【課題】成形性に優れ、得られたハニカム構造体の熱膨張率が低いハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】コージェライト化原料を含有し、更に、ナトリウム、カルシウム及びカリウムの含有率の合計（アルカリ金属・アルカリ土類金属含有率）が０．０５質量％以下、平均粒子径１．０μｍ以下のアルミナ粒子と、ナトリウム、カルシウム及びカリウムの含有率の合計が０．０５質量％以下、平均粒子径１．０μｍ以下のシリカ粒子とを成形助剤として含有する坏土を、ハニカム形状に成形してハニカム成形体を作製し、ハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得るハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

繊維状セラミック材料は、R_xMg₂Al_4+xSi_5-xO₁₈またはR_xMg_2-xAl₄Si₅O₁₈組成構造を持つ複数の繊維から成る。本繊維状セラミック材料は、2つ以上のR_xMg₂Al_4+xSi_5-xO₁₈またはR_xMg_2-xAl₄Si₅O₁₈前駆体の少なくとも1つが繊維形状である、2つ以上のR_xMg₂Al_4+xSi_5-xO₁₈またはR_xMg_2-xAl₄Si₅O₁₈前駆体を組み合わせることにより形成される。
繊維状セラミック材料は成形されて、そのすべての繊維の少なくとも約20%が実質的に共通の方向に整列している繊維体を形成する。 （もっと読む）

【課題】肉厚が均一であるとともに反りや歪みが極めて小さい、高密度の無機物質粉末成形体を提供する。
【解決手段】無機物質粉末、表面改質剤、成形助剤、及び溶媒を含有するとともに、無機物質粉末の表面の一部が表面改質剤で被覆されているスラリーから、液体成分の少なくとも一部を除去して得られる練土を成形してなる無機物質粉末成形体である。 （もっと読む）

【課題】大きい基材強度を有する高強度ハニカム構造体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】コージェライトよりなると共にハニカム状に配設されたセル壁１１と、セル壁１１内に区画された多数のセル１２とを有し、セル壁１１が有する細孔の単位重量当たりの合計容積である全細孔容積が、０．２（ｃｃ／ｇ）以下である高強度ハニカム構造体１を製造する方法である。タルクを含むコージェライト化原料を準備する原料準備工程と、コージェライト化原料を押出成形してハニカム成形体を得る押出成形工程と、ハニカム成形体を乾燥する乾燥工程と、ハニカム成形体を焼成する焼成工程とを有する。コージェライト化原料のタルクとしては、Ｘ線回折による回折ピークのうち、（１１１）方位の強度と（００６）方位の強度との比（１１１）／（００６）が０．１以上であるミクロ結晶タルクを用いる。タルクの平均粒径は、２０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

少なくとも一種類のセラミック先駆体無機成分と少なくとも一種類のバインダとを混合して、可塑化された混合物を形成することを含む、セラミック物品の製造方法が開示されており、上記バインダは少なくとも一種類の蛋白質材料を含んでいる。上記混合物は押出し成形されて未焼成体を形成する。この未焼成体は加熱されて、セラミック物品を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】コーディエライト化原料の一材料として用いるアルミナの結晶構造を検討し、特定形状のα−アルミナ結晶を用いることで耐熱性および耐熱衝撃性を向上したコーディエライトセラミックスを製造する方法を提供する。
【解決手段】α−アルミナを含むコーディエライト化原料を成形して加熱するコーディエライトセラミックスの製造方法において、コーディエライト化原料からなる成形体におけるα−アルミナ結晶のＸ線回折測定による配向度〔（Ｉ_００６／（Ｉ_３００＋Ｉ_００６）で示される。但し、Ｉ_ｈｋｌ：α−アルミナ結晶ｈｋｌ面のＸ線回折強度高さ。）が０．１０以上である、コーディエライトセラミックスの製造方法である。 （もっと読む）

多孔質セラミック基質は、第１の相のマイクロクラックのあるコーディエライトセラミック材料と、コーディエライトセラミックに分散した第２の相の非コーディエライト金属酸化物粒子とを含み、第１と第２の相の間の界面の少なくとも一部がガラスにより濡れており、第２の相の粒子が、約０．０１〜約１０μｍの範囲のサイズを有する。多孔質マイクロクラックのあるコーディエライトセラミックを強化する方法は、コーディエライトバッチ組成物を提供する工程と、コーディエライトバッチ組成物を、少なくとも１つの非コーディエライト形成金属酸化物または金属酸化物前駆体に添加する工程と、バッチ組成物を、ポア形成剤、バインダーおよび水と混合してペーストにする工程と、ペーストをグリーン体へと成形する工程と、グリーン体を焼成する工程と、焼成したグリーン体を焼成温度より低い温度でアニールして、コーディエライトセラミック内に分散された第２の相の結晶化非コーディエライト粒子を有し、第１と第２の相の間の界面の少なくとも一部がガラスにより濡れている、強化コーディエライトセラミックハニカムを形成する工程とを含む。
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本発明は、ムライト相及びチアライト相を有するセラミックハニカム構造、及びこれらのハニカム構造を製造する方法に関する。
本発明はまた、セラミックハニカム構造を製造するためのアンダルサイトの使用、アンダルサイトを含有する前記セラミックハニカム構造、及びこれらのセラミックハニカム構造の製造方法にも関する。 （もっと読む）

セラミックハニカム体のためのセメントを開示する。これらのセメントを焼成されたセラミックハニカム体に施用し、次いで焼成して差し支えなく、あるいは、焼成されていない（未焼成の）ハニカム体に施用した後に未焼成のハニカム体と共に焼成することもできる。セメントは、ハニカム体における１つ以上のセルを塞栓するのに使用することができ、ここでセメントは未焼成または焼成されたセラミックハニカム体に挿入した後に、焼成することができる。セメントを用いたセラミックハニカム物品の製造方法についても開示する。 （もっと読む）

塞栓するセメント組成物、セグメントセメントとして、または後で施用する人工表皮またはコーティングとしてハニカム体に施用するためのセメント組成物が開示される。セメント組成物は、一般に、無機粉末バッチ混合物、有機結合剤、液体溶媒、およびゲル化無機結合剤を含む。開示するセメント組成物が施用されたハニカム体、およびその製造方法についても開示する。
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微細孔隙径、狭い孔隙径分布、殆どまたは全く存在しない微小亀裂、および高耐熱衝撃性を有する、高孔隙率のコージエライト・ハニカム基材について開示する。多孔質のセラミックハニカム基材は、一般に、本明細書に定義される主要コージエライトセラミック相を含む。コージエライト基材の製造および使用方法についても開示する。
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ハニカム素地に適用するためのセメント組成物が開示される。セメント組成物は、無機粉末バッチ組成物；バインダー；液状媒体；および弾性率減少添加剤を含有する。弾性率減少添加剤は、セラミック繊維または一水化アルミナを含有してもよい。セメント組成物は、セラミックディーゼル粒子ウォールフローフィルタの形成に適切である。開示されるセメント組成物を含む末端がプラグされたウォールフローフィルタおよびその製造方法もまた開示される。
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セラミック・ハニカム本体の外周面上に外部層を形成するため、または上記ハニカム本体内に栓を施すため等の、上記ハニカム本体とともに用いるのに適したセメント混合物である。このセメント混合物は、焼成された場合に、低い熱膨張係数および高い強度を示すことが好ましい。このセメント混合物は、未焼成ハニカム本体に施され、この未焼成ハニカム本体と同時に焼成されることができ、または、既に焼成されているハニカム本体に施され、次いで焼成されることができる。上記セメント混合物は、タルク、カオリン、アルミナ、シリカ、および水酸化アルミニウムを含む無機成分のうちの複数を含み、このセメント混合物は、無機成分の重量％で、１８．０％以下のシリカおよび１７．０％以上の水酸化アルミニウムを含む。
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【課題】耐熱衝撃性に優れたハニカム構造体を提供する。
【解決手段】コージェライトを主成分とし、平均細孔径が４μｍ以上１０μｍ以下、全細孔容積が０．１８ｃｍ^３／ｇ以上０．２２ｃｍ^３／ｇ以下、ヤング率が４ＧＰａ以上６ＧＰａ以下であるハニカム構造体の提供による。 （もっと読む）

結晶相コージェライト組成を主成分とするセラミック・ハニカム物品が開示されている。この多孔質コージェライト・セラミック物品は、多数のセルチャンネルおよび交差する多孔質の壁を有し、かつ気孔サイズ分布によって特徴付けられた微細構造を有し、その場合、多孔質の壁の気孔の気孔サイズ分布の７５容積％以上は、ｄ_ｖ＜１０．０μｍである気孔径（ｄ_ｖ）を有し、かつ気孔サイズ分布の３５％以下はｄ_ｖ＜４．０μｍである気孔径（ｄ_ｖ）を有する。さらに、気孔径ｄ_ｖ９０＜１４．０、２５℃と８００℃との間のＣＴＥ＝１２．０×１０^−７／℃である。この物品は、フィルタに沿った低い圧力低下と相俟った高い濾過効率を示す。さらに、４０％以上の気孔率とＲａ＜４．０μｍの表面粗さが望ましい。さらに、セラミック・ハニカム物品の製造方法は、微細なタルク、微細なシリカ形成原料および微細な発泡剤を開示している。
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【課題】特に排ガス中のＨＣを効率よく浄化することができる六角セルハニカム触媒体及びそれを用いた排ガス浄化装置を提供すること。
【解決手段】六角セルハニカム触媒体１は、六角形格子状のセル壁２１と六角形状の多数のセル２２とを有する六角セルハニカム担体２と、六角セルハニカム担体２のセル壁２１の表面２１１に設けられた触媒浄化層３とを有する。触媒浄化層３は、ＨＣ吸着材料を含有するＨＣ吸着層４と、触媒材料を含有する三元触媒層５とからなる。触媒浄化層３の厚みが最も小さい薄部３１におけるＨＣ吸着層４の厚みをａ１、三元触媒層５の厚みをｂ１とし、触媒浄化層３の厚みが最も大きい厚部３２におけるＨＣ吸着層４の厚みをａ２、三元触媒層５の厚みをｂ２とした場合に、（ａ１／ｂ１）及び（ａ２／ｂ２）は、共に１／２０〜５／１の範囲内である。 （もっと読む）

本発明は、コージエライト・セラミック相と、少なくとも約０．１重量％の、酸化イットリウムまたは酸化ランタンなどの希土類酸化物とを含む、孔隙率が高く（％Ｐ≧４５％）、耐熱性のセラミック物品について記載する。典型的な孔隙率の高いコージエライト物品と比較して、本発明の物品は、比較的高い強度、比較的少ない微小亀裂、比較的高い歪み耐性（ＭＯＲ／Ｅ）、および／または比較的高い耐熱衝撃性（ＴＳＰ）を示しうる。
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【課題】熱膨張係数が低く、耐熱衝撃性に優れた、コージェライトからなるハニカム構造体を提供する。
【解決手段】コージェライト化原料から得られた坏土をハニカム形状に成形する工程を経て製造された、コージェライトの主結晶が９５質量％以上のハニカム構造体１であり、前記コージェライト化原料が、Ｘ線回折によるＸ線回折スペクトルにおいて、散乱角（２θ）が１９．３°でのピーク強度（Ｉ_Ｂ）に対する、散乱角（２θ）が１８．９°でのピーク強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｂ）が１０以上であり、前記ピーク強度Ｉ_Ａに対する、散乱角（２θ）が３２．６°のピーク強度（Ｉ_Ｃ）の割合（Ｉ_Ｃ／Ｉ_Ａ）が０．０８以下であり、且つ前記ピーク強度Ｉ_Ａに対する、散乱角（２θ）が３０．８°のピーク強度（Ｉ_Ｄ）の割合（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ａ）が０．０３以下のタルク粒子を含むものであるハニカム構造体１。 （もっと読む）

酸化物重量パーセントに基づいて、a（Al₂TiO₅）+ b（ZrTiO₄）+ c（Y₂O₃）+ d（YPO₄）として表記され、ここで、「a、b、c、およびd」が（a + b + c + d）= 1.00である各成分の重量画分を表し、且つ0.5 ＜ a ≦ 0.95、0 ≦ b ≦ 0.5、0.0 ≦ c ≦ 0.10、および0 ≦ d ≦ 0.5であるものを含む、焼結相セラミック組成物から構成されるセラミック物品が開示されている。また、前駆体バッチ組成物および本明細書に開示されるセラミック物品の製造に関する方法も開示されている。
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【課題】色調が変化したり斑点等が生じたりして外観上不均質となることが防止されたコーディエライトセラミックス及びハニカム構造体を提供する。
【解決手段】ジルコニウム酸化物又はハフニウム酸化物の少なくともいずれかと、チタン酸化物を含有するコーディエライトセラミックである。そして具体的には、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びチタン（Ｔｉ）をそれぞれ二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、及び二酸化チタン（ＴｉＯ_２）で換算したときに、（二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）＋二酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２））／二酸化チタン（ＴｉＯ_２））のモル比が０．１〜５であるように含有されている。また、これら成分にかかる相は、主としてチタン酸ジルコニウム又はチタン酸ハフニウムとして含有される。 （もっと読む）