【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。（Ａ）成分：特定の式で表されるビフェニル（メタ）アクリレート。（Ｂ）成分：下記式（２）で表されるフルオレン（メタ）アクリレート及び／又は特定の式で表されるビスフェノール（メタ）アクリレート。


（式中、Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、Ａ^１及びＡ^２は互いに独立して炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、ｍ及びｎは互いに独立して０乃至３の整数を表す。）（Ｃ）成分：光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。
【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材１の平滑な面２の指が接触する箇所に、該平滑な面２に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴３を有し、該穴３の正面視での投影面積の二乗根の寸法が１０〜３００μｍであり、該穴３の平均深さが０．２〜５０μｍであり、該穴３の分布頻度が面積比で１０〜８５％であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材１。 （もっと読む）

【課題】表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】前記微細パターンの反転パターンを表面に有するモールドと基板との間に、第１の紫外線の照射により半硬化してなる光重合性組成物の半硬化層を挟持する第１の工程と、前記モールドおよび前記基板により加圧した状態で、前記光重合性組成物の半硬化層に第２の紫外線の照射を行い、前記半硬化層を硬化層とする第２の工程と、前記光重合性組成物の硬化層から前記モールドを分離する第３の工程を有する、表面に微細パターンを有する成型体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】新規な被転写体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被転写体は、表面に、複数の異なる方向に凹凸パターンが形成された被転写体であり、前記複数の異なる方向の凹凸パターンの繰り返し単位の長さのうち、２つの最小繰り返し単位長さが0.01〜10 nmの範囲内にある。ここで、被転写体の材質は、ガラス、有機高分子化合物などの、ガラス転移点を有する物質であることが好ましい。
被転写体の製造方法は、被転写体用の部材の表面に、平坦表面体の表面を接し、加圧加熱する工程と、前記工程により得られた部材の表面に、鋳型の表面を接し、加圧加熱する工程を有する方法である。ここで、鋳型は、マイカまたはグラファイトであることが好ましい。また、平坦表面体の表面粗さは、0.01〜1.0 nmの範囲内にあることが好ましい。また、平坦表面体の材質は、サファイアまたはチタン酸ストロンチウムであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ｅビームリソグラフィの際に非伝導性基板を用いるテンプレートのに電子を消散することができるインプリントリソグラフィの方法および装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ方法は材料を伝導性基板のパターン化面上に生成するステップと、透明基板および伝導性基板を互いに押し付け、押し付けにより材料はパターン化面に整合するステップとを含む。エネルギは材料に与えられて、材料からパターン化された材料を形成する。透明基板および伝導性基板は分離され、パターン化された材料は透明基板に貼り付く。 （もっと読む）

【課題】成形型の型面に離型剤を塗布することなく、離型性を向上させ、また、感光性樹脂自体の樹脂組成を変えることなく、同じ照度・照射時間でありながら感光性樹脂の硬化性を向上させて結果として離型性を向上させ、欠陥のない光学部品を得ることができる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板２上に供給された感光性樹脂１Ａに成形型３を型押しした状態で、上記光透過性基板２を透して光照射し光学部品１を製造するに際し、上記成形型３として、型面３ａでの、波長３６５ｎｍの光の反射率が、４６％以上に設定されているものを用いる。 （もっと読む）

【課題】光硬化樹脂パターン領域外にはみ出した部分の硬化を阻害して、樹脂層の未硬化部分の除去を容易にする。
【解決手段】本発明に係るナノインプリントによるパターン形成方法は、基材上に光硬化樹脂により樹脂層を形成し、前記樹脂層に凹凸パターンを有するモールドを接触させ、前記光硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で前記樹脂層に光を照射して、少なくとも前記凹凸パターン下にある前記樹脂層を硬化させ、前記樹脂層から前記モールドを離型し、硬化させた前記樹脂層の周囲を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

パターン化された乾燥ポリマーをポリマー溶液またはポリマー分散物から作製する方法であって、ポリマー溶液／分散物の露光区域と、ポリマー溶液／分散物の非露光区域とができるように、ポリマー溶液／分散物の上方にマスクを置く工程と、マスクをかぶったポリマー溶液／分散物に赤外線を照射する工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】低粘度かつ低揮発性のインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子量３１０以上、２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下で、炭素原子、酸素原子および水素原子のみから構成される（メタ）アクリレート化合物を全重合性単量体中３０重量％以上の割合で含むことを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れ、成形不良を改善できる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】サブマスター２０のガラス基板３の一方の面に対向する対向面の外形面積が、ガラス基板３の一方の面の外形面積よりも小さい。ガラス基板３とサブマスター２０との間に光硬化性樹脂５Ａを滴下又は吐出し、その後、樹脂５Ａをサブマスター２０又はガラス基板３に対して押圧する。その後、樹脂５Ａに光を照射させて樹脂５Ａを硬化させ、硬化により形成された凸レンズ部５をサブマスター２０から離型する。硬化工程では、サブマスター２０の周囲の樹脂５Ａを硬化させないように照射光を遮蔽しつつ、ガラス基板３とサブマスター２０の間の樹脂５Ａに光照射させた後、未硬化の樹脂５Ａを除去し、離型工程ではガラス基板３とサブマスター２０との外形面積の差により生ずる隙間部Ｓを介してガラス基板３を保持した状態でサブマスター２０を、硬化した樹脂５Ａから離型する。 （もっと読む）

【課題】光を散乱する粗い凹凸構造と、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造とからなるマルチ凹凸構造を陽極酸化によって表面に形成できるスタンパの製造方法及び該スタンパを用いた成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均結晶粒径が１００μｍ以下のアルミニウム基材１０を陽極酸化して、細孔１１を有し、厚さが３０μｍ以上の第１の酸化皮膜１２を形成する第１の酸化皮膜形成工程と、第１の酸化皮膜の全部を除去し、陽極酸化の細孔発生点１３を形成する酸化皮膜除去工程と、アルミニウム基材を陽極酸化して、細孔発生点に対応した細孔１４を有する第２の酸化皮膜１５を形成する第２の酸化皮膜形成工程と、第２の酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大させる孔径拡大処理工程とを有し、粗い凹凸構造Ｓ１に、周期が可視光の波長以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造Ｓ２を重ね合わせた構造を表面に形成するスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。
【解決手段】シート状のモールドＭに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写するための転写装置１において、転写をするときに、被成型品Ｗと、被成型品Ｗと協働してシート状のモールドＭを挟み込んで押圧する押圧体５とが内部に位置する真空成型室１７であって、被成型品が設置される真空成型室１７と、押圧体５が位置する真空成型室とに、シート状のモールドＭによって仕切られる真空成型室１７を形成する真空成型室形成手段と、前記真空成型室を仕切るシート状のモールドに貫通孔を形成する貫通孔形成手段９と、前記真空成型室を減圧する減圧手段１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】スタンパの生産性に優れ、光硬化性樹脂層に対する離型性が良好であり、離型時の強度に優れ、紫外光（ＵＶ光）の透過性に優れ、かつ使用後のリサイクル性にも優れた、ＵＶナノインプリント技術に好適な、硬化樹脂組成物用樹脂スタンパ、中でも光多層記録媒体用の樹脂スタンパを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部及び屈折率（ｎＤ）が１．４２〜１．６０であるシリコーン化合物（Ｂ成分）０．１〜１０重量部よりなるポリカーボネート樹脂組成物（Ｃ成分）から形成されてなる、硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパ、並びにかかる硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパを形成するためのポリカーボネート樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より簡便にモールドと転写樹脂層を離型できるナノインプリント方法およびナノインプリント装置を提供することを目的とする。また、上記のナノインプリント方法を用いることにより、パターン精度の良好なパターン形成体を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明に係るナノインプリント方法は、基材上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層に接触するように押し当て、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で、前記樹脂層に紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光ナノインプリントによって形成した微細構造加工体の表面の残留層を溶媒によって除去する簡便な微細構造加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に光重合性前駆体を塗布する工程と、表面に微細な凹凸パターンを有するモールドを前記光重合性前駆体に押し当てる工程と、前記光重合性前駆体に光を照射する工程と、前記モールドを取り除く工程と、を含む光ナノインプリントによって形成された微細構造加工体の製造方法であって、この微細構造加工体の残留層を加水分解によって除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】分離層を設けることなく、より精度良く所定パターンを転写する微細構造の製造方法を提供する。
【解決手段】微細構造の製造方法に、所定のパターンを有する面上に膜が形成された基体を、前記基体が第１温度になるように熱処理する第１工程と、前記第１工程後に、前記基体が前記第１温度と異なる第２温度となるように、前記基体を熱処理する第２工程と、前記第１工程と前記第２工程とを含む熱処理サイクルを複数回繰り返した後に、前記基体から前記膜を分離する第３工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜にスタンパを押し当てて凹凸パターンを形成した場合に、基板表面の隣接する凸部間に実質的に残膜が存在しない凹凸パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。
・式（１） Ｈ（薄膜）＜Ｈ（凹凸型）＜Ｈ（凸部）
〔式（１）中、Ｈ（薄膜）は、上記凹凸パターン形成工程実施前の上記薄膜の硬度、Ｈ（凹凸型）は上記凹凸型の硬度、Ｈ（凸部）は、上記凹凸パターン形成工程実施後の上記凹凸パターンを構成する凸部の硬度を表す。〕 （もっと読む）

【課題】スタンパや被転写体を破損することなく、同一のスタンパで繰り返し転写を可能とする微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】微細な凹凸パターン６が形成されたスタンパ２を被転写体１に接触させ、前記被転写体１の表面に前記スタンパ２の微細な凹凸パターンＰを転写する微細構造転写装置Ａ１において、前記被転写体１の外周部の全周を保持する保持機構３を備え、前記被転写体１と前記スタンパ２との距離に対して、前記保持機構３と前記スタンパ２との距離が略等しくなるか、又は前記保持機構３よりも前記被転写体１の方が前記スタンパ２寄りに位置するように、前記保持機構３が前記被転写体１を保持している。 （もっと読む）

【課題】インプリント用金型について、微細パターンが複数の段部をから構成されるような場合や微細パターンが曲面や曲線で構成されるような３次元構造パターンであった場合にインプリント用金型を安価で大量に提供できる方法を提供する。
【解決手段】基板１上に塗布した感光性樹脂へのパターン露光、及び現像処理によりパターン形成し、パターン形成後の加熱によってパターン層６形成する。その後、フォトマスクを用いてＵＶ光照射による露光をおこなう。前記の形成方法にて繰り返し、一層目６ａ、二層目６ｂ、三層目６ｃとパターン層６の形成を行い、微細パターンを形成した金型原版７を作製した。その後、微細電鋳法を用いて、前記金型原版７からパターン形状の金型８を製造する。 （もっと読む）