズルが溶媒ガスを噴出しつつ主走査方向に移動することにより、基板９の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給されてもよい（塗布装置１ｃにおいても同様）。
【００９２】
第３の実施の形態に係る塗布装置１ｂでは、第１ノズル１４１からの有機ＥＬ液の吐出が開始されておらず、第２ノズル１４２からの溶媒の吐出のみが行われている状態で、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動が行われることにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒のみが塗布されてもよい。また、塗布開始位置において第２ノズル１４２が塗布領域９１に対応する位置に位置するように基板９の位置が調整されることにより、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動において、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液のみが塗布されてもよい。さらには、（＋Ｙ）側の１本の第１ノズル１４１のみが非塗布領域９２上を走査されることにより、非塗布領域９２に１本の有機ＥＬ液のラインが塗布されてもよい。いずれの場合であっても、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００９３】
第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでは、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１から、溶媒ガスが断続的に噴出されてもよい。また、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１は、必ずしも塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って伸びるスリット状である必要はなく、例えば、塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って配列された複数の小さな噴出口が第１ガス供給部１９ａに設けられてもよい。
【００９４】
さらには、主走査方向に移動可能な溶媒ガスを噴出するガスノズルが、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側において基板９および基板保持部１１を跨いで設けられ（すなわち、副走査方向における塗布ヘッド１４に対する相対位置が固定された状態で設けられ）、ガスノズルが溶媒ガスを噴出しつつ主走査方向に移動することにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側において基板９に対して溶媒ガスが供給されてもよい。
【００９５】
塗布装置１ｃでは、ガス噴出機構である第１ガス供給部１９ａに代えて、例えば、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた多孔質樹脂や繊維が、副走査方向において塗布ヘッド１４に対する相対位置を固定された状態で塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側に設けられてもよい。このとき、多孔質樹脂等は、好ましくは塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って設けられる。
【００９６】
第１ないし第３の実施の形態に係る塗布装置では、第２ノズル１４２から吐出される溶媒は、必ずしも有機ＥＬ液の溶媒である必要はなく、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料である流動性材料であればよい。第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでも同様に、第１ガス供給部１９ａから有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料のガスが噴出され、基板９に対して供給されてよい。有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料とは、有機ＥＬ液の乾燥を遅延させることができる揮発性材料であり、好ましくは、有機ＥＬ液の溶媒と共通する成分、あるいは、類似の成分を含むものを意味する。上記実施の形態のように、有機ＥＬ液の溶媒としてメシチレンが使用されている場合には、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料として、アニソール（メトキシベンゼン）、トルエン、キシレン等の芳香族の有機溶媒が利用される。
【００９７】
また、第２および第４の実施の形態に係る塗布装置では、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１に固定されるガス供給部１９および第２ガス供給部１９ｂにより、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料のガスが供給されてもよい。なお、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、ガス供給部１９から供給されるガスが、第２ノズル１４２から吐出される流動性材料とは異なる種類の揮発性材料のガスであってもよい。第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでも同様に、第１ガス供給部１９ａから供給されるガスと第２ガス供給部１９ｂから供給されるガスとが異なる種類とされてもよい。
【００９８】
上記実施の形態に係る塗布装置では、基板移動機構１２による基板９および基板保持部１１の移動に代えて、塗布ヘッド１４が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板９の塗布ヘッド１４に対する相対移動が行われてもよい。また、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動に代えて、基板９および基板保持部１１が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動が行われてもよい。
【００９９】
上記塗布装置では、塗布ヘッド１４の３本の第１ノズル１４１から、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、塗布ヘッド１４では、隣接する２本の第１ノズル１４１の間の副走査方向に関する距離が隔壁ピッチと等しくされる。また、塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する第１ノズル１４１の本数は必ずしも３本には限定されず、２本、あるいは、４本以上の第１ノズル１４１が塗布ヘッド１４に設けられてもよい。さらには、これらの第１ノズル１４１から吐出される有機ＥＬ液は、隔壁が設けられていない塗布領域９１にストライプ状に塗布されてもよい。
【０１００】
ところで、基板９上に連続的に吐出された有機ＥＬ液のラインでは、有機ＥＬ液中の有機ＥＬ材料が主走査方向において比較的移動しやすいため、乾燥時間の差により有機ＥＬ材料の偏り大きくなって図４．Ａに示すように膜厚の差が生じやすい。上記実施の形態に係る塗布装置は、上述のように、有機ＥＬ液の乾燥時間の均一性を向上することできるため、有機ＥＬ液を連続的に吐出して基板に塗布する装置に特に適しているが、インクジェット方式のように断続的に流動性材料を吐出して基板上に塗布する装置にも適用することができる。
【０１０１】
上記実施の形態に係る塗布装置では、揮発性の溶媒（例えば、水）および正孔輸送材料を含む流動性材料が基板９に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【０１０２】
塗布装置は、１枚の基板から複数の有機ＥＬ表示装置を製造する（いわゆる、多面取りを行う）場合にも利用できる。また、上記塗布装置は、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。
【０１０３】
上述のように、塗布装置は、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができるため、製品となった際の表示の質の低下として塗布ムラが感得されやすい平面表示装置用の画素形成材料（上記実施の形態では、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料）を含む流動性材料の塗布に特に適しているが、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板や半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布装置を示す平面図である。
【図２】塗布装置の右側面図である。
【図３】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図４．Ａ】比較例の塗布装置により基板上に形成された有機ＥＬ材料の膜を示す断面図である。
【図４．Ｂ】本実施の形態に係る塗布装置により基板上に形成された有機ＥＬ材料の膜を示す断面図である。
【図５】第２の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図６】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図７】第３の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図８】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図９】第４の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図１０】塗布装置の右側面図である。
【図１１】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１，１ａ〜１ｃ 塗布装置
９ 基板
１１ 基板保持部
１２ 基板移動機構
１４ 塗布ヘッド
１５ ヘッド移動機構
１９ ガス供給部
１９ａ 第１ガス供給部
１９ｂ 第２ガス供給部
９１ 塗布領域
９２ 非塗布領域
１４１ 第１ノズル
１４２ 第２ノズル
１９１ 噴出口
Ｓ１１〜Ｓ１７，Ｓ２１〜Ｓ２４，Ｓ３１〜Ｓ３６，Ｓ４１〜Ｓ４４ ステップ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に揮発性の溶媒を含む流動性材料を塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板（以下、単に「基板」という。）上にレジスト液等の流動性材料を塗布する装置として、特許文献１および２に開示されているように、流動性材料を連続的に吐出するノズルを基板上で走査することにより、基板の主面全域に対して互いに接触する複数の平行線状に流動性材料を塗布する塗布装置が知られている。
【０００３】
このような塗布装置では、流動性材料の膜厚の均一性を向上するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献１では、レジスト塗布装置により塗布液が塗布された基板を、レジスト塗布装置とは別に設けられた溶剤雰囲気装置において塗布液の溶剤雰囲気に曝すことにより、溶剤を塗布液表面に付着させて塗布液表面の粘性を低下させ、その後、基板が収容されている容器内に気流を形成して当該気流により塗布液の表面を平坦化する技術が開示されている。特許文献１では、また、塗布液が塗布された基板が収容されている容器内を加圧することにより塗布液の揮発を抑制する技術も開示されている。
【０００４】
特許文献２の塗布成膜装置では、基板の上方２ｍｍ以内の位置に基板のほぼ全体を覆う乾燥防止板を設け、当該乾燥防止板に形成された直線状の隙間において、絶縁膜用の塗布液を吐出するノズルを基板に対して走査することにより、基板上に一様に塗布液が塗布される。これにより、基板と乾燥防止板との間に高濃度の溶剤雰囲気が形成され、基板に塗布された塗布液の乾燥が抑制される。また、特許文献２の塗布成膜装置では、溶剤をしみ込ませたスポンジ部材を乾燥防止板上に設け、スポンジ部材から蒸発する溶剤蒸気を乾燥防止板に形成された供給孔から基板と乾燥防止板との間に供給することにより、基板と乾燥防止板との間の溶剤濃度がより高くされる。
【特許文献１】特開２００３−１７４０２号公報
【特許文献２】特開２００５−１３７８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、流動性材料を吐出するノズルを走査することにより基板に流動性材料を塗布する塗布装置は、平面表示装置用の基板に対して画素形成材料を含む流動性材料を塗布する際にも利用されている。このような装置では、例えば、所定のピッチにて配列された複数のノズルの走査、および、走査方向に垂直な方向への基板のステップ移動が繰り返されることにより、基板上に形成された隔壁間の複数の溝に流動性材料がストライプ状に塗布される。
【０００６】
基板上では、流動性材料の各ラインから溶媒成分が蒸発することにより、画素形成材料が基板上に定着して画素形成材料の膜が形成され、溶媒が蒸発するまでの間に、画素形成材料が流動性材料の各ライン内において十分に分散することにより、画素形成材料の膜厚が均一となる。
【０００７】
しかしながら、複数のノズルにより流動性材料を塗布する場合、基板のステップ移動方向の後側には流動性材料が塗布されていないため、複数のノズルのうち、ステップ移動方向に関して最も後側に位置するノズルにより塗布された流動性材料のラインの周囲では、当該ラインのステップ移動方向に関する後側における雰囲気中の溶媒成分の濃度が前側における濃度よりも低くなっている。
【０００８】
このため、当該ノズルにより塗布された流動性材料のラインのステップ移動方向に関する後側の部位が、前側の部位よりも早く乾燥してしまい、基板上に形成される画素形成材料の膜において、後側の部位の膜厚が前側の部位の膜厚よりも大きくなってしまう。その結果、基板全体としてみた場合に塗布ムラが発生してしまい、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された流動性材料の乾燥速度を副走査方向において均一とすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構とを備え、前記吐出機構が、前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する第１吐出部と、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側に配置され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を吐出することにより、前記基板上の前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する第２吐出部とを備える。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記吐出機構において、前記第１吐出部に対する前記第２吐出部の相対位置が固定されている。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記第１吐出部が、前記第１流動性材料を連続的に吐出し、前記第２吐出部が、前記第２流動性材料を連続的に吐出する。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、前記第２吐出部が、前記副走査方向に関して位置が異なる複数の吐出口から前記第２流動性材料を吐出する。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記吐出機構が、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側に配置されて前記第２流動性材料を吐出するもう１つの第２吐出部をさらに備え、前記第１吐出部による前記第１流動性材料の塗布開始時に、前記もう１つの第２吐出部が前記主走査方向に移動しつつ前記第２流動性材料を吐出することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第２流動性材料が塗布される。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部をさらに備える。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、前記第１流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板上の塗布領域に向けて揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、前記吐出機構の前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されるとともに、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部とを備える。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の塗布装置であって、前記ガス供給部が、前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って前記基板の前記主面に対向するとともに前記主面に向けて前記ガスを噴出する噴出口を有する。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、請求項８または９に記載の塗布装置であって、前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するもう１つのガス供給部をさらに備える。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００２１】
請求項１２に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）吐出機構から基板に向けて流動性材料を吐出しつつ前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、ｂ）前記基板の前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記基板を前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程とを備え、前記ａ）工程が、ｄ）前記吐出機構の第１吐出部において前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程と、ｅ）前記ｄ）工程と並行して、または、前記ｄ）工程よりも前に、前記ｄ）工程にて塗布される前記第１流動性材料に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を第２吐出部から吐出することにより前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程とを備える。
【００２２】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の塗布方法であって、前記ｄ）工程において、前記第１流動性材料が連続的に吐出され、前記ｅ）工程において、前記第２流動性材料が連続的に吐出される。
【００２３】
請求項１４に記載の発明は、請求項１２または１３に記載の塗布方法であって、前記ａ）工程よりも前に、ｆ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記複数の吐出口から前記第１流動性材料を吐出しつつ前記第１吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程、または、ｇ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記第２吐出部から前記第２流動性材料を吐出しつつ前記第２吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記非塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程を備える。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、複数の吐出口のうち副走査方向における基板の相対移動方向後側に位置する吐出口から吐出された第１流動性材料の乾燥速度を副走査方向においてほぼ均一とすることができる。請求項２の発明では、吐出機構および移動機構の構造を簡素化することができる。請求項５，６，１０および１４の発明では、塗布領域の相対移動方向前側に塗布される第１流動性材料の乾燥速度を副走査方向においてほぼ均一とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置１を示す平面図であり、図２は塗布装置１の右側面図である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、揮発性の溶媒（例えば、芳香族の有機溶媒の１つであるメシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン））および基板９上に付与される有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。
【００２６】
塗布装置１は、図２に示すように、基板９を保持する基板保持部１１を備え、図１および図２に示すように、基板保持部１１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図１中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向（すなわち、Ｚ方向）に向く軸を中心として回転する基板移動機構１２を備える。基板保持部１１は、内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。
【００２７】
塗布装置１は、また、基板９上に形成されたアライメントマーク（図示省略）を撮像して検出するアライメントマーク検出部１３、基板保持部１１（図２参照）上の基板９に向けて流動性材料を吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の主面に平行かつ副走査方向に垂直な方向（すなわち、図１中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、塗布ヘッド１４の移動方向（すなわち、Ｘ方向）に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、および、塗布ヘッド１４に流動性材料を供給する流動性材料供給部１８を備え、図１に示すように、これらの構成を制御する制御部２を備える。
【００２８】
塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が、塗布ヘッド１４を基板９に対して主走査方向に相対的に移動するとともに基板９を塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動する移動機構となる。後述するように、塗布装置１では、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布時に、基板９が基板保持部１１と共に副走査方向において図１中の（−Ｙ）側から（＋Ｙ）側に向けて移動する。すなわち、図１中の（＋Ｙ）側が副走査方向における基板９の相対移動方向前側となり、（−Ｙ）側が副走査方向における基板９の相対移動方向後側となる。換言すれば、図１中の（＋Ｙ）側は、基板９の副走査方向における移動の下流側であり、（−Ｙ）側が基板９の移動の上流側である。
【００２９】
塗布ヘッド１４は、同一種類の有機ＥＬ液を連続的に吐出する複数（本実施の形態では、３本）の第１ノズル１４１、複数の第１ノズル１４１に対して（−Ｙ）側および（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側および前側）にそれぞれ１本ずつ配置されて有機ＥＬ液の溶媒（以下、単に「溶媒」という。）を連続的に吐出する第２ノズル１４２、および、３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２を共に保持する吐出部保持部であるノズルホルダ１４３を備える。
【００３０】
塗布装置１では、ノズルホルダ１４３により、第１ノズル１４１に対する第２ノズル１４２の相対位置が固定されており、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２により、塗布ヘッド１４が基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、２本の第２ノズル１４２が３本の第１ノズル１４１と共に基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対移動する。
【００３１】
５本のノズル（すなわち、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２）は、図１中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともに図１中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。５本のノズルの吐出口は、副走査方向に関して等間隔にて配列されており、隣接する２本のノズルの吐出口の間の副走査方向に関する距離は、基板９の塗布領域９１（図１中において破線で囲んで示す。）上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）の３倍に等しくされる。
【００３２】
塗布装置１では、３本の第１ノズル１４１から塗布領域９１の隔壁間に形成される３本の溝に有機ＥＬ液が吐出されて塗布される。塗布装置１により有機ＥＬ液が塗布される２本の溝の間には、他の塗布装置等により他の種類の有機ＥＬ液が塗布される２本の溝が挟まれている。基板９では、塗布領域９１の外側の領域９２は、ドライバ回路の組み込みや後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、有機ＥＬ液が塗布されるべきではない領域であり、以下、「非塗布領域９２」という。なお、非塗布領域９２には隔壁は形成されていない。
【００３３】
次に、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布について説明する。図３は、有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に載置されて保持され、アライメントマーク検出部１３からの出力に基づいて基板移動機構１２が駆動されて基板９が移動および回転し、図１中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。換言すれば、塗布ヘッド１４が、基板９に対する副走査方向における相対移動の開始端に位置する。
【００３４】
塗布ヘッド１４は、図１および図２中に実線にて示す待機位置（すなわち、図１中の（−Ｘ）側の受液部１６の上方）に予め位置している。このとき、基板９の塗布領域９１の図１中における（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）のエッジは、塗布ヘッド１４の（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間に位置する。
【００３５】
続いて、制御部２により塗布ヘッド１４が制御されて３本の第１ノズル１４１から有機ＥＬ液の吐出が開始され、第１ノズル１４１の副走査方向の両側（すなわち、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側）の第２ノズル１４２から溶媒の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構１５が制御されて塗布ヘッド１４の主走査方向の移動（すなわち、図１中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側への移動）が開始される。
【００３６】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の主走査方向への相対移動時に、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を基板９に向けて連続的に吐出することにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布され、有機ＥＬ液の塗布と並行して、当該３本の溝に塗布される有機ＥＬ液の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）において、塗布領域９１の１本の溝に溶媒が塗布される。
【００３７】
また、塗布領域９１に対する有機ＥＬ液および溶媒の塗布と並行して、有機ＥＬ液が塗布される３本の溝の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）において、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒がライン状に塗布される（ステップＳ１２）。このとき、基板９上において隣接する有機ＥＬ液の２本のラインの間の距離、および、隣接する有機ＥＬ液のラインと溶媒のラインとの間の距離は、隔壁ピッチの３倍に等しくされる。なお、図１中における塗布領域９１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の非塗布領域９２は図示省略のマスクにより覆われているため有機ＥＬ液および溶媒は塗布されない。
【００３８】
ここで、有機ＥＬ液および溶媒をそれぞれ第１流動性材料および第２流動性材料とすると、塗布ヘッド１４は、第１流動性材料および第２流動性材料を連続的に吐出する吐出機構であり、複数の第１ノズル１４１は、副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から第１流動性材料を吐出して塗布領域９１に塗布する第１吐出部となっている。また、複数の第１ノズル１４１（すなわち、第１吐出部）の（−Ｙ）側に配置される第２ノズル１４２は、第２流動性材料を吐出して塗布領域９１に塗布する第２吐出部となっており、複数の第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に配置される第２ノズル１４２は、第２流動性材料を吐出して非塗布領域９２に塗布するもう１つの第２吐出部となっている。
【００３９】
塗布ヘッド１４が図１および図２中に二点鎖線にて示す待機位置（すなわち、図１中の（＋Ｘ）側の受液部１６の上方）まで移動して塗布ヘッド１４の主走査方向における移動が終了すると、塗布ヘッド１４が制御部２により制御され、（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）の第２ノズル１４２からの溶媒の吐出が停止される（ステップＳ１３）。そして、基板移動機構１２が駆動され、基板９が基板保持部１１と共に図１中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの９倍に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１４）。このとき、塗布ヘッド１４では、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２から受液部１６に向けて有機ＥＬ液および溶媒が連続的に吐出されている。
【００４０】
塗布装置１では、有機ＥＬ液の溶媒として速乾性のものが利用されているため、第１ノズル１４１により塗布領域９１に塗布された有機ＥＬ液は、塗布された直後からステップＳ１４における基板９の副走査方向への移動の間に迅速に乾燥し（すなわち、有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し）、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で基板９上に残置されて（すなわち、付与されて）有機ＥＬ材料の膜が形成される。また、第２ノズル１４２から塗布領域９１および非塗布領域９２に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、塗布領域９１および非塗布領域９２上には残らない。
【００４１】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、塗布ヘッド１４が、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図１中において（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布される（ステップＳ１５）。このとき、３本の第１ノズル１４１のうち、（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液は、ステップＳ１２において（−Ｙ）側の第２ノズル１４２により溶媒が塗布された溝に塗布されるが、上述のように、第２ノズル１４２により塗布された溶媒は既に蒸発しているため、当該溝において有機ＥＬ液と先に塗布された溶媒とが混ざることはない。
【００４２】
主走査方向における塗布ヘッド１４の移動が終了すると、基板９が図１中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの９倍に等しい距離だけ移動する（ステップＳ１６）。そして、基板保持部１１および基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ１７）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ１５に戻って塗布ヘッド１４が、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を吐出しつつ主走査方向に移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布される（ステップＳ１５）。その後、基板９が副走査方向に移動し、塗布終了位置まで移動したか否かの確認が行われる（ステップＳ１６，Ｓ１７）。
【００４３】
塗布装置１では、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向における移動、および、基板９の（＋Ｙ）側へのステップ移動が繰り返され（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する主走査方向における相対移動が行われる毎に、基板９が塗布ヘッド１４に対して副走査方向に相対的に移動され）、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ１５〜Ｓ１７）。塗布装置１では、副走査方向に関し、基板９上において有機ＥＬ液の塗布が進行する方向（すなわち、塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動方向）は、基板移動機構１２による基板９の移動方向とは反対向きとなっている。
【００４４】
そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて塗布装置１による基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、１枚の基板９に対する塗布ヘッド１４の最後の主走査では、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２から吐出された溶媒は、図１中における塗布領域９１の（−Ｙ）側の非塗布領域９２に塗布される。塗布装置１による塗布が終了した基板９は、他の塗布装置等へと搬送され、塗布装置１により塗布された有機ＥＬ液以外の他の２色の有機ＥＬ液が塗布される。
【００４５】
以上に説明したように、塗布装置１では、塗布ヘッド１４が主走査方向に移動することにより、３本の第１ノズル１４１および（−Ｙ）側の第２ノズル１４２からそれぞれ吐出された有機ＥＬ液および溶媒が、基板９の塗布領域９１にストライプ状に塗布される。このとき、３本の第１ノズル１４１のうち、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、中央の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のライン、および、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２により並行して塗布された溶媒のラインにより挟まれている。このため、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、両側のラインから蒸発した溶媒により、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。
【００４６】
また、中央の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のラインにより挟まれており、（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインは、中央の第１ノズル１４１により並行して塗布された有機ＥＬ液のライン、および、先に塗布された有機ＥＬ液のライン群により挟まれている。このため、中央および（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲でも、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインと同様に、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。
【００４７】
ここで、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズルのみが塗布ヘッドに設けられている塗布装置を比較例とすると、比較例の塗布装置において（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向前側）の第１ノズル、および、中央の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、上記と同様に、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなっている。しかしながら、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板の相対移動方向後側）の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側には、他の有機ＥＬ液および溶媒のラインは塗布されておらず、（＋Ｙ）側にのみ、中央の第１ノズルにより並行して塗布された有機ＥＬ液のラインが配置されることとなる。
【００４８】
このため、（−Ｙ）側の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲では、（＋Ｙ）側および中央の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲と比べて有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が低くなってしまい、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度が、（＋Ｙ）側の２本の有機ＥＬ液のラインよりも大きくなってしまう。また、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの周囲では、当該ラインの（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が、ラインの（＋Ｙ）側における濃度よりも低くなってしまい、ラインの（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも早く乾燥してしまう。
【００４９】
図４．Ａは、比較例の塗布装置の３本の第１ノズルにより塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発することにより、基板９ａ上の塗布領域９１ａに形成された有機ＥＬ材料の３本の膜９３ａを示す断面図である。図４．Ａでは、図示の都合上、基板９ａの塗布領域９１ａに形成されている隔壁の図示を省略しており、また、膜９３ａの高さを実際よりも大きく描いている（図４．Ｂにおいても同様）。
【００５０】
比較例の塗布装置では、上述のように、（−Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の部位が（＋Ｙ）側の部位よりも早く乾燥してしまうため、図４．Ａに示すように、（−Ｙ）側の膜９３において、（−Ｙ）側の部位の膜厚が（＋Ｙ）側の部位の膜厚よりも大きくなってしまう。そして、このように厚さに偏りがある有機ＥＬ材料の膜９３ａが、塗布領域９１ａに周期的に（すなわち、３本毎に）形成されて塗布ムラが発生することにより、製品となった後の平面表示装置における表示の質が低下してしまう恐れがある。
【００５１】
これに対し、本実施の形態に係る塗布装置１では、上述のように、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。また、３本の第１ノズル１４１のうち（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の領域（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側の領域であり、有機ＥＬ液がまだ塗布されていない領域）において、第２ノズル１４２により塗布された溶媒が蒸発することにより、当該有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。
【００５２】
これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、図４．Ｂに示すように、隣接する有機ＥＬ材料の３本の膜９３の断面をほぼ同形状とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００５３】
ところで、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の基板に対する塗布では、塗布ムラが発生すると、製品となった後の平面表示装置の表示の質が低下する恐れがある。本実施の形態に係る塗布装置１では、上述のように、塗布ムラの発生を防止することができるため、塗布装置１は、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料の塗布に特に適しているといえる。
【００５４】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の吐出開始時に、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２から塗布開始位置に位置する基板９に対して（すなわち、副走査方向における塗布ヘッド１４の相対移動の開始端側において）吐出された溶媒が、塗布領域９１（＋Ｙ）側の非塗布領域９２（すなわち、塗布領域９１の基板９の相対移動方向前側の領域であり、有機ＥＬ液が塗布されない領域）において蒸発する。これにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側に塗布された有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。その結果、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００５５】
塗布ヘッド１４では、一のノズルホルダ１４３により３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２が共に保持されることにより、第１ノズル１４１に対する第２ノズル１４２の相対位置が固定されるため、塗布ヘッド１４、および、塗布ヘッド１４を基板９に対して相対的に移動する移動機構の一部であるヘッド移動機構１５の構造を簡素化することができる。なお、副走査方向に関して、（−Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間の距離は、必ずしも第１ノズル１４１のピッチ（本実施の形態では、隔壁ピッチの３倍に等しい。）と等しくされる必要はない（第２および第３の実施の形態においても同様）。また、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２と当該第２ノズル１４２に隣接する第１ノズル１４１との間の副走査方向に関する距離も、必ずしも第１ノズル１４１のピッチと等しくされる必要はない。
【００５６】
次に、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図５は、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａの平面図である。図５に示すように、塗布装置１ａの塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）に、溶媒を吐出する２本の第２ノズル１４２が設けられており、（＋Ｙ）側には第２ノズル１４２は設けられない。また、塗布装置１ａは、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１の上面に固定され、有機ＥＬ液の溶媒成分を含むガス（本実施の形態では、有機ＥＬ液の溶媒を気化したものであり、以下、「溶媒ガス」という。）を基板９に対して供給するガス供給部１９を備える。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００５７】
図５に示すように、塗布ヘッド１４の５本のノズル（すなわち、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２）は、図５中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に略直線状に配列されるとともに図５中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。
【００５８】
塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、第１吐出部である３本の第１ノズル１４１が、副走査方向に関して等間隔（すなわち、隔壁ピッチの３倍のピッチ）にて配列された３つの吐出口を有し、３つの吐出口から基板９に向けて第１流動性材料である有機ＥＬ液が吐出される。また、第２吐出部である２本の第２ノズル１４２は、副走査方向に関して隔壁ピッチの３倍の距離をあけて配置された２つの吐出口を有し、２つの吐出口から第２流動性材料である有機ＥＬ液の溶媒が吐出される。また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１と（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２との間の副走査方向に関する距離も、隔壁ピッチの３倍とされる。
【００５９】
ガス供給部１９は、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた棒状の多孔性樹脂（例えば、スポンジ等）であり、基板９の塗布領域９１のＸ方向（すなわち、主走査方向）の全長に亘って基板保持部１１の主面上に取り付けられる。したがって、基板移動機構１２により基板保持部１１が移動されると、ガス供給部１９は、基板９に対して相対的に固定された状態で、基板９と共に副走査方向に移動することとなる。そして、ガス供給部１９に含浸された溶媒が蒸発することにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給される。
【００６０】
次に、塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布について説明する。図６は、塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ａにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ２１）。続いて、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図５中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動されることにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布されるとともに、当該３本の溝の（−Ｙ）側において、塗布領域９１の２本の溝に溶媒が塗布される（ステップＳ２２）。このとき、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位（すなわち、塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジ近傍の部位）には、ガス供給部１９により溶媒ガスが供給されている。
【００６１】
次に、基板移動機構１２により基板９が図５中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ２３）。基板９上では、第１の実施の形態と同様に、第１ノズル１４１により塗布領域９１に塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で基板９上に付与されて有機ＥＬ材料の膜が形成される。また、第２ノズル１４２から塗布領域９１に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、塗布領域９１上には残らない。
【００６２】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板保持部１１および基板９が図５中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ２４）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ２２に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。
【００６３】
塗布装置１ａでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および２本の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００６４】
以上に説明したように、塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされており、また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲において、当該ラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００６５】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、特に、第１ノズル１４１の（−Ｙ）側に２本の第２ノズル１４２を設けることにより、各第２ノズル１４２から吐出されて塗布領域９１に塗布される溶媒の量を低減しつつ、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１から吐出された有機ＥＬ液のラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差を小さくすることができる。その結果、各第２ノズル１４２により塗布領域９１に塗布された溶媒のラインの蒸発に要する時間を短縮することができ、後から塗布される有機ＥＬ液が先に塗布された溶媒と混ざってしまうことをより確実に防止することができる。
【００６６】
なお、２本の第２ノズル１４２の吐出口は、副走査方向に関して必ずしも隔壁ピッチの３倍の距離をあけて配置される必要はなく、副走査方向に関して位置が異なるように配置されていればよい。これにより、上記と同様に、各第２ノズル１４２により塗布領域９１に塗布された溶媒のラインの蒸発に要する時間を短縮することができ、後から塗布される有機ＥＬ液が先に塗布された溶媒と混ざってしまうことをより確実に防止することができる。
【００６７】
また、塗布装置１ａでは、基板９の（＋Ｙ）側にガス供給部１９が設けられることにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。その結果、第１の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。なお、ガス供給部１９からのガスの噴出は、塗布ヘッド１４の１回目の主走査終了後に停止されてもよい。
【００６８】
塗布装置１ａによる有機ＥＬ液の塗布では、ガス供給部１９により溶媒ガスを供給することにより、第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に第２ノズル１４２を設ける場合に比べて、有機ＥＬ液の塗布作業中における（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２からの吐出停止動作を省略することができ、有機ＥＬ液の塗布を簡素化することができる。また、２本の第２ノズル１４２の吐出開始および停止を同時に行うことができるため、塗布ヘッド１４の構造を簡素化することができる。一方、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、基板保持部１１上にガス供給部１９（図５参照）を設ける必要がないため、基板保持部１１の構造を簡素化することができる。
【００６９】
次に、本発明の第３の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図７は、第３の実施の形態に係る塗布装置１ｂを示す平面図である。図７に示すように、塗布装置１ｂの塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）に溶媒を吐出する第２ノズル１４２が１本のみ設けられており、（＋Ｙ）側には第２ノズル１４２は設けられない。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００７０】
図８は、塗布装置１ｂによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ｂにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１（図２参照）に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ３１）。このとき、塗布ヘッド１４の４本のノズル（すなわち、３本の第１ノズル１４１および１本の第２ノズル１４２）は、図７中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に関し、基板９の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）のエッジと、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジとの間、すなわち、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に対応する位置に位置する。
【００７１】
続いて、制御部２によりヘッド移動機構１５が制御されることにより、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１および第２ノズル１４２からそれぞれ有機ＥＬ液および溶媒を連続的に吐出しつつ図７中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動する。これにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側（すなわち、外側）の非塗布領域９２に有機ＥＬ液および溶媒がストライプ状に塗布される（ステップＳ３２）。次に、制御部２により基板移動機構１２が制御されることにより、基板９が基板保持部１１と共に図７中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ３３）。
【００７２】
基板９上では、第１ノズル１４１により非塗布領域９２に塗布された有機ＥＬ液から溶媒が蒸発し、有機ＥＬ材料が半乾燥状態で非塗布領域９２上に残置される。また、第２ノズル１４２から非塗布領域９２に塗布された溶媒は、全て（あるいは、ごく微量を除いてほぼ全て）蒸発し、非塗布領域９２上には残らない。塗布装置１ｂでは、ステップＳ３３における基板９の副走査方向への移動により、塗布ヘッド１４の図７中の（＋Ｙ）側の第１ノズル１４１は、塗布領域９１の（＋Ｙ）側のエッジの（−Ｙ）側に位置する。換言すれば、塗布ヘッド１４の４本のノズルが、副走査方向に関して塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に対応する位置に位置する。
【００７３】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、制御部２によりヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が制御され、塗布ヘッド１４が図７中において（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の塗布領域９１の溝に有機ＥＬ液および溶媒が塗布され、その後、基板９が（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動する（ステップＳ３４，Ｓ３５）。
【００７４】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板保持部１１および基板９が図７中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認され（ステップＳ３６）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ３４に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ３４〜Ｓ３６）。
【００７５】
塗布装置１ｂでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ３４〜Ｓ３６）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１および１本の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液および溶媒の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００７６】
以上に説明したように、塗布装置１ｂでは、第１の実施の形態と同様に、３本の第１ノズル１４１により塗布された３本の有機ＥＬ液のラインの周囲において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされており、また、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの周囲において、当該ラインの（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度の差が小さくされる。これにより、３本の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を均一化することができるとともに、（−Ｙ）側の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。その結果、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００７７】
塗布装置１ｂでは、特に、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液および溶媒が塗布され、これらの有機ＥＬ液および溶媒のラインから溶媒が蒸発することにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２上における雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなる。その結果、第１および第２の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。なお、非塗布領域９２に塗布された有機ＥＬ液により形成された有機ＥＬ材料の膜は、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布終了後に除去される。
【００７８】
塗布装置１ｂでは、塗布ヘッド１４において第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に第２ノズル１４２を設ける必要がなく、また、基板保持部１１上にガス供給部１９を設ける必要もないため、塗布装置の構造を簡素化することができる。一方、第１および第２の実施の形態に係る塗布装置では、非塗布領域９２からの有機ＥＬ材料の除去作業を行う必要がないため、有機ＥＬ液の塗布を簡素化することができる。
【００７９】
次に、本発明の第４の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図９および図１０は、第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃを示す平面図および右側面図である。図９および図１０に示すように、塗布装置１ｃの塗布ヘッド１４には、有機ＥＬ液を吐出する３本の第１ノズル１４１が設けられており、溶媒を吐出する第２ノズルは設けられていない。また、塗布装置１ｃは、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）において基板保持部１１および基板移動機構１２を跨いで設けられるとともに基板９に対して溶媒ガスを連続的に供給するガス供給部１９ａを備える。さらに、図５に示す塗布装置１ａと同様に、図９に示す基板９の（＋Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向前側）において基板保持部１１の上面に固定されるとともに基板９に対して溶媒ガスを供給するもう１つのガス供給部１９ｂを備える。その他の構成は、図１および図２に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。また、以下の説明では、ガス供給部１９ａ，１９ｂを区別するために、それぞれ、「第１ガス供給部１９ａ」および「第２ガス供給部１９ｂ」という。
【００８０】
図９および図１０に示す第１ガス供給部１９ａは、噴出口１９１から基板９の主面に向けて溶媒ガスを連続的に噴出するガス噴出機構であり、基板移動機構１２およびヘッド移動機構１５と共に図示省略の基台に固定されているため、第１ガス供給部１９ａの塗布ヘッド１４に対する主走査方向および副走査方向の相対位置は固定されている。第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１は、Ｘ方向の全長が基板９の塗布領域９１（図９参照）のＸ方向の全長よりも長いスリット状であり、塗布領域９１のＸ方向（すなわち、主走査方向）の全長に亘って基板９の主面に対向する。
【００８１】
また、図９に示す第２ガス供給部１９ｂは、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａのガス供給部１９（図５参照）と同様に、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた棒状の多孔性樹脂（例えば、スポンジ等）であり、基板９の塗布領域９１のＸ方向の全長に亘って基板保持部１１の主面上に取り付けられて基板９に対して相対的に固定される。塗布装置１ｃでも、塗布装置１ａと同様に、第２ガス供給部１９ｂに含浸された溶媒が蒸発することにより、基板９の塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給される。
【００８２】
図１１は、塗布装置１ｃによる有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。塗布装置１ｃにより有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に保持されて塗布開始位置に位置する（ステップＳ４１）。続いて、塗布ヘッド１４が、第１ノズル１４１から有機ＥＬ液を連続的に吐出しつつ図９中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）側へと（すなわち、主走査方向に）移動されることにより、基板９の塗布領域９１の３本の溝に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される（ステップＳ４２）。このとき、第１ガス供給部１９ａから基板９の塗布領域９１に向けて噴出された溶媒ガスは、有機ＥＬ液が塗布される３本の溝の（−Ｙ）側において塗布領域９１に供給される。また、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の部位には、第２ガス供給部１９ｂにより溶媒ガスが供給されている。
【００８３】
次に、基板移動機構１２により基板９が図９中の（＋Ｙ）側に（すなわち、副走査方向に）移動された後、基板保持部１１および基板９が図９中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが制御部２により確認される（ステップＳ４３，Ｓ４４）。そして、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ４２に戻って塗布ヘッド１４の主走査方向への移動、基板９の副走査方向への移動、および、基板９の位置の確認が行われる（ステップＳ４２〜Ｓ４４）。
【００８４】
塗布装置１ｃでは、基板保持部１１および基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が行われる毎に基板９が副走査方向へとステップ移動され、これにより、基板９の塗布領域９１において、有機ＥＬ液が所定のピッチ（すなわち、隔壁ピッチの３倍に等しいピッチ）にて配列されたストライプ状に塗布される（ステップＳ４２〜Ｓ４４）。そして、基板９が塗布終了位置まで移動すると、３本の第１ノズル１４１からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００８５】
以上に説明したように、塗布装置１ｃでは、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側に第１ガス供給部１９ａが設けられ、副走査方向において塗布ヘッド１４と共に基板９に対して相対的に移動しつつ基板９の塗布領域９１に溶媒ガスを供給することにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液のラインの（−Ｙ）側の領域（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側の領域であり、有機ＥＬ液がまだ塗布されていない領域）における有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くされる。その結果、第１の実施の形態と同様に、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向における基板９の相対移動方向後側）の第１ノズル１４１の吐出口から吐出された有機ＥＬ液の乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができる。
【００８６】
塗布装置１ｃでは、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１が、塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って設けられることにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側の第１ノズル１４１により塗布された有機ＥＬ液の副走査方向における乾燥速度の均一性を、主走査方向に伸びる当該有機ＥＬ液のラインの全長に亘って向上することができる。これにより、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００８７】
また、基板９の（＋Ｙ）側に第２ガス供給部１９ｂが設けられることにより、第２の実施の形態と同様に、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００８８】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００８９】
例えば、第１の実施の形態に係る塗布装置１では、第１ノズル１４１の（＋Ｙ）側に設けられる第２ノズル１４２に代えて、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２の上方において基板保持部１１に取り付けられるとともに溶媒を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動可能とされる（すなわち、副走査方向において基板９に対して相対的に固定された）溶媒ノズルが設けられてもよい。この場合、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動と並行して、基板保持部１１に取り付けられた溶媒ノズルが、塗布ヘッド１４の移動方向と同じ方向へと移動することにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒が塗布され、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができる。また、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布では、（＋Ｙ）側の第２ノズル１４２からの有機ＥＬ液の吐出停止（ステップＳ１３）と基板９の（＋Ｙ）方向への移動（ステップＳ１４）とは並行して行われてもよく、ステップＳ１４がステップＳ１３よりも前に行われてもよい。
【００９０】
第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、２本の第２ノズル１４２が、第１ノズル１４１を備える塗布ヘッド１４とは独立して主走査方向に移動可能な他の塗布ヘッドに設けられてもよい。この場合、第２ノズル１４２による溶媒の塗布は、必ずしも第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の塗布と並行して行われる必要はなく、第１ノズル１４１による有機ＥＬ液の塗布よりも前に（好ましくは、有機ＥＬ液の塗布の直前に）、有機ＥＬ液が塗布される予定の溝の（−Ｙ）側に溶媒が塗布されてもよい。
【００９１】
また、塗布装置１ａでは、ガス供給部１９として、必ずしも有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた多孔質樹脂が用いられる必要はなく、例えば、溶媒を含浸させた脱脂綿等の繊維が利用されてもよい。あるいは、第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃの第１ガス供給部１９ａと同様のガス噴出機構が、ガス供給部１９として基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１に固定されてもよく、また、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１の上面に形成された主走査方向に伸びる溝部に溶媒が貯溜され、当該溶媒が蒸発することにより基板９の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給されてもよい。さらには、主走査方向に移動可能な溶媒ガスを噴出するガスノズルが基板保持部１１に取り付けられ（すなわち、基板９に対する相対位置が固定され）、ガスノズルが溶媒ガスを噴出しつつ主走査方向に移動することにより、基板９の（＋Ｙ）側の部位に溶媒ガスが供給されてもよい（塗布装置１ｃにおいても同様）。
【００９２】
第３の実施の形態に係る塗布装置１ｂでは、第１ノズル１４１からの有機ＥＬ液の吐出が開始されておらず、第２ノズル１４２からの溶媒の吐出のみが行われている状態で、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動が行われることにより、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に溶媒のみが塗布されてもよい。また、塗布開始位置において第２ノズル１４２が塗布領域９１に対応する位置に位置するように基板９の位置が調整されることにより、塗布ヘッド１４の１回目の主走査方向への移動において、塗布領域９１の（＋Ｙ）側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液のみが塗布されてもよい。さらには、（＋Ｙ）側の１本の第１ノズル１４１のみが非塗布領域９２上を走査されることにより、非塗布領域９２に１本の有機ＥＬ液のラインが塗布されてもよい。いずれの場合であっても、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の有機ＥＬ液のラインの乾燥速度を、副走査方向においてほぼ均一とすることができ、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生をより確実に防止することができる。
【００９３】
第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでは、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１から、溶媒ガスが断続的に噴出されてもよい。また、第１ガス供給部１９ａの噴出口１９１は、必ずしも塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って伸びるスリット状である必要はなく、例えば、塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って配列された複数の小さな噴出口が第１ガス供給部１９ａに設けられてもよい。
【００９４】
さらには、主走査方向に移動可能な溶媒ガスを噴出するガスノズルが、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側において基板９および基板保持部１１を跨いで設けられ（すなわち、副走査方向における塗布ヘッド１４に対する相対位置が固定された状態で設けられ）、ガスノズルが溶媒ガスを噴出しつつ主走査方向に移動することにより、塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側において基板９に対して溶媒ガスが供給されてもよい。
【００９５】
塗布装置１ｃでは、ガス噴出機構である第１ガス供給部１９ａに代えて、例えば、有機ＥＬ液の溶媒を含浸させた多孔質樹脂や繊維が、副走査方向において塗布ヘッド１４に対する相対位置を固定された状態で塗布ヘッド１４の（−Ｙ）側に設けられてもよい。このとき、多孔質樹脂等は、好ましくは塗布領域９１の主走査方向の全長に亘って設けられる。
【００９６】
第１ないし第３の実施の形態に係る塗布装置では、第２ノズル１４２から吐出される溶媒は、必ずしも有機ＥＬ液の溶媒である必要はなく、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料である流動性材料であればよい。第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでも同様に、第１ガス供給部１９ａから有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料のガスが噴出され、基板９に対して供給されてよい。有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料とは、有機ＥＬ液の乾燥を遅延させることができる揮発性材料であり、好ましくは、有機ＥＬ液の溶媒と共通する成分、あるいは、類似の成分を含むものを意味する。上記実施の形態のように、有機ＥＬ液の溶媒としてメシチレンが使用されている場合には、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料として、アニソール（メトキシベンゼン）、トルエン、キシレン等の芳香族の有機溶媒が利用される。
【００９７】
また、第２および第４の実施の形態に係る塗布装置では、基板９の（＋Ｙ）側において基板保持部１１に固定されるガス供給部１９および第２ガス供給部１９ｂにより、有機ＥＬ液の溶媒と同等の揮発性材料のガスが供給されてもよい。なお、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａでは、ガス供給部１９から供給されるガスが、第２ノズル１４２から吐出される流動性材料とは異なる種類の揮発性材料のガスであってもよい。第４の実施の形態に係る塗布装置１ｃでも同様に、第１ガス供給部１９ａから供給されるガスと第２ガス供給部１９ｂから供給されるガスとが異なる種類とされてもよい。
【００９８】
上記実施の形態に係る塗布装置では、基板移動機構１２による基板９および基板保持部１１の移動に代えて、塗布ヘッド１４が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板９の塗布ヘッド１４に対する相対移動が行われてもよい。また、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動に代えて、基板９および基板保持部１１が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動が行われてもよい。
【００９９】
上記塗布装置では、塗布ヘッド１４の３本の第１ノズル１４１から、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、塗布ヘッド１４では、隣接する２本の第１ノズル１４１の間の副走査方向に関する距離が隔壁ピッチと等しくされる。また、塗布ヘッド１４では、有機ＥＬ液を吐出する第１ノズル１４１の本数は必ずしも３本には限定されず、２本、あるいは、４本以上の第１ノズル１４１が塗布ヘッド１４に設けられてもよい。さらには、これらの第１ノズル１４１から吐出される有機ＥＬ液は、隔壁が設けられていない塗布領域９１にストライプ状に塗布されてもよい。
【０１００】
ところで、基板９上に連続的に吐出された有機ＥＬ液のラインでは、有機ＥＬ液中の有機ＥＬ材料が主走査方向において比較的移動しやすいため、乾燥時間の差により有機ＥＬ材料の偏り大きくなって図４．Ａに示すように膜厚の差が生じやすい。上記実施の形態に係る塗布装置は、上述のように、有機ＥＬ液の乾燥時間の均一性を向上することできるため、有機ＥＬ液を連続的に吐出して基板に塗布する装置に特に適しているが、インクジェット方式のように断続的に流動性材料を吐出して基板上に塗布する装置にも適用することができる。
【０１０１】
上記実施の形態に係る塗布装置では、揮発性の溶媒（例えば、水）および正孔輸送材料を含む流動性材料が基板９に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【０１０２】
塗布装置は、１枚の基板から複数の有機ＥＬ表示装置を製造する（いわゆる、多面取りを行う）場合にも利用できる。また、上記塗布装置は、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。
【０１０３】
上述のように、塗布装置は、基板９上の塗布領域９１における塗布ムラの発生を防止することができるため、製品となった際の表示の質の低下として塗布ムラが感得されやすい平面表示装置用の画素形成材料（上記実施の形態では、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料）を含む流動性材料の塗布に特に適しているが、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板や半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布装置を示す平面図である。
【図２】塗布装置の右側面図である。
【図３】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図４．Ａ】比較例の塗布装置により基板上に形成された有機ＥＬ材料の膜を示す断面図である。
【図４．Ｂ】本実施の形態に係る塗布装置により基板上に形成された有機ＥＬ材料の膜を示す断面図である。
【図５】第２の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図６】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図７】第３の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図８】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図９】第４の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図１０】塗布装置の右側面図である。
【図１１】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１，１ａ〜１ｃ 塗布装置
９ 基板
１１ 基板保持部
１２ 基板移動機構
１４ 塗布ヘッド
１５ ヘッド移動機構
１９ ガス供給部
１９ａ 第１ガス供給部
１９ｂ 第２ガス供給部
９１ 塗布領域
９２ 非塗布領域
１４１ 第１ノズル
１４２ 第２ノズル
１９１ 噴出口
Ｓ１１〜Ｓ１７，Ｓ２１〜Ｓ２４，Ｓ３１〜Ｓ３６，Ｓ４１〜Ｓ４４ ステップ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記吐出機構が、
前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する第１吐出部と、
前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側に配置され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を吐出することにより、前記基板上の前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する第２吐出部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記吐出機構において、前記第１吐出部に対する前記第２吐出部の相対位置が固定されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の塗布装置であって、
前記第１吐出部が、前記第１流動性材料を連続的に吐出し、
前記第２吐出部が、前記第２流動性材料を連続的に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記第２吐出部が、前記副走査方向に関して位置が異なる複数の吐出口から前記第２流動性材料を吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記吐出機構が、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側に配置されて前記第２流動性材料を吐出するもう１つの第２吐出部をさらに備え、
前記第１吐出部による前記第１流動性材料の塗布開始時に、前記もう１つの第２吐出部が前記主走査方向に移動しつつ前記第２流動性材料を吐出することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第２流動性材料が塗布されることを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記第１流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板上の塗布領域に向けて揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
前記吐出機構の前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されるとともに、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗布装置であって、
前記ガス供給部が、前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って前記基板の前記主面に対向するとともに前記主面に向けて前記ガスを噴出する噴出口を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の塗布装置であって、
前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するもう１つのガス供給部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１１】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項１２】
基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
ａ）吐出機構から基板に向けて流動性材料を吐出しつつ前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
ｂ）前記基板の前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記基板を前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、
ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、
を備え、
前記ａ）工程が、
ｄ）前記吐出機構の第１吐出部において前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程と、
ｅ）前記ｄ）工程と並行して、または、前記ｄ）工程よりも前に、前記ｄ）工程にて塗布される前記第１流動性材料に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を第２吐出部から吐出することにより前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の塗布方法であって、
前記ｄ）工程において、前記第１流動性材料が連続的に吐出され、
前記ｅ）工程において、前記第２流動性材料が連続的に吐出されることを特徴とする塗布方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の塗布方法であって、
前記ａ）工程よりも前に、
ｆ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記複数の吐出口から前記第１流動性材料を吐出しつつ前記第１吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程、
または、
ｇ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記第２吐出部から前記第２流動性材料を吐出しつつ前記第２吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記非塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記吐出機構が、
前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する第１吐出部と、
前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側に配置され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を吐出することにより、前記基板上の前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する第２吐出部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記吐出機構において、前記第１吐出部に対する前記第２吐出部の相対位置が固定されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の塗布装置であって、
前記第１吐出部が、前記第１流動性材料を連続的に吐出し、
前記第２吐出部が、前記第２流動性材料を連続的に吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記第２吐出部が、前記副走査方向に関して位置が異なる複数の吐出口から前記第２流動性材料を吐出することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記吐出機構が、前記第１吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側に配置されて前記第２流動性材料を吐出するもう１つの第２吐出部をさらに備え、
前記第１吐出部による前記第１流動性材料の塗布開始時に、前記もう１つの第２吐出部が前記主走査方向に移動しつつ前記第２流動性材料を吐出することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第２流動性材料が塗布されることを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記第１流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板の主面に平行な副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から前記基板上の塗布領域に向けて揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記副走査方向に垂直かつ前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
前記吐出機構の前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において前記吐出機構に対する前記副走査方向の相対位置が固定されるとともに、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗布装置であって、
前記ガス供給部が、前記塗布領域の前記主走査方向の全長に亘って前記基板の前記主面に対向するとともに前記主面に向けて前記ガスを噴出する噴出口を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の塗布装置であって、
前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するもう１つのガス供給部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１１】
請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項１２】
基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
ａ）吐出機構から基板に向けて流動性材料を吐出しつつ前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
ｂ）前記基板の前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記基板を前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、
ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、
を備え、
前記ａ）工程が、
ｄ）前記吐出機構の第１吐出部において前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第１流動性材料を吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程と、
ｅ）前記ｄ）工程と並行して、または、前記ｄ）工程よりも前に、前記ｄ）工程にて塗布される前記第１流動性材料に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において、前記第１流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第２流動性材料を第２吐出部から吐出することにより前記塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の塗布方法であって、
前記ｄ）工程において、前記第１流動性材料が連続的に吐出され、
前記ｅ）工程において、前記第２流動性材料が連続的に吐出されることを特徴とする塗布方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の塗布方法であって、
前記ａ）工程よりも前に、
ｆ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記複数の吐出口から前記第１流動性材料を吐出しつつ前記第１吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第１流動性材料を塗布する工程、
または、
ｇ）前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記第２吐出部から前記第２流動性材料を吐出しつつ前記第２吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記非塗布領域に前記第２流動性材料を塗布する工程を備えることを特徴とする塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４．Ａ】
【図４．Ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４．Ａ】
【図４．Ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００８−２０７０８４（Ｐ２００８−２０７０８４Ａ）
【公開日】平成２０年９月１１日（２００８．９．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−４４９８６（Ｐ２００７−４４９８６）
【出願日】平成１９年２月２６日（２００７．２．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年９月１１日（２００８．９．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月２６日（２００７．２．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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