【課題】歩留まりの低下を防ぐこと。
【解決手段】基板を立てた状態で回転可能に保持する回転部ＳＣ１，ＳＣ２と、前記回転部ＳＣ１，ＳＣ２に保持される前記基板の外周を囲むように配置され、前記基板の第一面及び第二面をそれぞれ露出する開口部ＯＰ１，ＯＰ２を有するカップ部ＣＰと、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を介して前記基板の前記第一面及び前記第二面に液状体を吐出するノズル５２を有する塗布部ＮＺと、前記基板の前記第一面側及び前記第二面側に設けられ、前記開口部ＯＰ１，ＯＰ２を開閉する蓋部ＬＤ１，ＬＤ２とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウェハ外周部でレジストが薄膜化するのを抑制しつつ、レジストの消費量を低減することが可能な薄膜塗布装置および薄膜塗布方法を提供する。
【解決手段】ウェハＷ上には、レジストＲから気化した溶剤をウェハＷの外周部で飽和状態にさせる気化遮蔽プレート５が設けられており、気化遮蔽プレート５とのウェハＷと間隔は、レジストＲから気化した溶剤がウェハＷの外周部で略滞留し飽和状態を形成するように近接して設定する。 （もっと読む）

【課題】基板乾燥時間を短縮することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置において、基板Ｗを保持する保持テーブル４と、その保持テーブル４を回転させるテーブル回転機構と、基板Ｗの表面に対向して離間する位置からその表面を覆うように設けられ、基板Ｗ側の表面Ｍ２に複数の窪み８ａを有する平板８とを備える。 （もっと読む）

【課題】
ドラム状物体ごとの液状物質の塗布時間を短くして、多くのドラム状物体に液状物質を塗布する必要がある場合でも、液状物質を塗布する装置を多くせずに生産効率が悪くならないようにすることができるドラム状物体への液状物質塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
複数本のドラム状物体を、ドラム状物体の中心軸が略水平であり、それぞれのドラム状物体の中心軸が略１点で交差するように固定するドラム状物体セット手段と、ドラム状物体の中心軸が略交差する位置付近を通り、ドラム状物体のそれぞれの中心軸方向と略直角な軸を回転軸にして、ドラム状物体セット手段を回転させる第１の回転手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スピンコータにおける基板の回転運動に伴うレジストの飛沫の基板上への再付着を防止しながら、レジスト塗布工程における製造効率を向上させる手段を提供する。
【解決手段】スピンコータが、基板を水平に固定して回転させるターンテーブルと、ターンテーブル上の基板の上方にターンテーブルと平行に配置され、ターンテーブルと同軸に基板の外径より大きい開口部が形成された円盤状の天板と、天板の半径方向外側の縁部に接続し下方に向かって拡大する円錐状の傾斜板とを有するコータカップと、コータカップの、天板と傾斜板との曲折部に垂直方向の下方に向かって延在する、開口部と同心円状に配置された円筒状の遮蔽板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レジストミストなどを効率よく回転テーブル外、さらには塗布容器外に排出する塗布装置を提供すること
【解決手段】本発明にかかる塗布装置は、基板１を載置する回転テーブル２と、回転テーブル２の上に配設された回転キャップ３と、回転キャップ３の下側に設けられ、基板１と対向する対向板４とが一体的に回転するもので、基板１の外側に配置され、対向板４から下側に突出したスプラッシュガード５が複数設けられ、スプラッシュガード５の外側において回転テーブル２、回転キャップ３、及び対向板４で形成される空間を有し、隣り合うスプラッシュガード５の隣接する端部のうち回転時に先行する側の端部の外側における空間が、回転時に後行する側の端部の外側における空間よりも小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】 空気の吸い込み舞い上がり循環現象に伴うウェハ表面の汚損を防止してウェハ表面に対する所定の処理性能及び製品品質の著しい向上を達成できるようにする。
【解決手段】 テーブル３及び該テーブル３上に固定保持されたウェハ４を縦軸芯ａ周りで駆動回転させながら、ウェハ４表面の中心から少し変位した箇所に処理液を滴下させることで、その液を遠心力により径方向外方へ拡散流動させてウェハ表面に対する所定の処理を行う回転式ウェハ処理装置において、テーブル３上部にウェハ４の上方及び外周を覆うカバー１０が一体回転可能に設けられ、このカバー１０の回転中心部にはウェハ４とカバー１０間の微小隙間９に回転遠心力に応じた量の気体を導入する気体導入口１３が形成され、かつ、テーブル３外周辺とカバー１０外周辺部分との間には、微小隙間９内を流動した後の気体をウェハ４外方の斜め下向きに排出する排気口１４が形成されている。
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【課題】むらの発生を抑制しつつ、成膜時間を短縮することができるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】スピンコート装置１０は、円板状の基板１２を略水平な状態で保持して回転駆動するための回転駆動部１４と、基板１２の上に流動性材料１６を吐出するためのノズル部１８と、回転駆動部１４を収容し、且つ、回転駆動部１４の上方に基板１２の搬入／搬出のための上部開口２０が設けられたケーシング２２と、回転駆動部１４の周囲の雰囲気を下方に吸引してケーシング２２の外部に排気するための排気機構２４と、ケーシング２２の上部開口２０を部分的に遮蔽することにより、回転駆動部１４の上方に該回転駆動部１４の中心軸に対し対称的な形状の吸気孔２６を形成可能であり、且つ、該吸気孔２６を径方向に拡大／縮小自在である遮蔽機構２８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ミストや揮発性成分がユニット内外に流出するのを防止し、クリーンで安全な薬液処理ユニットを提供する。また、被処理基体面内で均一な処理を行なうことのできる薬液処理ユニットを提供する。
【解決手段】 被処理基体を載置し、回転する基体支持部と、前記被処理基体の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、前記被処理基体の上方から飛散する処理液の飛散を防止する飛散防止カバーと、前記基体支持部よりも下方から、廃棄物を排出する第１の排出手段とを含み、前記被処理基体を前記処理液で処理する薬液処理ユニットであって、少なくとも前記薬液処理ユニットを覆うように形成された容器と、前記容器の底部に排気孔を有する隔壁を介して配設され、揮発性成分を排出する第２の排出手段とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）