【課題】被測定流体中への金属等の不純物の溶出を抑制することができるとともに、従来に比べて精度良く流体の流量を測定することのできる流量センサ等を提供する。
【解決手段】内部に被測定流体が流通される樹脂製配管と、樹脂製配管の外部に設けられ、被測定流体を加熱するための加熱機構と、樹脂製配管の外部に設けられ、被測定流体の流れによる温度変化を検出するための温度検出機構と、を具備した流量センサであって、樹脂製配管の一部に、管壁の厚さを薄くした薄肉部を設け、当該薄肉部に加熱機構及び温度検出機構を配置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、前記基板に対し所定の処理が施される直前に、該基板の位置ずれの有無を検出し、基板位置ずれに起因する不具合の発生を防止する。
【解決手段】基板Ｇを保持する基板保持手段７と、前記基板保持手段を基板搬送路２に沿って移動させる搬送手段６と、前記基板保持手段に保持された前記基板の幅方向の両側において、それぞれ前記基板の前端または後端を検出し、基板搬送方向における所定の基準位置に対するずれ量をそれぞれ検出するずれ量検出手段１６Ａ，１６Ｂ，３２，３３，３４，３５，３６，３７と、前記ずれ量検出手段により検出された前記基板の幅方向両側における２つのずれ量に基づき、前記搬送手段を制御する制御手段１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】分解可能な浮上ステージの再組み立て作業における高さ調整を簡便で短時間に行えるようにすること。
【解決手段】このレジスト塗布装置の浮上ステージ１０において、出口側のステージブロックＳＢ_aは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Aの上に多数の支柱１８およびアジャスタ２０を介して取り付けられている。中間の３つのステージブロックＳＢ_b，ＳＢ_c，ＳＢ_dは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Bの上に多数の支柱２２，２４，２６およびアジャスタ２８，３０，３２を介してそれぞれ取り付けられている。出口側のステージブロックＳＢ_eは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Cの上に多数の支柱３４およびアジャスタ３６を介して取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布する装置において、基板のロットの切り替え時に、次ロットの基板の処理に速やかに移行することができる技術を提供すること。
【解決手段】先ロットＡ用のレジスト吐出ノズルＮ１と次ロットＢ用のレジスト吐出ノズルＮ２とが共通の移動機構により一体となって、塗布処理部１ａ、１ｂとノズルバス５との間を移動し、また使用していないレジスト吐出ノズルの先端部に、シンナー層Ｔが２つの空気層により挟まれた層構造を形成する場合に、先ロットＡの最後のウエハＷＡ２５に対してノズルＮ１からレジスト液ＲＡを供給した後、ノズルＮ１をノズルバス５に移動する工程と重ねて、ノズルＮ１に空気を吸い込ませて当該ノズルＮ１内に第１の空気層を形成する。更に、ノズルＮ２を次ロットＢの先頭のウエハＷＢの上方に移動させる工程に重ねて、ノズルＮ２に空気を吸い込ませて当該ノズルＮ２内に第２の空気層を形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域ＲＣは、塗布浮上領域ＴＣの上流側に設けられた上流側緩和領域（上流側調整部）ＲＡと、塗布浮上領域ＴＣの下流側に設けられた下流側緩和領域ＲＢとを有している。浮上量緩和領域ＲＣは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 （もっと読む）

【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。 （もっと読む）

【課題】塗布不良の発生を抑止して塗布品質を向上させる。
【解決手段】揮発性を有する溶媒を含む溶液の液滴を塗布対象物Ｋの塗布面に向けて吐出し、その塗布面に所定パターンの塗布膜を形成する液滴塗布装置１は、塗布対象物Ｋが載置されるステージ２と、溶液の液滴を駆動素子の駆動により吐出孔から吐出する塗布ヘッド５と、ステージ２と塗布ヘッド５とをステージ２上の塗布対象物Ｋの塗布面に沿って相対移動させる移動装置３と、塗布ヘッド５の駆動素子に液滴の吐出に必要な駆動電圧を与える制御部６とを備え、制御部６は、ステージ２と塗布ヘッド５とを相対移動させてステージ２上の塗布対象物Ｋの塗布面に液滴を吐出するとき、塗布ヘッド５による液滴の吐出開始から所定吐出回数分の駆動電圧を所定吐出回数より後の駆動電圧よりも増加させて塗布ヘッド５の駆動素子に与える。 （もっと読む）

【課題】処理液の温度を一定に保つ。
【解決手段】被処理基板１に対して液体８を吐出散布することによる処理を行うための液体供給装置であって、前記液体を貯留する液体貯留部１０と、前記液体貯留部１０と基端で連通した液体供給用配管７と、前記液体供給用配管７の末端に設けられる液体吐出部１４と、前記液体を所望所定の温度に調整するために前記液体供給用配管７の一部設けられる液体温度制御部１２と、前記液体温度制御部１２から見て液体供給の下流側にあって、かつ、前記液体吐出部１４から見て液体供給の上流側にあり、前記液体吐出部１４に隣接して設けられる弁部１５とを有し、さらに、前記弁部１５は第１〜第４の弁を有する。第２の弁により、大気開放口１５２とそれに通じる連通方向並びに当該連通方向を開閉する。第３の弁により、残留液体排出口１５１に通じる連通方向並びに当該連通方向を開閉する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。
【解決手段】 テンプレートに形成されたパターンサイズに基づいてパターン形成剤に含まれる、離型剤及びレジスト剤の混合比を計算する計算部と、前記計算部の計算結果に基づいて前記レジスト剤及び前記離型剤の混合する混合器と、前記混合器から前記パターン形成剤を前記基板上に滴下するノズルと、前記基板上に滴下された前記パターン形成剤を前記テンプレートで押下後に前記パターン形成剤に光を照射する照射装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、レジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体によるインプリント欠陥の発生を抑制する。
【解決手段】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、インクジェット法における主走査方向Ｓｍとライン状凹凸パターンＰ２のライン方向Ｌｄとの交差角度であって、モールド２を押し付ける際の交差角度が３０〜９０°となるように、レジスト材料の粘度が８〜２０ｃＰであり、レジスト材料の表面エネルギーが２５〜３５ｍＮ／ｍであり、複数の液滴Ｄそれぞれの液滴量が１〜１０ｐｌであり、複数の液滴Ｄの配置間隔が１０〜１０００μｍである条件の下で、上記液滴Ｄを塗布し、雰囲気がＨｅ雰囲気および／または減圧雰囲気である条件の下で、上記モールド２を押し付ける。 （もっと読む）

【課題】パターン形成材料を含む塗布液を基板表面に塗布するにあたって、塗布液の端を正確に規定することを可能とする。
【解決手段】先端ＥＤを塗布範囲Ｒpに向けた状態において、塗布範囲Ｒp側に向けてマスク辺部ＳＤの先端ＥＤにまで下るスロープＳＬを有しており、マスク辺部ＳＤと基板Ｗ表面の段差が小さく抑えられている。そのため、塗布液と基板Ｗ表面の間に隙間が生じたとしても、その隙間は小さいものに抑えることができる。よって、基板Ｗ表面からマスクＭＫ（マスク辺部ＳＤ）を取り外した際の塗布液の切断位置を安定させて、基板Ｗ表面における塗布液の端の位置を正確に規定することが可能になっている。 （もっと読む）

【課題】インプリント材を適切な位置に滴下すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、インクジェットヘッドからインプリント材が滴下される基板を載置するステージと、前記基板上のインプリント材に押し付けられるテンプレートと、の間の前記ステージ面内の回転方向の位置ずれ量を、テンプレート位置ずれ量として検出する。前記ステージの移動方向と、前記インクジェットヘッドに設けられている複数からなるノズルのノズル列方向と、の間の前記ステージ面内の回転方向の位置ずれ量をノズル位置ずれ量として検出する。そして、前記テンプレート位置ずれ量および前記ノズル位置ずれ量に起因して生じる前記インプリント材の滴下位置の位置ずれを解消するよう、前記ステージの移動方向を制御するとともに、前記各ノズルから吐出するインプリント材の吐出タイミングを制御する。 （もっと読む）

【課題】液処理装置において、前記処理液ノズルに付着した処理液からの析出物により基板が汚染されることを防ぎ、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】カップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成される液処理部と、処理液ノズルと、前記カップ体の外側に設けられ、前記処理液ノズルを待機させるための待機部と、前記液処理部の各々の上方領域と、待機部との間で処理液ノズルを移動させるための移動手段と、前記待機部に設けられ、処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄する洗浄液供給手段と、前記待機部に設けられ、当該待機部で待機する処理液ノズルから垂れた前記洗浄液の液滴に接触して、当該液滴を処理液ノズルから除去する液取り部と、を備えるように装置を構成し、析出物を洗い流し、さらに使用した洗浄液の液滴を除去する。 （もっと読む）

【課題】ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。
【解決手段】スリット状の吐出口１６ａから処理液を吐出するノズル１６と、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤Ｔに置換された状態で保持するメンテナンス手段２６とを具備し、前記ノズルの吐出口から基板Ｇに処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置１であって、前記メンテナンス手段は、前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段３３，３４と、前記ノズルの吐出口との間に所定の間隙を形成する液保持面２８ａとを有し、前記待機期間において、前記ノズルは、前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面Ｔ１は、前記ノズルの外面に形成される。 （もっと読む）

【課題】フィルターエレメントの適切な交換タイミングを把握できるフィルター装置を提供する。
【解決手段】フィルター装置は、フィルター膜と前記フィルター膜を支持するサポート材とを有するフィルターエレメントを備え、前記フィルター膜と前記サポート材との少なくとも一方は、メタルイオンの吸着量に応じて色が変化する物質を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布される液状体の厚さをより均一にすること。
【解決手段】所定の吐出領域に液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記吐出領域を通過するように前記基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に設けられ、前記吐出領域での前記基板の浮上量を検出する検出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】単位ブロックに異常が発生したり、メンテナンスを行うときに、塗布、現像装置のスループットの低下を抑えると共に処理ブロックの設置面積を抑えること。
【解決手段】積層された前段処理用の単位ブロックと、各々対応する積層された後段処理用の単位ブロックとの間に設けられ、両単位ブロックの搬送機構の間で基板の受け渡しを行うための塗布処理用の受け渡し部と、各段の塗布処理用の受け渡し部の間で基板の搬送を行うために昇降自在に設けられた補助移載機構と、前記前段処理用の単位ブロック、後段処理用の単位ブロック各々に積層された現像処理用の単位ブロックとを備える塗布、現像装置を構成する。各層間で基板を受け渡せるので、使用不可になった単位ブロックを避けて基板を搬送することができる。また、現像用の単位ブロックが、前段処理用及び後段処理用の単位ブロックに積層されているので、設置面積が抑えられる。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に光硬化性樹脂を含有する液体を打滴するための複数のノズル(120)が所定の方向に沿って一列に並べられた構造を有し、複数のノズルのそれぞれに連通される複数の液室(122)、及び複数の液室に対応して配設される液室内の液体を加圧するための圧電素子を具備する液体吐出ヘッド(110)を備え、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させて、液体を基板上に離散的に着弾させるように圧電素子を動作させるとともに、前記液体吐出ヘッドの構造に対応して前記複数のノズルがグループ化され、該グループごとに圧電素子の動作が制御される。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に機能性液を打滴する複数のノズル(120)、及び少なくとも一部が圧電素子(123)で構成された側壁（121）によって区画され、各ノズルのそれぞれに連通される液室を具備し、圧電素子をせん断変形させて液滴を打滴する液体吐出ヘッド(110)と、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる搬送部(108)と、を具備し、液体吐出ヘッドに具備される複数のノズルについて、両隣のノズルが異なるグループに属するように複数のノズルを３つ以上のグループにグループ化するとともに、同一の打滴タイミングにおいて同一のグループに属するノズルのみから打滴を行い、液体を前記基板上に離散的に着弾させるように圧電素子の動作が制御される。 （もっと読む）

【課題】 例えば太陽電池用のフィンガー配線パターンなどのパターンを、その開始端も含めて均一に形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 ペーストに加えるせん断応力の増加に応じたペーストの粘度変化（粘度特性）を測定する（ステップＳ１０）。測定した粘度特性に応じて、ノズルからのペーストの吐出を開始する際における基板の移動速度条件を調整する（ステップＳ２０）。調整された速度条件で基板を移動させるとともにノズルからペーストを線状に吐出して基板上に線状のフィンガー配線パターンを塗布形成する（ステップＳ３０）。 （もっと読む）