【課題】マイクロニードルの微細突起部形状を正確に転写、成形し、離型する際、微細突起部の先端部が折損、欠損することなく、離型でき、均一かつ細く鋭く尖った微細突起部を有するマイクロニードルデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】成形材料として環状オレフィン系樹脂であるシクロオレフィンポリマーを用い、該環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度に加熱し、マイクロニードルデバイスの微細突起部形状の凹部を有する成形型部材をシクロオレフィンポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度に加熱しながら、シクロオレフィンポリマーをプレス成形し、マイクロニードルデバイスを製造する。 （もっと読む）

【課題】基板の上の樹脂に型を押し付ける際に型の一部に応力が集中することを抑制し、インプリント装置における重ね合わせ精度の改善に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材と型とを接触させた状態で当該インプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材から前記型を離型することで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型の前記基板に転写すべきパターンが形成されたパターン面とは反対側の裏面と接触する接触面を含み、前記接触面を介して前記型を保持するチャックと、前記型及び前記基板の少なくとも一方を駆動して前記インプリント材に前記型を押印する押印機構と、を有し、前記接触面は、前記型の裏面に対して前記パターン面とは反対側に湾曲した湾曲面を含むことを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、ある基準状態下で、モールドのパターン寸法と所望の割合だけ異なる寸法のレジストパターンを形成することを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント方法において、所定の基準圧力Ｐｓｔおよび所定の基準温度Ｔｓｔにおいて所定の基準寸法を有する微細な凹凸パターンが表面に形成されたモールド１、および被加工基板７であって、これらのヤング率および／または熱膨張率が互いに異なるものを用い、基準寸法に対するレジストパターンについての寸法差の割合ΔＤ_ａｌｌ、基準圧力Ｐ_ｓｔ、基準温度Ｔ_ｓｔ、モールドのヤング率Ｅ_ｍおよび熱膨張率α_ｍ、並びに、被加工基板のヤング率Ｅ_ｉおよび熱膨張率α_ｉを使用して、所定の関係式を充足するように圧力容器１１０内の圧力Ｐおよび／またはアセンブリ８の温度Ｔが制御された状態で、レジスト６を硬化せしめる。 （もっと読む）

【課題】パターン欠陥の発生を抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、基板１０上の未硬化樹脂１６を型６により成形して硬化させて、基板１０上に硬化した樹脂１６のパターンを形成する。ここで、インプリント装置１は、型６を引き付けて保持する保持機構１１を有する型保持部３と、基板１０を保持する基板保持部４と、保持機構１１に保持された状態の型６を、該型６に接する空間１３の圧力を調整することで基板１０に向かい凸形に変形させる圧力調整部１５と、凸形に変形した型６と、樹脂１６との引き離し動作中に、型６の姿勢を変化させることで型６と樹脂１６とが接触する接触領域２４の位置を移動可能とする駆動部１８と、接触領域２４の状態を示す画像情報を取得する測定部２３と、画像情報に基づいて駆動部１８の動作を制御する制御部５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、型６を引き付けて保持する保持機構１１を有する型保持部３と、基板１０を保持する基板保持部４と、保持機構１１に保持された状態の型６を、該型６に接する空間１３の圧力を調整することで基板１０に向かい凸形に変形させる圧力調整部１５と、凸形に変形した型６と、未硬化樹脂１６との押し付け動作中に、型６の姿勢を変化させることで型６と未硬化樹脂１６とが接触する接触領域２４の位置を移動可能とする駆動部１８と、接触領域２４の状態を示す画像情報を取得する測定部２３と、画像情報に基づいて接触領域２４の図心２５の平面座標を算出し、該図心２５の平面座標の位置が、画像情報に基づいて算出した、または予め取得した基板１０上のパターン形成領域の図心２６の平面座標の位置に向かうように駆動部１８の動作を制御する制御部５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】微小な高アスペクト比の凹凸部を有する成形品の成形方法であって、成形品を金型から変形なく簡単に安全に取り出すための成形方法を提供する。
【解決手段】アスペクト比が０．５以上２０．０以下、長さ（Ｌ）が５０μｍ以上１０００μｍ以下である微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、（ｉ）樹脂を２００℃以上３５０℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、（ｉｉ）溶融樹脂を、１００℃以上２５０℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、（ｉｉｉ）塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、０．１ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下で加圧し、５秒〜２００秒間保持して成形する工程、および（ｉｖ）４０℃以上２００℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程、を含み、上金型と下金型のどちらか一方に任意の形状を成形するための金型、もう一方に金型より取り出す時に成形品を保持する加工がされた金型を用いる。 （もっと読む）

【課題】基板上の樹脂に生成されるパターンの欠陥の発生を抑えるのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型７は、被処理体９に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部７ａを有する。型７は、被処理体９に向かう側とは反対の側に位置し、被処理体９に向かう面の中央部にて突出したパターン部７ａを有する第１平板２０と、被処理体９に向かう側に位置し、第１平板２０に形成されたパターン部７ａが被処理体９と対向するように貫通する開口部７ｃを有する第２平板２２とを含む。ここで、第１平板２０と第２平板２２とは、内部空間である第１空間２１を介して重なり合い、第１平板２０は、パターン部７ａを被処理体９に押し付ける方向に変形可能である。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの位置合わせ精度を向上させる。
【解決手段】インプリント方法は、被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記テンプレートに力を加える工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、を備える。前記テンプレートに加える力は、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した大きさである。 （もっと読む）

【課題】パーティクル等の異物の影響を低減したインプリント処理に有用な技術を提供する。
【解決手段】インプリント装置を含むインプリントシステムは、前記インプリント装置を格納する空間をインプリント処理がなされる第１空間と該第１空間を取り囲む第２空間とに分割する第１隔壁と、前記インプリント装置を格納する前記空間と当該空間を取り囲む第３空間とを仕切る第２隔壁と、前記第１空間及び前記第２空間に浄化された空気をそれぞれ供給する第１給気部及び第２給気部と、前記第１空間及び前記第２空間から空気をそれぞれ排出する第１排気部及び第２排気部と、前記第１空間内の異物の濃度を検出する検出器と、制御器とを備える。前記制御器は、前記検出器により検出された前記濃度が基準値を超える場合に前記第２空間を通過する空気の量に対する前記第１空間を通過する空気の量の比を増大させるように、前記第１給気部、前記第２給気部、前記第１排気部及び前記第２排気部を制御する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材上に構造を形成するための方法を提供すること。
【解決手段】前記方法は、（ａ）一定の表面パターンを有するモールドを、光分解性アモルファスポリマー基材上に支持された紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂基材に接触させるステップであって、前記一定の表面パターンが前記ＵＶ硬化性樹脂基材上に構造を形成するステップ；（ｂ）ＵＶ放射に前記ＵＶ硬化性樹脂を曝すことによって、前記アモルファスポリマー基材上に支持された前記ＵＶ硬化性樹脂を硬化させるステップ；及び（ｃ）前記硬化した樹脂を前記モールドから分離するステップを含む。本発明は、さらに、前記を行うための装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、反射防止階層構造を提供することにある。
【解決手段】生物模倣型反射防止階層構造、複合反射防止階層構造、および生物模倣型反射防止階層構造のパターンを含む反射防止面が提供される。反射防止階層構造は、一次構造の1つまたは複数のクラスタ、および各一次構造上に形成された複数の二次構造を含む。一次構造は、約2マイクロメートルの主寸法を有するマイクロメートル範囲の寸法を有する。各二次構造は、ピッチおよび高さが約300ナノメートルであるナノメートル範囲の寸法を有する。 （もっと読む）

【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成された所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するインプリント装置１において、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を調整する。具体的には、被成形物からモールド３０を引き離す離型時において、モールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を、モールド３０と被成形物との間の圧力に近付くよう減圧制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】厚さが薄い等、剛性が小さくシワの入りやすいフィルムに対しても、高品位かつ幅方向に均一に高精度なパターン形状を連続的に転写できる微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】表面に微細構造が形成されたエンドレスベルト状の金型３を、加熱ロール４に抱かせながら加熱する金型加熱工程と、成形用フィルム２ｂと金型とを密着させた状態で、加熱ロール４と、ニップロール６により加圧する加圧転写工程と、金型３と成形用フィルム２ｂを密着させたまま冷却ゾーンまで搬送する搬送工程と、金型とフィルムを密着させたまま金型側から冷却する金型冷却工程と、冷却後の成形用フィルム２ｂを剥離する剥離工程とを含む微細構造転写フィルムの製造方法であって、加圧転写工程、搬送工程、金型冷却工程、及び剥離工程において、前記成形用フィルムの前記転写側表面とは逆側の面に保護フィルムを積層させた状態にする。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法により、安価で優れた異方拡散性能を発現する異方性拡散フィルムを製造できる方法を提供する。
【解決手段】厚さが１０μｍ〜３００μｍである二軸延伸シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）フィルムを、加圧ロール１１と研磨ロール１２の間で挟持することにより、フィルムの表面に、表面粗さが０．２μｍ〜１μｍである凹凸を設ける。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置１００は、前記基板を保持する基板保持部４と、モールド保持面ＭＳで前記モールドを保持するモールド保持部３と、前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部４により前記基板の代わりにクリーニング部材１２が保持されて前記クリーニング部材１２と前記モールド保持面ＭＳとが接触した状態で前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面ＭＳをクリーニングする制御部２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて従来技術に比してパターン形成性をより向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターンを有する基板１２と、この凹凸パターンに沿ってこの凹凸パターンの表面に形成された離型層１４とを備えるモールドを用いて、基板２上に塗布されたレジスト３を押圧し、上記凹凸パターンが転写されたレジストパターンを形成するナノインプリント方法において、上記レジストパターンのラインの幅が所望の値となるように、上記離型層１４の厚さと、上記モールドを用いて上記レジスト３を押圧する際の押圧圧力の大きさとを調整する。これにより、レジストパターンのラインの幅を制御する。 （もっと読む）

【課題】両面にマイクロパターンを有する光学シートを低コストで製造する。
【解決手段】両面にマイクロパターンを有する光学シートは、第１の加圧ローラー４７８ａと第１のパターン形成ローラー４８０ａとの間のニップに第１の樹脂４５０ａを押出して、前記第１の層はパターン形成されていない面とパターン形成された面とを有し、前記パターン形成された面は第１のパターン形成ローラーから転写されたマイクロパターンを有し；第２の加圧ローラー４７８ｂと第２のパターン形成ローラー４８０ｂとの間のニップに第２の樹脂４５０ｂを押出して、前記第２の層はパターン形成されていない面とパターン形成された面とを有し、前記パターン形成された面は第２のパターン形成ローラーから転写されたマイクロパターンを有し；並びに前記第１の層と前記第２の層とをそれらのパターン形成されていない面で積層して形成する。 （もっと読む）

【課題】最適な光利用効率、低い製造コスト、薄さおよび明るさを達成しながら、薄い導光板を実現する。
【解決手段】光を放射するためのマイクロパターン形成された出射面、および前記出射面の反対側のマイクロパターン形成された底面を有する光学シート３００ｄであって、パターン形成ローラー４８０ａとパターン形成されたキャリア膜４７４ａとの間のニップに樹脂を押出して、パターン形成ローラー温度Ｔ１およびニップ圧力Ｐ１で光学シートを形成し、前記光学シートは第１のパターン２５２形成された面と第２のパターン２５４形成された面とを有し、前記第１のパターン形成された面はパターン形成ローラーから転写されたマイクロパターンを有し、かつ前記第２のパターン形成された面はパターン形成されたキャリア膜から転写されたマイクロパターンを有し；並びに前記光学シートから前記パターン形成されたキャリア膜を剥ぎ取る；ことを含む工程で製造される。 （もっと読む）