【課題】液処理装置の総排気量の増大を抑えながら、基板保持部の配列数を増加すること。
【解決手段】ｎ個（ｎは３以上の整数）のカップ体４を、夫々第１のダンパ７２が設けられた複数の個別排気路７と、これら複数の個別排気路７の下流側に共通に接続される共通排気路７３を介して排気量Ｅで吸引排気するにあたり、薬液ノズル５がウエハＷと対向する設定位置にある一のカップ体においては、当該カップ体側から外気を第１の取り込み量Ｅ１で取り込み、他の残りのカップ体においては、当該カップ体側から第１の取り込み量Ｅ１よりも小さい第２の取り込み量Ｅ２で取り込み、かつカップ体４側及び分岐路７６側の両方の外気の取り込み量が（Ｅ−Ｅ１）／（ｎ−１）となるように第１のダンパ７２を構成する。 （もっと読む）

【課題】塗布液をスピンコーティング法によって基板へ塗布するにあたって、基板裏面側へのパーティクルの付着を減らし、このパーティクルを洗浄するための溶剤の使用量を抑えることである。
【解決手段】カップ１０内のスピンチャック１１に保持されたウエハＷの周縁部裏面と対向するように、縦断面が山形の塗布液の跳ね返り防止用のガイド部２を設け、このガイド部２の内側に連続してカップ１０の下方側外部空間と区画する水平面２２を形成する。この水平面２２とウエハＷとの間の裏側空間２３はウエハＷの回転により雰囲気が負圧となる空間であり、前記水平面２２に開口部２５を形成する。そして、ウエハＷの回転数に基づいてシャッター６により開口部２５の開口量を調整し、またカップ１０の底部に接続された排気路中のダンパの開度を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の被処理基板に対して塗布した場合であっても、塗布量のばらつきが少なく、塗布量を高精度で制御できる両面塗布装置および塗液の両面塗布方法を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の両主面２ａに塗液を噴出する塗液用ノズル１８ａと、リンス液を噴出させて塗液用ノズル１８ａを洗浄するヘッドリンス用ノズル１９ａとを備える両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の両面に均一に塗液を塗布することができ、被処理基板の両面に均一な塗膜を形成できる両面塗布装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の一方の主面２ａに塗液を噴出する第１塗液用ノズル１８ａと、被処理基板２の他方の主面２ｂに塗液を噴出する第２塗液用ノズルとを備え、第１塗液用ノズル１８ａと第２塗液用ノズルとが、被処理基板２の厚み中心面に対して対称に配置されている両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】ストリエーションを発生させずに基板上に塗布液を塗布できる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布チャンバ１１と、塗布チャンバ１１内に設けられ、基板Ｓが載置される回転台１３と、前記回転台１３に載置される基板Ｓに塗布液を滴下するための塗布液用ノズル１４とを備え、前記塗布液用ノズル１４から、回転台１３により回転する基板Ｓの塗布面に塗布液を滴下して、遠心力により前記基板Ｓ上の前記塗布液を外周方向に伸展させて前記塗布面に塗布液を塗布する塗布装置１であって、前記塗布チャンバ１１には、塗布チャンバ１１内を、前記塗布液を構成する溶媒のうち少なくとも一つの溶媒の飽和蒸気で満たす雰囲気形成手段１７を備えたことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】基板の回転によりに生じるエクマン渦を上方へ排気して、塗布むら（風きり跡）を防止する。
【解決手段】スピンチャックに保持されたウエハに塗布液を吐出して処理を施す塗布処理装置において、排気機構２０は、回転によりウエハ表面を流れる気流の乱流及び遷移域（エクマン渦）よりウエハ周縁側の上方の全周を覆う内側フード部２１及び内筒部２２を有する内カップ２３と、エクマン渦の上方の全周を覆う外側フード部２４及び外筒部２５を有する外カップ２６と、内カップ及び外カップの排気通路２７ａ，２７ｂ，２８にそれぞれ連通する排気ポンプ３１，３２と、スピンチャックのモータ２、排気ポンプの駆動を制御するコントローラ４０と、を具備し、ウエハ表面に塗布液が吐出された後、ウエハが回転した際に、排気ポンプを駆動し、この際、外カップの排気通路の排気量を、内カップの排気通路の排気量より大きくして、エクマン渦の気流を上方側へ排気する。 （もっと読む）

【課題】レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。
【解決手段】基板の表面にレジストを塗布してする塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、を備えるように塗布、現像装置を構成する。前記薬液としては例えばアルコールや酸を含んだアルコールが用いられる。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】角形基板でもその角部分の先端までほぼ均一な薬液層を形成する事の出来る薬液塗布装置を開発する事にある。
【解決手段】(1) 角形基板(1)が嵌め込まれる角形凹所(16)が形成され、該角形凹所(16)の外接円(G)外に面一にて平坦縁部(10b)が形成され、角形基板(1)が前記角形凹所(16)に面一に嵌め込まれた状態で回転する回転チャック(10)と、(2) 角形基板(1)上に薬液(2)を供給するための薬液供給部(11)と、(3) 回転チャック(10)に載置された角形基板(1)を覆うためのものであって、回転チャック(10)の直上に気体流入孔(12)が穿設されており、気体流入孔(12)から角形基板(1)側に導入された気体にて角形基板(1)の中心(P)側から周縁(S)方向に流れる気流(4)を作り出す円錐台状のフード(13)とを有する薬液塗布装置(A)であって、(a) フード(13)の気体流入孔(12)が角形基板(1)の内接円(N)に等しく、且つ、(b) フード(13)の裾縁(14a)が回転チャック(10)の外周縁(10c)に等しく形成されている事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の上方におけるミスト発生を抑制できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板を水平に保持し、基板とともに回転可能な基板保持部２と、基板保持部２を回転させる回転機構と、基板に処理液を供給する処理液供給機構と、基板保持部２の外側に、この基板保持部２に保持された基板を囲繞するように設けられ、基板保持部２とともに回転し、回転する基板から振り切られた処理液を受ける壁部３２を有する回転カップ４と、回転カップ４の外側に、この回転カッ４プ及び基板保持部２を囲繞するように設けられ、回転する基板から振り切られた処理液を収容する環状の液収容部５６と、この環状の液収容部５６よりも内側に設けられた内側環状空間９９ｂとを備えた排気及び排液カップ２０１と、排気及び排液カップ２０１の内側環状空間９９ｂに接続された排気機構２００と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 隙間を液シールで気密化することにより、カップ内の排気効率を高めて基板を清浄度高く処理することができる。
【解決手段】 液盛り後、所定時間が経過すると、上部カップ３５を「処理位置」に移動させると、下部かぎ状片４３の凹部４３ｂに、上部かぎ状片３１の垂下部材２９が僅かな隙間をおいてはまり込む。しかし、凹部４３ｂには純水が貯留して液シールを構成しているので、上部カップ３５の側方から外気が侵入するのを防止することができる。また、純水は凹部４３ｂに溜まるように構成してあるので、純水が容易に漏れ出すことがなく、長時間にわたり液シールを維持することができる。 （もっと読む）

【課題】保持具から基板を取り外すことなく基板の両面に塗布液を塗布でき、かつ基板の厚みにばらつきがあっても、塗布液を均一に塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】角基板１０両面に塗布液を塗布するための塗布装置であって、角基板１０を保持する保持具２は、角基板１０の一面全体を露出する第１開口部Ｈ１が設けられた第１保持具部本体２１１と、一面を第１開口部Ｈ１の周囲平面と同一平面に固定するため、角基板１０に当接する当接部２１３ａ、および反対側から押圧して角基板１０を固定する押圧部２１３ｂとを備えた第１保持具部２１と、他面全体を露出する第２開口部Ｈ２が設けられた第２保持具部本体２２１を備えた第２保持具部２２とを重ね合わせて、他面が第２開口部Ｈ２の周囲平面と同一平面になるように、第１保持具部２１と第２保持具部２２の間隔をねじ２３による内周壁部２２２への押圧で固定することで調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に対して、レジスト等の薬液を所望の膜質で全面に確実に塗布する。
【解決手段】塗布膜形成装置は、シリコン基板１を載置するためのスピンチャック２が回転可能に設けられ、第１の滴下ノズル９によりレジストを滴下してシリコン基板１を回転させて第１の塗布膜を形成する。シリコン基板１のノッチ部分などで発生する塗布不良領域に対して第２の滴下ノズル１０からレジストを滴下して第２の塗布膜を形成し、全面に確実にレジストの塗布膜を形成する。その後、吸引ノズル１１により第２の塗布膜の表面を吸引して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】 工程の簡略化とレジスト膜の膜厚分布の均一化とを両立させるとともに、ウェーハの大口径化にも対応できる塗布膜コーティング装置を提供する。
【解決手段】 音速ノズルより、ウェーハの裏面に向かってガスを噴出させる。ウェーハの裏面に沿って外周側へと流れるガスの流速が、ウェーハの裏面と第２カップとの間で速められ、ベルヌーイ効果により保持される。これによって、ウェーハのバタツキが抑えられる。また、裏面へレジスト液が回り込むのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板へのミストの再付着を確実に防止できるスピン洗浄装置を提供する。
【解決手段】吐出ノズル11の周囲にノズル用排気ダクト12を設ける。スピン部15の基板チャック３の周囲に、排気ダクト８に連通する風路部７を設ける。吐出ノズル11の近傍のミストを、ノズル用排気ダクト12によって瞬時に排出し、スピン部15にてスピンする被洗浄基板Ｂの周囲へと飛散するミストは、風路部７によって瞬時に排出することで、被洗浄基板Ｂへのミストの再付着を確実に防止できる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１００は、箱形の処理チャンバ１を備える。この処理チャンバ１の４つの側面には、スリット１ａがそれぞれ設けられている。処理チャンバ１を取り囲むように箱形のハウジング２が設けられている。処理チャンバ１とハウジング２との間に空間ＳＰが形成される。ハウジング２の上部には、空間ＳＰ内にダウンフローを形成するためのファンフィルタユニットＦＦＵが設けられている。ファンフィルタユニットＦＦＵに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットＦＦＵにより清浄化され、空間ＳＰに供給される。空間ＳＰに供給された空気は、処理チャンバ１の各スリット１ａを介して当該処理チャンバ１内に供給される。これにより、処理チャンバ１内に竜巻状の気流が発生される。 （もっと読む）

【課題】レンズ表面への付着物の付着を防止して外観が良好となるレンズのスピンコート装置及び反射防止層用組成物のコーティング方法を提供すること。
【解決手段】ユニット６０は、保持具２０を覆うような外壁部６０３を備え、外壁部６０３は、レンズ５０の上部にあたる位置に開口部６０１が形成されている。外壁部６０３の下端部は、ユニット６０の底部６０４まで達しておらず、その下端部と底部６０４との間には、連通口６０５が形成されている。外壁部６０３の外周側には、全周にわたって外周部６０６が環状に設けられ、外周部６０６と、保持具２０と外壁部６０３との間に形成された内周部６０７は、連通口６０５を介して互いに連通している。
ユニット６０の底部６０４に形成された貯液部６０９は、その中心からユニット６０の外周側に向かうに従って、下方に傾斜する形状である。 （もっと読む）

【課題】 基板を水平に保持して回転する基板保持体の下方において発生する気流が、排気や排液の流れに与える影響を極力低減できる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】 液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持する保持部材１４を有し、ウエハＷとともに回転可能な回転プレート１１と、前記回転プレート１１を回転させる回転モータ３と、ウエハＷに処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、回転プレート１１の回転中心からみて保持部材１４よりも径方向外側に設けられ、前記回転プレート１１の下方に形成される気流を遮蔽する遮蔽壁５５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】析出物の生成が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】スプラッシュガード２４は、周壁部４０を有する。周壁部４０の上部には、内側上方に傾斜する傾斜部４１が設けられている。スプラッシュガード２４の上部には、周壁部４０、傾斜部４１および閉塞部材４８により囲まれた環状の排気通路４２が形成される。傾斜部４１の下方には、仕切部４６が設けられている。傾斜部４１と仕切部４６と間には、回収液空間４７が形成されている。
傾斜部４１には、排気通路４２と回収液空間４７とを連通させるように、複数の排気孔５２が形成されている。排気孔５２は、排気通路４２から回収液空間４７に向かって外側下方に傾斜している。周壁部４０の上端部近傍には、排気通路４２から外方に貫通する複数の接続口５３が形成されている。 （もっと読む）