Fターム[4G031GA08]の内容
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誘電体磁器組成物及び電子部品
【課題】 比誘電率が高く、絶縁抵抗を維持でき、容量温度特性がEIA規格のX8R特性を満足し、還元性雰囲気中での焼成が可能であり、IR温度依存性が改善された誘電体磁器組成物の提供。
【解決手段】 チタン酸バリウムを含む主成分と、MgO,CaO,BaO、SrOの内少なくとも1種を含む第1副成分と、酸化珪素が主成分の第2副成分と、V2 O5 ,MoO3 及びWO3 の内少なくとも1種を含む第3副成分と、R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuの内少なくとも1種)の第4副成分と、CaZrO3 又はCaO+ZrO2 の第5副成分と、Aの酸化物(但し、Aは6配位時有効イオン半径が0.065nm〜0.085nm陽イオン元素群の内少なくとも1種)の第8副成分を含む誘電体磁器組成物で、前記主成分100モルに対する前記第8副成分の比率が0〜4モル(0と4モルを除く。A酸化物に換算した値)である誘電体磁器組成物。
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ジルコニア−アルミナ系セラミックスおよびその製法
【課題】高強度、高靭性に加えて耐摩耗性に優れたジルコニア−アルミナ系セラミックスおよびその製法を提供する。
【解決手段】8〜12モル%のCeO2を含むジルコニア結晶相67〜89.5質量%と、アルミナ相10〜30質量%と、酸化亜鉛0.5〜3質量%とからなるとともに、アルミナに前記CeO2および酸化亜鉛の一部が固溶し析出した針状晶を有し、かつ前記ジルコニア結晶相および前記アルミナ相の平均結晶径は1μm以下であることを特徴とする。
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積層圧電セラミックス構造体及びその製造方法
【課題】 基板材料としてSi、セラミックスの他、ステンレスや銅,鉄,ニッケルなどの安価な金属材料の使用が可能で、かつ、圧電特性が優れたPZT等の鉛を含む圧電セラミックス厚膜を有する、積層圧電セラミックス構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板3と、鉛を含む圧電セラミックス厚膜1との間に、銅または白金族金属からなる金属層を中間層2として積層した積層圧電セラミックス構造体で、前記鉛を含む圧電セラミックスは、MnO、Mn2O3、Mn3O4、BaO、CaO、SrOのうち、少なくとも一種を含有して、耐還元性を有しており、前記圧電セラミックス層は、エアロゾルデポジション法により形成し、前記積層圧電セラミックス構造体を不活性雰囲気中、または、還元性雰囲気中で熱処理を行う積層圧電セラミックス構造体の製造方法。
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誘電体磁器組成物の製造方法、電子部品及び積層セラミックコンデンサ
【課題】 積層セラミックコンデンサの誘電体層として使用し、微細な粒子から構成され、かつコンデンサを薄層化した場合においても、良好な電気特性や温度特性を有する誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 チタン酸バリウムと、SiO2 及びCaOを主成分とするガラス成分と、添加物成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、前記添加物成分の原料を除いて、前記チタン酸バリウムの原料と前記ガラス成分の原料を混合し、前記チタン酸バリウムの原料をBaTiO3 に換算したときの該BaTiO3 100モルに対する前記ガラス成分の原料の比率が、Ca量に換算して0〜2モル(但し、0モルと2モルを除く)である混合粉体を準備する工程と、準備された混合粉体を950℃未満で2時間超の時間、仮焼きして仮焼粉体を得る工程と、得られた仮焼粉体に前記添加物成分の原料を混合し、最終組成の誘電体原料を得る工程とを、有する誘電体磁器組成物の製造方法。
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セラミック誘電体及びそれを用いた電子部品ならびにその製造方法
【課題】誘電体層が薄い積層セラミックコンデンサであっても直流電圧による静電容量変化の少ない、即ち優れたDCバイアス特性を持つ積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
【解決手段】チタン酸カルシウムが主成分の結晶粒子から構成され、この結晶粒子の中央部分を半導体相、周辺部分を常誘電体相としたセラミック誘電体を用いることにより、静電容量が大きく、かつDCバイアス特性に優れた積層セラミックコンデンサを得ることができる。
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積層型セラミックコンデンサおよびその製造方法
【課題】 容量の経時変化である容量温度特性がEIA規格のX8R特性(−55〜150℃、ΔC/C=±15%以内)を満足し、加速試験における抵抗変化率が小さく(平均寿命が長く)、信頼性に優れる積層型セラミックコンデンサを提供する。
【解決手段】 誘電体層を構成する結晶粒子に第1の希土類元素(R1)および第2の希土類元素(R2)がそれぞれ拡散されており、平均粒径の結晶粒子において、第1の希土類元素(R1)の結晶粒子表面からの拡散層深さd1が結晶粒子の径Dに対して占める割合をX1(%)とし、第2の希土類元素(R2)の結晶粒子表面からの拡散層深さd2が結晶粒子の径Dに対して占める割合をX2(%)とした場合、第2の希土類元素(R2)の拡散層深さd2が第1の希土類元素(R1)の拡散層深さd1よりも深部に及んでおり、X1=10〜35%、かつX2>X1(d2>d1と同義)の関係が成立してなるように構成される。
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誘電体磁器組成物および電子部品
【課題】容量の経時変化である容量温度特性がEIA規格のX8R特性を満足し、Tcバイアス特性変化率が小さく、加速試験における抵抗変化率が小さく、信頼性に優れる誘電体磁器組成物および電子部品を提供する。
【解決手段】チタン酸バリウムを含む主成分と、酸化シリコンを主成分とする第1副成分と、CaZrO3、またはCaOとZrO2の混合体を含む第2副成分と、Sc、Er、Tm、Yb、Luから選択される第1の希土類元素(R1)の酸化物からなる第3副成分と、Y、Dy、Ho、Tb、Gd、Euのから選択される第2の希土類元素(R2)の酸化物からなる第4副成分と、MgO、CaO、BaO、SrOから選択される第5副成分と、V2O5、MoO3、WO3から選択される第6副成分と、を少なくとも有する誘電体磁器組成物であって、第1副成分〜第4副成分の関係において、各副成分割合が所定の関係を満たすように構成する。
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Cu内部電極を備えた圧電トランス
本発明は、少なくとも2つのセラミックスおよびこれらのセラミック素子の間に配置された銅を含有する電極が設けられている圧電トランスに関する。本発明によれば、Pb(ZrxTi1−x)O3 + y Pb(Mn1/3 Nb2/3)O3 を含む組成から成るセラミックス素子が選ばれる。 (もっと読む)
積層型セラミックコンデンサ
積層セラミックコンデンサを構成している積層誘電体素子本体内部での残留応力、又は積層誘電体素子本体の外表面での残留応力を所定の値以上にすることにより、誘電率が高く且つ取得静電容量の大きい信頼性の高い積層型セラミックコンデンサを得ることができる。 (もっと読む)
圧電セラミック材料、多層構造素子及び該セラミック材料の製造方法
本発明は、Cu−カチオンを有する本発明による組成のPZT−セラミックの少なくとも1つの含分を有する一般組成ABO3の圧電セラミック材料に関する。Zr−及びTi−カチオンの含分は、Cu−カチオンの含量に応じて、セラミック材料がモルフォトロピック相境界に調節されているように選択される。さらに本発明は、そのようなセラミック材料の製造方法を記載する。 (もっと読む)
セラミックス膜構造体とその形成方法及び装置
本発明は、エアロゾルデポジション法等で形成された微結晶セラミックス膜に、セラミックス自体は吸収しやすく、逆に金属では反射するという赤外線のセラミックス材料に対する光学特性を利用したレーザー照射による加熱処理を行うことにより、微結晶セラミックス膜が基板から剥離することなく粒成長及び欠陥回復が可能なセラミックス膜構造体、その形成方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明のセラミックス膜構造体の形成方法は、金属基板上に微結晶セラミックス膜を形成した後、該微結晶セラミックス膜に赤外線レーザーを照射することを特徴とする。
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