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Fターム[4F209AE03]の内容

曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形 (35,147) | 機能物品 (51) | 導電性、電磁遮蔽、電波吸収 (15)

Fターム[4F209AE03]に分類される特許

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【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】導電材料層を含む基材に折れ曲がり部が設けられている成形品を安価に製造し得る成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】成形品の製造方法は、(a)透明なプラスチック材料から成る基材11の表面に、針状の導電材料が分散した溶液を用いた成膜法に基づき、針状の導電材料が無秩序に堆積して成る導電材料層(一次元導電材料のネットワークから成る導電材料層)12を形成した後、(b)導電材料層12を含む基材の部分に折れ曲がり部13を設ける工程から成る。 (もっと読む)


【課題】高温の曲げ加工条件においても、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形及び反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体の提供。
【解決手段】
電磁波シールド層の片側又は両側にポリカーボネート基材を積層してなる厚さ0.1mm〜30mmの積層体を遠赤外線ヒーター加熱装置により上下両側から放射加熱して曲げ加工する方法において、上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは曲げ加工部の加熱幅を(1)式に示す範囲で選択加熱し、表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することにより、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形及び反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を得ることが出来る。
加熱幅=2πR×(180°−X°)/360°×Y (1)
ここで、πは円周率、Rは曲率半径、Xは曲げ加工角度(内角)、Yは係数(1.35≦Y≦4.15)を示す。 (もっと読む)


【課題】高温の曲げ加工条件においても、接着層の揺らぎを最小限に抑え、変形および反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を提供する。
【解決手段】
電磁波シールド層の片側または両側にポリカーボネート基材を積層してなる厚さ0.1mm〜30mmの積層体を遠赤外線ヒーター加熱装置により上下両側から放射加熱して曲げ加工する方法において、曲げ加工部の加熱幅を(1)式に示す範囲で選択加熱し、表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することにより、接着層の揺らぎを最小限に抑え、反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を得ることが出来る。
加熱幅=2πR×(180°−X°)/360°×Y (1)
ここで、πは円周率、Rは曲率半径、Xは曲げ加工角度(内角)、Yは係数(1.35≦Y≦4.15)を示す。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上できるパターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、被加工体20上に誘電体であるインプリント材21を未硬化状態で供給する工程と、テンプレート10における導電性のパターン部15を、未硬化状態のインプリント材21に接触させる工程と、インプリント材21を硬化させる前に、被加工体20とテンプレート10のパターン部15との間に電位差を生じさせ、インプリント材21に誘電分極を生じさせる工程と、パターン部15をインプリント材21に接触させた状態でインプリント材21を硬化させる工程と、インプリント材21の硬化後、インプリント材21からテンプレート10を剥離する工程と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】Si原盤の凹凸形状に成膜した複版を凸部に欠けが生じることなく剥離し得るモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンを有するモールド10の製造方法において、凹凸パターンを有するSi原盤26の表面に、イオン化傾向が水素よりも小さい金属、例えば、Pt、Os、Ir、Au、RuおよびPdから選ばれる少なくとも一種の金属を含む金属膜からなる剥離層16を形成する剥離層形成工程と、剥離層16の形成後にモールドを構成する金属基板12を電鋳形成する電鋳工程と、電鋳工程の後、剥離層16と金属基板12とを備える複版をSi原盤26から剥離する剥離工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】熱線遮断性が高く、電波及び可視光を透過することができる熱線反射膜、並びに熱線反射構造体及び熱線反射構造体の製造方法の提供。
【解決手段】一の表面に、該表面を基準として複数の凹部が配列されたことによって形成された凹凸部と、該凹凸部表面に導電層とを有する熱線反射膜であって、前記凹部の深さが1μm未満であり、前記導電層の厚みが1μm以下であり、前記凹凸部が傾斜側壁を有し、前記凹部の傾斜側壁を水平面に垂直投影した投影面積Aと、前記凹部全体を水平面に垂直投影した投影面積Bとが、次式、(A/B)×100≧20%を満たす熱線反射膜である。 (もっと読む)


【課題】高温の曲げ加工条件においても、剥離や反りを生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を提供する。
【解決手段】電磁波シールド層の片側または両側にポリカーボネート基材を積層して、厚さ0.1mm〜30mmの積層体を製造し、該積層体を130〜165℃、積層体の上下表面温度差20℃以内で加熱した後、曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することを特徴とする光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造工程を短縮化することができる電鋳品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マスター金型11の表面に、電気めっきを施してマスター金型11と逆パターン形状の電鋳層2を形成し、その電鋳層2をマスター金型11から離型して電鋳品を製造する製造方法において、マスター金型11に少なくとも導電性材料を有する補強枠3を接触させて、その状態でマスター金型11と補強枠3とに電気めっきを施して補強枠3と一体化された電鋳層2を形成し、一体化された電鋳層2と補強枠3とをマスター金型11から離型して電鋳品1を製造する。 (もっと読む)


【課題】一部分がその他の部分の材料とは異なる材料から形成された物品を、精度良くかつ効率的に製造し得る製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、第1性質を有する第1表面63および第2性質を有する第2表面67を含む型面50aの、第1表面および第2表面のうちのいずれか一方の表面上に被覆層44を形成する工程と、被覆層を覆うようにして、被覆層をなす材料とは異なり流動性を有した材料42を型面に供給する工程と、型面に供給された材料を型面上で硬化させる工程と、硬化された材料を離型する工程と、を備える。材料を硬化する際に、被覆層と材料とを接合する。被覆層を材料とともに離型する。 (もっと読む)


【課題】 マグネットシートの着磁面に視認性よく表示体を形成することができるとともに、マグネットシートが磁着状態で高温にさらされたり、長期間磁着状態が持続したりしても着磁面に形成した表示体が被着面に転写することのないマグネットシートへの表示体形成方法及びこの方法で表示体が形成されたマグネットシートを提供する。
【解決手段】 本発明は、回転ロール1の表面に文字、図形等の表示体の鏡像2をレーザー加工により微小な細孔を密集させることで加工形成し、マグネットシート4の着磁面4aに対し加熱してなる前記回転ロールを押圧することによりマグネットシートの着磁面に所望の文字、図形等の表示体5を転写する。 (もっと読む)


【課題】インプリント法を用いた印刷回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】(a)所望の配線パターンに対応するエンボスパターンが形成されたモールドを準備する工程と、(b)前記モールドのエンボスパターン形成面に重合用酸化剤を付着する工程と、(c)前記モールドを樹脂層に押圧する工程と、(d)前記樹脂層から前記モールドを分離して、前記樹脂層に前記重合用酸化剤が付着したパターンを形成する工程と、(e)前記樹脂層に形成されたパターンの内部に、選択的に導電性高分子のモノマーを充填して重合させることにより、導電性高分子の配線を形成する工程と、を含む印刷回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた生産性、低コスト性を有し、カブリが発生せず、高い電磁波シールド性を有する透光性電磁波シールド膜、これを用いた光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネルを提供すること。
【解決手段】支持体上に銀塩乳剤層を有する感光フィルムを露光して現像処理することにより金属銀部を形成する現像工程と、金属銀部の表面に還元剤を接触させる還元処理工程と、還元処理が施された感光フィルムを平滑化する平滑化処理工程と、を有することを特徴とする導電性膜の製造方法。その導電性膜を用いて製造された、透光性電磁波シールド膜、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル。 (もっと読む)


本発明は表面を構造化する方法、すなわち、剛性ガラス要素(1)及び該ガラス要素(1)に付着された少なくとも一つの層(1a)を含む製品の平表面上にサブミクロンスケールの横方向の特性寸法を有するパターン(feature)のアレイを少なくとも一つ形成する方法に関し、構造化は前記層(1a)上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスク(10)と呼ばれる構造化された要素との圧力下での接触によって行われ、構造化は製品の表面と平行な連続的な運動及び製品の表面の平面に平行な軸の周りのマスクの運動によって行われる。本発明はさらに、構造化された表面を持つガラス製品、及びその使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、分配の幾何学的配置と導電性テンプレートに向けられ、さらにインプリントリソグラフィプロセスの間における高速充填とスループットを実現する導電性テンプレートを形成する方法に向けられる。
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