【課題】枚葉処理される基板間の処理時間間隔を短縮し、生産効率を向上することのできる基板処理装置及び処理液供給方法を提供する。
【解決手段】制御手段１０はノズル１１の吐出口１１ａからプライミングローラ３５に所定量の処理液Ｒを吐出させ、プライミング処理部３６により前記プライミングローラ３５を回転させて吐出口１１ａに付着しているレジスト液を整える一方、ポンプ２２に、吸入管２１を介して処理液供給源２０から処理液を吸入させる。 （もっと読む）

【課題】ハンプの低減が図られる半導体装置の製造方法と、ハンプが低減された半導体装置と、レジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】半導体基板１を回転させながら、ハンプ処理用流体吐出ノズル５５から、純水等の不活性な液体６４ａを所定の圧力をもって吐出させ、ハンプ３ａが発生している領域へ噴き付ける。高圧の不活性な液体６４ａをハンプ３ａに噴き付けることによって、ハンプ３ａが押し潰されて、下層レジスト材料膜３の膜厚が半導体基板１の全面においてほぼ均一になる。 （もっと読む）

【課題】薬液の補充開始時の過剰圧力変動を抑制してフィルタの濾過速度を制御し、濾過精度の維持を図れるようにすること。
【解決手段】薬液ポンプ５０の一次側開閉弁Ｖ１及び二次側開閉弁Ｖ２の開閉動作及び薬液ポンプの給排動作により、薬液ボトル１３より供給される薬液をフィルタ４６にて濾過した後、吐出ノズル４３より吐出する薬液供給システムにおいて、薬液ポンプの作動室５３に連通する管路５６に、圧力センサ５９、フローメータ５７及び電空レギュレータ５８を備えると共に、電空レギュレータを制御する制御部６０を備え、圧力センサは、薬液ポンプへの薬液の補充開始時に、一次側開閉弁を開放した際の作動室側の圧力を検出し、作動室から排気された排気流量をフローメータにより検出し、制御部は、検出された圧力と排気流量に基づいて、薬液の補充開始時に過剰圧力変動を起こさせないように電空レギュレータを制御して排気圧を調整する。 （もっと読む）

【課題】液処理装置において、基板の処理中に使用していない処理ノズルをメンテナンスすることができ、スループットの向上を図ると共に省スペース化を図ること。
【解決手段】鉛直軸周りに回動自在な回動基体と、第１の処理領域及び第２の処理領域の外側にて待機した状態で前記回動基体に設けられ、前記第１の処理領域及び第２の処理領域に共用されると共に基板に夫々異なる処理液を供給するための複数の処理ノズルと、前記回動基体に設けられると共に進退自在なノズル保持部を備え、複数の処理ノズルから選択された処理ノズルを前記ノズル保持部により保持して、第１の処理領域及び第２の処理領域から選択された処理領域に搬送するノズル搬送機構と、を備えるように液処理装置を構成し、待機部で待機している処理ノズルについてメンテナンスを行う。 （もっと読む）

【課題】塗布液を吐出するノズルの先端で塗布液の固化を防止することができる塗布処理装置を提供する。
【解決手段】実施形態による塗布処理装置は、ノズル２２と、塗布液供給源２１と、固化防止溶媒供給手段と、を備える。ノズル２２は、液体を吐出する流路２２１と、流路２２１の周囲を囲むように形成される流路２２２と、を有する。塗布液供給源２１と、ノズル２２の流路２２１に配管３１を介して塗布液４５を供給する。また、固化防止溶媒供給手段は、ノズル２２の流路２２２に配管３２，３３を介して塗布液４５の固化を防止する固化防止溶媒を気体状または霧状の状態で供給する。そして、気体状または霧状の固化防止溶媒がノズル２２の流路２２２から吐出される。 （もっと読む）

【課題】ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する処理液の塗布の際に、スリット状のノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。
【解決手段】スリット状の吐出口１６ａから処理液を吐出するノズル１６と、前記ノズルの待機期間において前記ノズル内の流路が前記処理液から前記処理液の溶剤Ｔに置換された状態で保持するメンテナンス手段２６とを具備し、前記ノズルの吐出口から基板Ｇに処理液を吐出し塗布膜を形成する塗布装置１であって、前記メンテナンス手段は、前記ノズルに前記溶剤を供給する溶剤供給手段３３，３４と、前記ノズルの吐出口との間に所定の間隙を形成する液保持面２８ａとを有し、前記待機期間において、前記ノズルは、前記液保持面に対し所定量の溶剤を吐出した状態で保持され、前記溶剤の前記ノズルに対する界面Ｔ１は、前記ノズルの外面に形成される。 （もっと読む）

【課題】処理モジュールに処理液を共通の塗布ノズルを用いて供給するときに、複数準備される薬液ノズルの処理液供給配管同士の擦れを防ぎ、同時に塗布ノズルを把持して移動するときにノズル搬送アームへの無用な負荷を掛けないようにすること。
【解決手段】処理液供給ノズル１０を接続し、上部に第１の把持穴４０を設けるノズルブロック部１７と、上部に第２の把持穴２５を設ける把持用ブロック部１８と、両ブロック部を直状に接続する接続管１９と、を備える。処理液供給ノズルに連通される処理液供給管２１は、接続管の中に配管され、ノズル把持アーム１２は、第１の把持穴及び第２の把持穴にそれぞれ嵌合可能な第１及び第２の把持用凸部４１，４２を備え、ウエハＷの上方に処理液供給ノズルを移動する際は、ノズルブロック部の第１の把持穴と把持用ブロック部の第２の把持穴にそれぞれ第１及び第２の把持用凸部を同時に嵌合して把持した状態で移動させる。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、ろ過効果を高めることが可能な薬液供給システムを提供する。
【解決手段】開示される薬液供給システムは、薬液を貯留する第１の容器および第２の容器と、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第１の配管に設けられ、第１の容器に貯留される薬液を第２の容器へ流す第１のポンプと、第１の配管に設けられ、第１の容器から第２の容器へ向かって第１の配管内を流れる薬液をろ過する第１のフィルタと、第１の容器と第２の容器とを繋ぐ第２の配管と、第２の配管に設けられ、第２の容器に貯留される薬液を第１の容器へ流す第２のポンプとを備える。 （もっと読む）

【課題】容器本体に処理液の残留を防ぐことができる処理液供給機構を提供すること。
【解決手段】蓋部から容器本体の上方へ突出し、周面にねじが切られた固定筒部と、この固定筒部と同軸に当該固定筒部の内側または外側に螺合して設けられた移動筒部と、前記固定筒部及び移動筒部からなる筒部と前記蓋体部とを、当該筒部に対して軸方向に移動自在に貫通すると共に移動筒部に対して軸方向の位置が固定された処理液供給管と、前記移動筒部と同軸に設けられた環状部分を有する回転操作部と、を備えるように処理液供給機構を構成する。前記移動筒部及び前記環状部分には夫々係合部及び被係合部が設けられ、前記回転操作部を回転させたときにこれらが互いに係合して移動筒部が回転し、移動筒部に加わるトルクが大きくなると係合が解除される。それによって処理液供給管の下端を容器本体の底部に当接させて、固定する。 （もっと読む）

【課題】基板に薬液を供給して液処理を行う液処理装置において、薬液の供給状態を確実に判定できる技術を提供すること。
【解決手段】基板保持部に保持された基板に、ポンプから配管及びノズルを介して薬液を供給して液処理を行う装置において、前記配管からノズルの先端部に至るまでの流路構成部材に歪みゲージが設けられた歪みセンサと、この歪みセンサの出力電圧を微分する微分回路と、この微分回路の出力に応じて薬液の供給状態を判定する判定部と、を備えるように装置を構成する。光学的な検出を行う場合よりも基板の表面状態や薬液の性質による影響が抑えられるので、精度高い判定を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】得られるレジスト膜の欠陥発生頻度の非常に小さいレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】レジスト塗布装置であって、
少なくとも、
基板にレジスト膜を塗布するためのレジスト液を吐出するレジストノズルと、
前記レジスト液を貯蔵するレジストタンクと、
該レジストタンクと前記レジストノズルとを結ぶレジスト送液ラインのうち、該レジスト送液ライン中に設けられたサックバックバルブと前記レジストノズル間のレジスト送液ラインと、
前記レジストタンクと前記レジストノズルとを結ぶレジスト送液ラインのうち、前記レジストタンクと前記サックバックバルブ間のレジスト送液ラインと
の各領域のレジスト液の液温を制御するための温度調節機構として、少なくとも温調媒体ラインと温調器とを備え、前記温調媒体ラインは前記温調器から前記各領域にそれぞれ独立して温調媒体を送るものであることを特徴とするレジスト塗布装置。 （もっと読む）

【課題】駆動モーターの回転不安定による吐出乱れを抑えることにより、塗布状態を安定させるピストンポンプ及びそれを備える塗布装置を提供する。
【解決手段】ポンプ駆動部に駆動モーター直結の減速機とは別に、減速比を選択可能な減速機構を設け、各種塗布条件によりポンプの吐出速度を変更する場合、減速比を変えることにより駆動モーターの回転数を定格回転数またはその近傍に維持し、駆動モーターの回転を安定させることにより、駆動モーター回転起因の吐出乱れを抑制する。 （もっと読む）

【課題】充填バルブの開閉動作等により生じる流量変動とフィルター前後の圧力変動を抑制することにより、異物混入が低減されたリソグラフィ組成物の充填装置、及び充填方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ組成物を供給する供給手段から排出されたリソグラフィ組成物を流路部にて送液し、流路部中に備えられた、リソグラフィ組成物をろ過するためのフィルターを備えたろ過手段にてリソグラフィ組成物をろ過し、流路部の下流に備えられた複数の充填手段にてリソグラフィ組成物を容器１３に充填するリソグラフィ組成物の充填方法である。複数の充填手段の充填ノズル１４からの総充填流量を調整してリソグラフィ組成物を容器１３に充填する。充填手段の各々に、充填流量を調整するためのバルブ７を備え、バルブ７の開度を調整することにより総充填流量が所定の範囲内となるように調整する。 （もっと読む）

【課題】出口ポート側で塗布液が多く残ってしまうのを防ぐことができるバルブを備え、塗布液同士が混ざってしまうのを防ぐことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】第一弁体５３が第一流路３５を閉塞することにより、第二流路３６と第三流路３７とが繋がった状態となる。第一弁体５３は、第一流路３５を閉塞した状態で、第二流路３６から第三流路３７へと塗布液が流れるバルブ内流路の内壁の一部を兼ねる。また、第二弁体５４が第二流路３６を閉塞することにより第一流路３５と第三流路３７とが繋がった状態となる。第二弁体５４は、第二流路３６を閉塞した状態で、第一流路３５から第三流路３７へと塗布液が流れるバルブ内流路の内壁の一部を兼ねている。 （もっと読む）

【課題】塗布液が多く滞留してしまうのを防ぐことができるバルブを備え、塗布液の状態や特性が変わってしまうのを防ぐことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】バルブ１５は、流入ポート４１及び流出ポート４２を端部に有する主流路４４と、この主流路４４の途中から分岐して他の流出ポートへと繋がる副流路とを備え、主流路４４の塗布液が副流路へ流れない第一状態と流れることができる第二状態とのいずれか一方の状態に切り換える。主流路４４を構成している周壁に形成された開口穴４４ａを開閉切り換える弁体６２を備え、前記第一状態で、弁体６２は、前記周壁の一部となって開口穴４４ａを塞いでいる。 （もっと読む）

【課題】従来のレジスト容器の構造は、レジストと空気が常に接触する構造であり、液中欠陥の原因となる。そこで、レジストと空気が接触しない構造レジストの容器を提供すること。
【解決手段】フレキシブルな材料からなる真空パックの内部にレジストを充填し、空気を遮蔽するようにしたことを特徴とするレジスト容器であって、前記フレキシブルな材料はレジストに反応する波長帯の光を遮光する材料で、アルミ、アルミナ等であることを特徴とするレジスト容器である。 （もっと読む）

【課題】基板上に供給されるレジスト液中の異物を低減し、レジストパターンの欠陥を低減する。
【解決手段】レジスト液供給装置２００は、レジスト液を貯留するレジスト液供給源２０１を有している。レジスト液供給源２０１は、供給管２０２を介して塗布ノズル１４２に接続されている。レジスト液供給源２０１の下流側には、供給管２０２内のレジスト液を加熱するヒータ２０５が設けられている。ヒータ２０５は、レジスト液を２３℃〜５０℃に加熱することができる。ヒータ２０５の下流側には、レジスト液中の異物を除去するフィルタ２０７が設けられている。フィルタ２０７の下流側には、供給管２０２内のレジスト液を冷却する温調配管２１１が設けられている。温調配管２１１は、レジスト液を２３℃に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】 レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 配管を有するレジスト塗布装置を洗浄する方法において、前記配管に接続され、上面及び下面によって画成される流路とこの流路内に配置されるフィルタとを有する治具を用いてレジストを供給する工程と、前記治具に代えて、前記治具の上面と下面との幅よりも狭い上面及び下面により画成される流路を有し、この流路にはフィルタを配置しない治具を用いて洗浄する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】送り出し部から処理液を供給ノズルを介して基板に吐出するにあたり、処理液の流量の監視と、処理液中の気泡のトラップとを同一の機器により行うこと。
【解決手段】気密な容器の上部に開口し、送り出し部から処理液が送り出される第１の流路と、当該容器の底部に接続され、途中に開閉バルブが設けられた第２の流路と、この第１の流路から滴下される液滴の落下軌跡を横切るように光軸が形成された光電センサーと、光電センサーからの検知信号に基づいて処理液の流量を計測する流量監視部と、容器の上部に設けられ、排気バルブを介して大気に開口する排気路と、前記容器内の液面レベルが下限レベルに達したか否かを監視し、下限レベルに達したときに、開閉バルブを閉じると共に排気バルブを開放し、送り出し部から容器内に処理液を送り出す制御部と、を備えるように装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】圧力リプルに起因する塗布ムラを効果的に防止または抑制しつつ、塗布処理開始時におけるノズル吐出圧力の立ち上がり性能を改善して塗布膜の膜厚均一性を向上させること。
【解決手段】このレジスト塗布装置において、長尺型のレジストノズル１２は、塗布処理中に主レジストポンプ２２および補助レジストポンプ２４より主レジスト管２６を介して圧送されてくるレジスト液をスリット上の吐出口よりレジスト液をステージ１０上の基板Ｇに向けて吐出する。補助レジストポンプ２４は、主レジストポンプ２２とレジストノズル１２との間で主レジスト管２６に分岐管３２を介して接続されている。 （もっと読む）