通気抵抗性膜に熱可塑性ホットメルト接着剤を積層させるときに、その表面エネルギーが減少するようにその膜を処理することによって、気孔の閉塞が減少する。それによって、再生された繊維質遮音マット製造廃棄物を実質的な量で取り込んだ音響積層物の製作が可能となり、主として１／４波長則による吸音の考慮と通気抵抗性膜の多孔度および界面接着の制御とに基づいて、積層物を設計することが可能となる。
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【課題】アモルファスカーボン膜の着色が低減され、より透明性の高いアモルファスカーボン膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック容器内面に放電プラズマにより成膜してなるアモルファスカーボン膜であって、その色差計測であるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のｂ^＊絶対値が７以下とし、全反射ラマン分光法によるＳ（グラファイト状成分）／Ｎ（ポリマー成分）比が１．０以下０．２以上とすることにより、アモルファスカーボン膜が軟質であり、透明性が極めて良好なものとなる。 （もっと読む）

【解決手段】 ポリイミドフィルムにスパッタ法にて金属層を設け、その後、真空蒸着法にて１回の真空蒸着で成長させる銅層を１０，０００Å（オングストローム）以下にして必要に応じて真空蒸着を繰り返すことで、必要な銅層を設けることを特徴とするフレキシブル金属箔ポリイミド基板の製造方法。
【効果】 本発明の方法によれば、剥離強度、カール性に優れたフレキシブル金属箔ポリイミド基板を極めて簡単で安価な方法にて製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 良好な透明性、屈折率、ＵＶ吸光度、気体／水分遮蔽及び加水分解安定性などの特性をもつ高品質ＴｉＯ_２コーティングを高速で形成する。
【解決手段】 基板（１２）と基板（１２）に設けられた酸化チタン層（１４）を含む構造体を提供する。基板（１２）上に酸化チタンコーティング（１４）を形成する方法も提供する。この方法は、プラズマを発生させる段階、基板（１２）へと至るプラズマ流中にチタンを含む第一の反応体と酸素を含む第二の反応体を供給する段階、及び基板（１２）上に酸化チタンコーティング（１４）を形成する段階を含む。
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【課題】有機ポリマーに対する接着力を増大させ、得られた多層被膜に対する柔軟性や延伸性を改善し、さらに、化学的耐性を改善し、ガス透過性を減少させ、屈折率を変え、そして硬度、靭性及び摩擦抵抗を高めることができるプラズマ強化化学蒸着法を提供する。
【解決手段】第一工程においてテトラアルキルオルトシリケート化合物（ＴＡＯＳ）及び所望によりオキシダントからなる気相混合物の大気圧プラズマ蒸着によって、有機ポリマー基材表面上に、プラズマ重合した有機ケイ素化合物の第一層を析出させそしてその後、第二工程においてオキシダント及びＴＡＯＳからなる気相混合物の大気圧プラズマ蒸着によって、露出した該第一層表面上に、実質上均一な酸化ケイ素化合物の第二層を析出させると共に、気相混合物中で使用されるオキシダント／ＴＡＯＳの比を第一工程よりも第二工程で大きくするプラズマ蒸着による有機ポリマー基材表面上への多層被膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、密着性、耐屈曲性に優れたディスプレイ用基板フィルムを提供する。また、経時劣化の少ない有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 少なくとも透明プラスチックフィルム、無機薄膜、活性線硬化樹脂層からなるディスプレイ用基板フィルムであって、前記活性線硬化樹脂層は、一般式（１）で表わされるオキセタン環を複数有する化合物を５０質量％以上含有する組成物を、活性線によって硬化させた樹脂層であることを特徴とするディスプレイ用基板フィルム。


（Ｒ₁₁〜Ｒ₁₆は１価の置換基を表し、Ｌ₁はｍ価の連結基を表し、ｍは２以上の整数を表す。また、ｍが３以上の場合複数のＲ₁₄〜Ｒ₁₆はそれぞれ異なっていてもよい。） （もっと読む）

本発明は、高密度回路の形成が可能で、デスミヤなどのプロセス耐性を持ち、優れた接着性、および高温高湿環境下での接着信頼性にすぐれた積層体およびプリント配線板を提供する。すなわち、本発明は、熱可塑性ポリイミド層および金属層かちなる積層体、もしくは、非熱可塑性ポリイミドフィルム層、その片面または両面に形成された熱可塑性ポリイミド層および金属層からなる積層体、ならびにプリント配線板である。 （もっと読む）

【課題】鏡面が高精度で、かつ、製造コストが低い反射鏡及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面形状が反射鏡の最終表面形状を形成するように予め形成された基材１と、接着剤層２と、反射フィルム３とを順次有する積層体を圧縮成形してなる反射鏡において、上記接着剤層２の厚さｔが、上記基材１の表面形状１ａと上記反射鏡Ｍの最終表面形状Ｍａとの上記積層方向の最大寸法誤差以上に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本件は、従来の単層の珪素化合物を主体とする薄膜からなるバリア層を有するプラスチック容器では得られなかった高度のガスバリア性を奏するプラスチック容器を提供する。
【解決手段】プラスチック容器はその内面に、プラズマ化学気相成長法によって形成した、複数層の酸化珪素を主体とするガスバリア性薄膜からなり、第１層から最上層にかけて各層の酸化度が順次増加した、酸化珪素を主体とする複層ガスバリア性薄膜を備える。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 撥水性に優れ、安定した撥水性能を有する超撥水性表面を有する成形物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 撥水性樹脂からなる基材１１または最上層に撥水性樹脂を有する基材の表面に所定の形状の凹部１２を所定ピッチＰで周期的に形成することによって微細凹凸面１３を設けたこと特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性に優れ、低コストで量産性に優れた反射防止フィルム、その製造方法、この反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】 有機ポリマーの透明基材フィルム上に直接または間接に、アルコキシシラン化合物またはその加水分解物を含有する塗布液により形成される低屈折率層を設け、該低屈折率層の表面にフレームプラズマ処理を行なうことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、水蒸気透過率が５×１０^-3ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下及び／又は酸素透過率が５×１０^-3ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下、さらには、ＥＬ基板に求められる水蒸気透過率１×１０^-6ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下、酸素透過率１×１０^-3ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下のバリアフィルムを安価に提供するものである。
【解決手段】樹脂フィルムの両面に、５ｎｍ〜１００ｎｍ厚の酸化珪素膜からなるバリア層と、さらにその外側に０．１〜３μｍ厚のアクリレート又はメタクリレート膜からなる保護層とを設けた両面に単膜のバリア層を形成した構造のバリアフィルムであって、バリア層及び保護層が真空成膜により形成されたバリアフィルムの水蒸気透過率が５×１０^-3ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下及び／又は酸素透過率が５×１０^-3ｃｃ／ｍ²／ｄａｙ以下となるバリアフィルムである。 （もっと読む）

本発明は、適切な強度およびパルス幅のマイクロ波パルスがプラズマを発生するためにマイクロ波注入デバイスを介して注入される反応器のプラズマ室内で、導電性透明被膜またはＴＣＯ被膜を基板に付着するプラズマ・インパルスＣＶＤ方法（ＰＩＣＶＤ方法）に関する。マイクロ波注入デバイス上での導電性被膜の形成は、保護デバイスによって特に抑制されるが、これは、そうしないと、マイクロ波透過率の減衰によってプラズマ強度が低減され、それによって結局プラズマ形成が妨げられるからである。層形成を抑制するために使用される保護デバイスは、たとえば、プラズマ室とマイクロ波注入デバイスの間のマイクロ波透過性被膜、マスキングまたは分離デバイス、たとえば、一定の間隔で、任意選択で清浄化されるかあるいは取り替えられるフィルムまたは接着テープでもよい。そのような基板はまた、被膜デバイスまたは分離デバイスとして使用されることもできる。層の所望しない形成はまた、プラズマ室内のガス組成を制御することによって効果的に抑制されることもできる。マイクロ波注入デバイスおよび／または保護デバイスは、マイクロ波透過を実質的に妨げず非導電性または弱導電性である被膜が堆積される温度レベルまで冷却できる。本発明はまた、本発明の方法を実施するＰＩＣＶＤ反応器にも関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、高いガスバリア性を備え、基材密着性及び屈曲耐性に優れたガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】 平均表面粗さＳＲａが１〜５０ｎｍの基材上に、少なくとも１層の金属、または炭素含有率が１％未満の無機化合物を含有するガスバリア層と、少なくとも１層の炭素含有率が５％以上の無機化合物、有機ポリマーまたは無機ポリマーを含有する応力緩和層とを有し、該基材に接する第１層の平均膜厚が、該基材の平均表面粗さＳＲａより小さいことを特徴とするガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】
建築物の、特に内装表面材として、または家具やキャビネット類の面材として使用する
ことのできる化粧材に、金属粉やパール顔料等の光輝性物質をフィルムや樹脂に練り込まなくても、自然な光沢感や光輝感が発現する装飾性の良い化粧材を生産性よく製造する。
【解決手段】
基材１と、該基材１表面に接着剤層２を介して接着された透明性樹脂フィルム３と、該透明性樹脂フィルム３の表面に形成された無溶剤系放射線硬化型透明性樹脂塗料の塗膜層４とからなり、上記透明性樹脂フィルム３は、その裏面側に着色化粧層５が設けられているとともにその表面側にエンボス凹凸模様６が刻設されてなり、上記塗膜層４は、上記透明性樹脂フィルム３よりも低い屈折率を有する無溶剤系放射線硬化型透明性樹脂塗料よりなり、かつ上記エンボス凹凸模様６を埋設する平滑表面になるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】高い接着力と高いハンダ耐熱性を有する新規な多層ポリイミドフィルム、及びこれを用いた金属層付き積層フィルムを提供する。
【解決手段】耐熱性芳香族ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミド層を積層した多層ポリイミドフィルムであって、熱可塑性ポリイミド層が少なくとも酸二無水物成分とジアミン成分を有し、酸二無水物成分が一般式（１）で示されるテトラカルボン酸成分を６０モル％以上含み、ジアミン成分が特定のシロキサン系ジアミンと、特定の芳香族ジアミンを有し、全ジアミン成分中に当該シロキサン系ジアミンを２〜１５モル％含むことを特徴とする多層ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】紫外線の照射なしでも超親水性を長期間に渡って保持し得且つ紫外線によって容易に超親水性を回復し得る特性を有する薄膜及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】遷移金属酸化物及び希土類元素酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒径が１〜１００μｍの粒子をプラズマ溶射することにより基体上に０.０５〜１ｍｍの厚さの超親水性薄膜を形成するか、又は粒径が１〜１００μｍで酸化処理により遷移金属酸化物及び希土類元素酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸化物となる粒子をプラズマ溶射することにより基体上に０.０５〜１ｍｍの厚さの薄膜を形成し、その薄膜をガスバーナーの炎で酸化処理して超親水性薄膜を形成する。並びに、その形成方法で得られる超親水性薄膜。 （もっと読む）

【課題】熱水収縮率をコントロールしたプラスチック基材１を選択し、また蒸着膜２の密着を強化することで、レトルト処理の殺菌処理時によっても性能が劣化しないレトルト溶透明バリアフィルムを提供する。
【解決手段】高温高圧水（１２１℃，２．４５×１０⁵Ｐａ（ゲージ圧）に３０分間維持）での加熱処理（レトルト処理）時の収縮率が、プラスチック基材製膜時の製膜方向（ＭＤ）において２％未満であり、かつ製膜時の巾方向（ＴＤ）において１％未満であるプラスチック基材１上の、少なくとも一方の面に、厚さ５〜１００ｎｍの無機酸化物蒸着層２を設けることにより、レトルト処理によっても、ガスバリア性を損ねることの無いことを特徴とする。 （もっと読む）