【課題】突入流量の上限値を規定し、バーナ内の水素ガス濃度を抑えることで、水素への切り替え時の小爆発を防止することができる光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】水素用ＭＦＣ１５は、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に、逆流防止機能を有する逆止弁４０によって設定流量よりも大きな流量の水素ガスが瞬間的に流れる突入流量の最大値を４０ＳＬＭ以下（例えば、３０ＳＬＭ）に設定して、バーナ１６内の水素ガス濃度が４％以下になるように水素ガスの流量制御を行っている。これにより、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に突入流が発生してもオーバーシュート最大流量を４０ＳＬＭ以下に抑えるので、バーナ１６の出口付近での小爆発を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】従来の貼り合せ工程で必要とされている面精度の向上を不要としかつ貼り合わせ用の設備を省略でき、コストも削減も実現することができる微細中空流路を有する石英ガラス物品の製造方法の提供。
【解決手段】平坦なシリカ基板１０の上面に燃焼除去可能な物質からなる凸状微小流路パターン部１２を形成する工程と、該微小流路パターン部を被覆するようにシリカ粉含有グリーン層１４を設けシリカ基板及びシリカ粉含有グリーン層からなるシリカ複合体１６を形成する工程と、該シリカ複合体を酸化性雰囲気で加熱保持して該微小流路パターン部を燃焼除去することにより微小中空流路１２Ａを形成し微小中空流路を有するシリカ複合体１６Ａを形成する工程と、該微小中空流路を有するシリカ複合体を高温に加熱して焼結透明化しかつ溶融一体化することにより微小中空流路を有する石英ガラス物品２０を形成する工程と、を含むようにした製造方法。 （もっと読む）

【課題】表層からのガラス微粒子粉や堆積層の脱落を抑制できる多孔質ガラス管の製造方法を提供する。
【解決手段】ロッド２０の周囲にＣＶＤ法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体１３を作製し、ガラス微粒子堆積体１３からロッド２０を引き抜いて筒状の多孔質ガラス管１１を製造する多孔質ガラス管の製造方法であって、ガラス微粒子堆積体１３の作製後に、ガラス微粒子堆積体１３の表面をガラス微粒子の原料を含まない火炎により加熱する加熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】非稼動時に外部からの不純物等の侵入を防いで炉心管内部が汚染されるのを確実に防ぐことができるガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス微粒子を堆積させたガラス微粒子堆積体１３を炉心管１１内に吊り下げ、該炉心管１１外部からガラス微粒子堆積体１３を加熱して脱水焼結するガラス母材の製造方法であって、脱水焼結時以外の非稼動時に、不純物の侵入を防ぐために炉心管１１内部の待機温度を７００℃以上に保持する。 （もっと読む）

【課題】焼結時に未焼結部をできるだけ小さくすることにより、多孔質ガラス母材の割れや落下を防ぎ、また、線引き時の変形や偏心などの不具合を最小限に抑えることができるガラス微粒子堆積体の焼結方法を提供する。
【解決手段】ガラス微粒子堆積体の焼結方法は、出発種棒３にガラス微粒子を堆積させたガラス微粒子堆積体１をヒータ１２の熱により加熱焼結させるガラス微粒子堆積体の焼結方法であって、焼結後のガラス微粒子堆積体１上部のテーパ状ガラス微粒子堆積部２における上部透明化率を、０．４以上にする。なお、上部透明化率は、上部透明長さをＬ１、線引き変形長さをＬ２とすると、Ｌ１／Ｌ２で表わされる。 （もっと読む）

【課題】水素等の流体分離特性に優れつつ、シールするための強度を備えた流体分離材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ロッド３０の周囲にＣＶＤ法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体２５を作製し、ガラス微粒子堆積体２５からロッド３０を引き抜いて筒状の多孔質ガラス支持体２１を作製し、多孔質ガラス支持体２１の表面にシリカガラス分離膜層２２を形成して水素分離材料２０を製造する方法であって、多孔質ガラス支持体２１の軸方向両端部を緻密化する緻密化工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス母材への不純物の付着をしにくくすることで光ファイバの伝送損失を抑制することができるガラス母材の焼結装置および焼結方法を提供する。
【解決手段】焼結装置１０は、ガラス微粒子堆積体１４の上部に、内径Ｄ０の炉心管１１の仮想断面積Ｓ０の５０％以上９０％以下の大きさの整流板２０を配置している。また、整流板２０の外周縁２７と炉心管１１の内壁２８との間の隙間を下方から上方へ流れる不活性ガスＧの平均流速Ｖを５５ｍｍ／秒以上になるように、炉心管１１下部のガス供給部１７から所定量の不活性ガスＧを導入して、炉心管１１上部のガス排出部１８から不要なガスを排出している。また、整流板２０下面とガラス微粒子堆積体１４の上端部との距離Ｈを４００ｍｍ以下にしている。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラス中に残留する屈折率分布を考慮した合成石英ガラスの製造方法、当該製造方法に用いられる合成石英ガラス製造用治具、及び当該製造方法により製造された光学部材用合成石英ガラスを提供する。
【解決手段】合成石英ガラスの製造において多孔質石英ガラス母材に鉛直に荷重を負荷するために用いられる合成石英ガラス製造用冶具は、多孔質石英ガラス母材の軸を鉛直とした上で多孔質石英ガラス母材を載置される基台と、基台に立設されたガイド部材により鉛直方向に移動自在に支持されて当該基台との間で多孔質石英ガラス母材を狭持する押圧部材と、を備える。押圧部材が、多孔質石英ガラス母材に当接し且つガラス化温度以上に加熱された多孔質石英ガラス母材の収縮に伴って鉛直に降下して、その自重により多孔質石英ガラス母材に鉛直に荷重を負荷する。 （もっと読む）

【課題】脈理がなく、内部に欠陥がない合成シリカガラスを製造することができる合成シリカガラス製造装置を提供する。
【解決手段】炉体２と、前記炉体２に設けたられた排気口５ａと、前記排気口に接続された排気手段９と、前記炉体内部に回転可能に設置されたインゴット形成用のターゲット６と、前記ターゲット６に先端が対向して設けられたシリカガラス合成用のバーナー７とを備えた合成シリカガラス製造装置１であって、前記炉体２は、前記シリカガラス合成用のバーナー７が頂部に設置された耐火物製のマッフル３と、前記マッフル３の下方に設けられた、前記マッフル３の内径よりも大径の第１の炉部４と、前記第１の炉部４の下方に設けられた、前記第１の炉部４の内径よりも大径の第２の炉部５とを備え、更に前記第２の炉部５側壁に前記排気口５ａを備える。 （もっと読む）

【課題】加熱炉内の山型の温度分布を長手方向で調整して、ガラス微粒子堆積体の熱履歴を均一にすることで、ガラス母材の特性を安定化させる。
【解決手段】ガラス微粒子堆積体２７を容器１９に挿入し、容器１９の外周に設置したヒーター３７で容器内を加熱し、透明ガラス体を得るガラス母材の製造方法であって、容器内をハロゲン系ガスと不活性ガスの混合雰囲気で加熱する第１加熱工程と、ヘリウムガス雰囲気で加熱する第２加熱工程と、によりガラス微粒子堆積体２７を加熱する。第１加熱工程では加熱炉１３内の温度分布をガラス微粒子堆積体２７の長手方向に渡って均一とする。第２加熱工程では加熱炉１３内の一部を山型の温度分布として、山型の温度分布を透明ガラス化中に長手方向で調整しつつ、ガラス微粒子堆積体２７とヒーターの位置関係を長手方向で相対的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】光学クラッド部に含まれる塩素濃度を多くして光ファイバの伝送損失を低く抑えることができる光ファイバ及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ１はコア２とクラッド５を含み、コア２はゲルマニウムを含まない石英ガラスからなり、クラッド５は、コア２の外周に位置する光学クラッド部３と、光学クラッド部３の外周に位置するジャケット部４を有し、光学クラッド部３は、フッ素を０．４５質量％以上１．５０質量％以下含有するとともに、塩素を平均濃度２７０ｐｐｍ以上２０００ｐｐｍ以下含有する。 （もっと読む）

【課題】未焼結部を無くすとともに、種棒の過度の加熱を防止して引き伸びを無くすことができるガラス母材の製造方法およびガラス母材を製造する焼結炉を提供する。
【解決手段】ガラス母材を製造する焼結炉１０によれば、位置調整可能な下部治具２２を有する遮熱治具２０を直接出発種棒３に固定して、下部治具２２をガラス微粒子堆積体１上部のテーパ部２近傍に配置した。これにより、ヒータ１２からの熱が出発種棒３へ伝わらないように遮熱できるので、出発種棒３の引き伸びを確実に防止することができる。また、ガラス微粒子堆積体１の上部をヒータ１２に近づけることができるので、ガラス微粒子堆積体１の上端部の未焼結部の領域を小さくすることができる。また、下部治具２２は、ガラス微粒子堆積体１の長手方向に位置調整できるので、ガラス微粒子堆積体１に接触することなく、ガラス微粒子堆積体１毎に遮熱板の位置調整を行うことができる。 （もっと読む）

【解決手段】合成石英ガラスブロックを複数個並べて雰囲気炉内で熱処理する合成石英ガラスの熱処理方法であって、上記合成石英ガラスブロックが多角板状又は円板状であって、これらブロックの厚さ面を炉底側にし、主面を炉内ヒーター側に向けて炉内ヒーターに対し３０〜６０度の角度でかつブロック間に空隙を設けて並列に及び／又は積み重ねて立設配置して、上記ブロックを熱処理することを特徴とする合成石英ガラスブロックの熱処理方法。
【効果】本発明によれば、例えば、エキシマレーザ、特にはＡｒＦエキシマレーザ用、更にはＡｒＦ液浸技術等に使用されるフォトマスク用合成石英マスク基板材用途、所謂レチクル材用に使用され、良好な透過率及び均一な透過率分布を有し、しかも劣化の少ない上、更には複屈折の低いエキシマレーザ用合成石英ガラス基板、また高精細ディスプレイ用の光部品用基板等の素材となる合成石英ガラスを提供できる。 （もっと読む）

【課題】 シリコン融液及び多結晶シリコンインゴットへの不純物汚染を十分に防止することができる能力を有し、かつ、離型性に優れるとともに、結晶粒の大きさ及び結晶軸方位が揃った多結晶シリコンインゴットを製造することができる、低コストの多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器を提供する。
【解決手段】 少なくとも多孔質シリカ基体からなる角形シリカ容器であり、多孔質シリカ基体は、かさ密度１．８０〜２．１０ｇ／ｃｍ^３、Ａｌ濃度５〜５００ｗｔ．ｐｐｍ、ＯＨ基濃度５〜５００ｗｔ．ｐｐｍであり、内表面部分の少なくとも一部に離型促進剤が含有されているものであり、角形シリカ容器の底部の内表面部分には、側面の一部が鉛直方向に対して１５〜６０°の角度をなす斜面で形成されている溝又は穴を複数有している多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器。 （もっと読む）

【課題】コストの低い合成石英ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ＶＡＤ法を用いて形成されたガラス微粒子堆積体１を反応容器Ａ１内で焼結して透明ガラス化する合成石英ガラス母材２の製造方法において、反応容器Ａ１内の酸素濃度を１００ppm〜５，０００ppmとし、且つ、焼結工程中または焼結工程前のいずれかにおいて、ガラス微粒子堆積体１にフッ素を添加する。 （もっと読む）

【課題】大型の石英炉を使用することなく透過率及び透過率維持率に優れた大口径の石英ガラスを低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】直径３００mm以上の外径のガラス微粒子堆積体１を焼結して透明ガラス化する石英ガラス４の製造方法において、シリカ微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体１を生成するスス付け工程ａと、スス付け工程で得られたガラス微粒子堆積体１を、石英炉Ｃを除く加熱炉Ｂで焼結して仮焼結体２を得る第１焼結工程ｂと、第１焼結工程ｂで得られた仮焼結体２を石英炉Ｃで更に焼結して焼結体（石英ガラス母材）３を得る第２焼結工程ｃと、スス付け工程ａ、第１焼結工程ｂ、第２焼結工程ｃのいずれか一つ又は二つの工程、或いは全ての工程において、フッ素を添加するフッ素添加工程を備える。 （もっと読む）

【課題】波長１.３８μｍ帯の伝送損失が低減された光ファイバを製造するのに好適なガラス母材を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るガラス母材製造方法は、固定工程，堆積工程，引抜工程，透明化工程および中実化工程を順に経て、ガラス母材を製造する。透明化工程では、ガラス微粒子堆積体１３は、一体となっている種棒パイプ１２とともに、ＨｅガスやＣｌ_２ガスが導入された加熱炉２２の内部に入れられ、ヒータ２３により加熱される。これにより、透明ガラス管材１４が作製される。透明ガラス管材１４が作製された直後に加熱炉２２内に乾燥ガスが導入されて、透明ガラス管材１４の外周雰囲気の湿度が０.１％以下に管理された状態で透明ガラス管材１４が冷却される。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線レーザと共に使用される光学部材等の材料として有用な合成石英ガラスの製造方法、並びにそれに用いる熱処理装置の提供。
【解決手段】ケイ素化合物と、酸素及び水素を含有する燃焼ガスと、をバーナから噴出させてケイ素化合物を酸水素火炎中で加水分解させることにより石英ガラス微粒子を生成させ、ターゲット上に堆積させるとともに透明化して合成石英ガラスインゴットを得る第一のステップと、第一のステップで得られた合成石英ガラスインゴット等を９００℃以上の第一の保持温度まで加熱し、保持した後、５００℃以下の温度まで１０℃／ｈ以下の降温速度で冷却する第二のステップと、第二のステップで得られた合成石英ガラスインゴット等を５００℃以上１１００℃以下の第二の保持温度まで加熱し、保持した後、第二の保持温度より１００℃低い温度まで５０℃／ｈ以上の降温速度で冷却する第三のステップと、を含むものである。 （もっと読む）