【課題】高いバリア性と透明性とを有し、且つ膜応力が小さくてバリア性の経時安定性に優れたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】透明な可撓性支持基板２と、水蒸気透過率が０．０９ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下である酸化窒化珪素薄膜Ａからなるガスバリア層３ａを少なくとも１層有しており、薄膜Ａの元素組成が、Ｎ／Ｓｉ（係数Ｘａ）が０．１〜０．９、Ｏ／Ｓｉ（係数Ｙａ）が０．６５〜１．８５、４−（３Ｘａ＋２Ｙａ）が１以下となるように構成したガスバリアフィルム。 （もっと読む）

この発明は基材（１０）、特に透明なガラス基材に関し、この基材は、薄膜多層［この薄膜多層は、赤外および／または太陽放射における反射特性を有する機能層（４０）、特に銀または銀を含む金属合金を主成分とする金属機能層とおよび２つのコーティング（２０、６０）（このコーティングは、複数の誘電体層（２４、２６；６４）から構成されている。）とを、機能層（４０）（機能層（４０）は、下にあるコーティング（２０）上にそれぞれ直接堆積されたぬれ層（３０）そのものの上に堆積されている。）が２つのコーティング（２０、６０）の間に設けられるように含む。］を備えている。この発明の基材は、下にあるコーティング（２０）が、窒化物、特に窒化ケイ素および／または窒化アルミニウムを主成分とする少なくとも１つの誘電体層（２４）とおよび混合酸化物から作られた少なくとも１つの非結晶性平滑層（２６）（前記平滑層（２６）は上にあるぬれ層（３０）と接触している。）とを含むことを特徴とする。
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【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

【課題】基板のウェットエッチング加工が容易であり、広い波長域にわたって効率良く赤外線を吸収できる赤外線吸収体および熱型赤外線検出器を提供する。
【解決手段】赤外線吸収膜２は、ＴｉＮを含む第１の層２１と、Ｓｉ系化合物を含む第２の層２２とを備え、第２の層２２側から入射する赤外線のエネルギを熱に変換する。ＴｉＮは、８μｍより短い波長域の赤外線に対する吸収率が高い一方、８μｍより長い波長域の赤外線に対しては反射率が高い。従って、長波長域の赤外線に対する吸収率が良いＳｉ系化合物層をＴｉＮ層上に積層すれば、ＴｉＮ層において吸収率が低い波長域の赤外線をＳｉ系化合物層において好適に吸収できると同時に、Ｓｉ系化合物層を透過しようとする赤外線をＴｉＮ層の界面で反射してＳｉ系化合物層へ戻すことができる。 （もっと読む）

種々の環境下における保護に供する物品（１００）及び方法が提供される。物品（１００）は、第１の熱膨張係数を有する固体基板（１０２）と、第２の熱膨張係数を有する酸化マグネシウム系層（１０６）と、固体基板（１０２）及び酸化マグネシウム系層（１０６）間に配置された接着コート（１０４）とから成る。接着コート（１０４）は、実質的に第１及び第２の熱膨張係数の中間にある第３の熱膨張係数を有し、固体基板（１０２）及び酸化マグネシウム系層（１０６）間の熱的適合性を助成する。更に、酸化マグネシウム系層（１０６）は、実質的に非孔性であり、それによって、固体基板（１０２）への気体、粒状物質、スチーム及び流体の侵入を制限する気密シールを提供する。
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【課題】従来のシート状あるいは中空円筒状支持体を必要としないにも関わらず、寸法安定性が高く、従来の各層界面での接着性確保の課題を解決できるレーザー彫刻可能なシート状あるいは中空円筒状印刷基材の提供。
【解決手段】レーザー彫刻可能な樹脂硬化物層内部に繊維状強化材を有する印刷基材、あるいはレーザー彫刻可能な樹脂硬化物層あるいは写真製版技術でパターンを形成可能な感光性樹脂組成物層の下に位置し且つクッション性を有する樹脂層内部に繊維状強化材を有する印刷基材であって、該印刷基材はシート状あるいは中空円筒状の成形体であることを特徴とするレーザー彫刻可能なシート状あるいは中空円筒状印刷基材。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ基板等の基板の表面に樹脂層を積層した基板樹脂積層構造体において、新規な構造の中間層を用いて樹脂層と基板との接合強度を向上させる。
【解決手段】Ｓｉからなる基板１２の表面に熱酸化等により表面改質膜１５（ＳｉＯ_２熱酸化膜）が形成される。表面改質膜１５の上にスパッタやＣＶＤにより酸化膜１６（ＳｉＯｘ膜）が少なくとも１層成膜され、酸化膜１６の上に樹脂層が形成される。酸化膜１６は、表面改質膜１５よりも密度が大きい。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック表面の親水性化、疎水性化、耐摩耗性付与、機械的強度付与、薄膜との密着性付与等を行うことができるプラスチック表面処理法の提供。
【解決手段】
減圧下で水素分子を触媒体により原子状水素に分解し、これをプラスチックフィルム表面で再結合させてエネルギをプラスチックフィルム表面に与える。これにより、プラスチックフィルムの極表面のみが加熱される。また、プラスチック表面の特定の元素が選択的に除去され、化学的に活性で、制御された表面形状を有するプラスチックフィルムの表面を得る。 （もっと読む）

【課題】
表面が平滑で、塵埃などの付着がなく清潔で、巻取り状で製造することのできる光硬化基材形成用の離型フィルム、及び光硬化基材の製造方法を提供する。
【解決手段】
帯状のフィルム基材１に、撥水性層２を基材フィルムの両側端部に設け、親水性層３を前記撥水性層２を除く部分に設けてなり、上記撥水性層２がプラズマＣＶＤ装置を用いた酸化炭化珪素もしくは酸化炭化窒化珪素であり、膜厚が１〜１００ｎｍであり、水に対する接触角が８０〜１５０°であり、上記親水性層３が酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウム、酸化マグネシウムのうちいずれかを含有し、膜厚が１０〜１００ｎｍであり、中心線平均粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であり、水に対する接触角が１０〜６０°であることを特徴とし、該光硬化基材形成用の離型フィルムを用いた光硬化基材の製造方法も特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
回路形成後のポリイミド層と導体層との間において充分な密着力が得られ、かつ熱負荷後の密着力低下しなくすることを可能とした、フレキシブル回路基板等に用いることのできる積層体を提供する。
【解決手段】
例えばポリイミドフィルムなどのような高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に珪素もしくは珪素化合物による珪素層を積層し、さらに少なくとも、前記珪素層の表面に金属層と、前記金属層の表面に銅導電層と、を順次積層してなる構成を有する積層体とした。 （もっと読む）

【課題】ネジ止め等のためにセラミックス基板に貫通孔が形成されると共に、この貫通孔を保護するために補強部材が設けられたセラミックス回路基板を製造するための製造方法を提供すること。
【解決手段】表裏両主面を貫通する貫通孔２を有する板厚が０．８ｍｍ以下のセラミックス基板１と、前記セラミックス基板の主面上に設けられた回路板と、前記貫通孔の前記主面側の端部に設けられた補強部材３とを具備するセラミックス回路基板の製造方法であって、前記貫通孔を有するセラミックス基板の少なくとも前記回路板が設けられる部分に金属板４を接合すると共に、前記補強部材が設けられる部分に金属板を接合した後、前記回路板が設けられる部分に接合された金属板および前記補強部材が設けられる部分に接合された金属板をエッチングすることにより前記回路板および前記補強部材とするもの。 （もっと読む）

本発明は、透明基材のための、特に窓ガラスのための、高耐熱性の、銀層を機能性層として含む低放射率（「低Ｅ」）コーティングの系であって、基材の表面と銀層との間に、特にＴｉＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅又はＴｉＮｂＯ_x製の、高屈折性の層を有し、そして銀層の直ぐ下にＺｎＯから本質的になる層を有するコーティング系であって、高屈折性の層とＺｎＯ層との間に、拡散防止層として働き、ＮｉＣｒＯ_x又はＩｎＳｎＯ_x（ＩＴＯ）からなる厚み０．５ｎｍ未満の混合酸化物層が配置されているコーティング系に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、蒸着膜を有するガスバリアフィルムであって、ガスバリア性に優れ、安価なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、樹脂からなる基材と、上記基材上に形成され、蒸着膜である第１無機層と、上記第１無機層上に形成され、超微粒子で形成された膜である第２無機層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】表面平坦性と水蒸気バリア性が向上した粘土薄膜基板、および、その粘土薄膜基板を用いた表示素子を提供する。
【解決手段】粘土薄膜基板は、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜１１の少なくとも片面に、ガスバリア無機質層１２が積層されている。また、他の粘土薄膜基板においては、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の少なくとも片面に、平坦化無機質層が積層され、該平坦化無機質層の上に、ガスバリア無機質層が積層されている。ガスバリア無機質層は、窒素を含む酸化珪素膜よりなり、平坦化無機質層は、炭素を含む酸化珪素膜よりなる。これらの粘土薄膜基板は、エレクトロルミネッセンス表示素子および液晶表示素子の基板に好適に使用できる。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れ、耐久性が優れたガスバリア性構造体を提供する。
【解決手段】 光硬化樹脂層と無機化合物層とをそれぞれ少なくとも１層有するガスバリア性構造体の製造方法であって、支持基材の少なくとも一方の面に形成された光硬化性樹脂層に紫外線を照射して半硬化の光硬化性樹脂層を作製する第１硬化工程と、この半硬化の光硬化性樹脂層の上に真空蒸着法により無機化合物層を形成した後、紫外線を再度照射して、前記の半硬化の光硬化性樹脂層をさらに硬化させる第２硬化工程とを行うことを特徴とする、ガスバリア性構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射率の低下を防止する。
【解決手段】本発明に係る反射鏡１０は、銀を含む金属層３が基材１上に積層された反射鏡であって、炭素元素を含有した窒化物層４が金属層３上に積層されている。 （もっと読む）

本発明の主題は、太陽放射に作用する薄膜積層を備えた透明の基材、特にガラス基材であって、積層はマグネトロンスパッタリングによって堆積され、積層が少なくとも高い光学的指標ｎの潤滑膜を含み、この潤滑膜は少なくとも１つの副膜を伴い、副膜が窒化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素もしくは炭窒化ケイ素をベースとするか、あるいはアルミニウムおよび／またはジルコニウムの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物あるいはそれらの化合物の２つ以上の混合物（混合されたＳｉ−ＡｌまたはＳｉ−Ｚｒの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物）をベースとする基材である。 （もっと読む）

【課題】不純物粒子の混入がなく、非常に安定した製造が可能であり、折り曲げ耐性に優れ、かつ過酷な環境下で保存されても、密着性、透明性、フレキシブル性（折り曲げ耐性）、ガスバリア性が損なわれず、また低残留応力であり、後工程適性（ｅｘ．有機ＥＬ製造工程、ＩＴＯ成膜適性）を備えたガスバリア性樹脂基材、およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】樹脂基材上に、該樹脂基材側から密着膜、セラミック膜及び保護膜を順次形成するガスバリア性樹脂基材において、水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下、酸素透過率が０．０１ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることを特徴とするガスバリア性樹脂基材。 （もっと読む）

【課題】銅製放熱部材に代表される廉価で熱伝導率が高く、高熱膨張率の金属製放熱部材（ヒートシンク）を使用したとしても、はんだクラックを抑制し得るセラミック基板、セラミック回路基板およびそれを用いた電力制御部品を提供すること。
【解決手段】セラミック板１の両主面に金属板３を接合してなるセラミック基板において、少なくとも一主面上の金属板３のセラミック板と対向する面に、セラミック板１との非接合部分Ｂを有することを特徴とするセラミック基板。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れるガスバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に金属層または金属酸化物層およびオーバーコート層を積層したガスバリア性積層体の製造方法であって、基材上に金属層または金属酸化物層を形成し、該金属層または金属酸化物層の表面を活性化処理した後にオーバーコート層を設けることを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 （もっと読む）