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Fターム[4G059AC20]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | 機能 (3,660) | 絶縁、遮蔽 (70)

Fターム[4G059AC20]に分類される特許

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【課題】LEDからなるインジケータの配設に対応する遮光膜の非形成領域から、LEDの配線等の調理器内部が見えることがなく、LEDで表示する数字を誤認することがない調理器用トッププレートを提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート1は、透明ガラス板2の裏面に遮光膜の形成部と非形成部を有し、非形成部の下方に発光素子7が配置される調理器用トッププレートであって、透明ガラス板の裏面に、発光素子の光線を透過する着色板状体5を取り付ける。 (もっと読む)


錫化合物とインジウム化合物を含有した原料混合溶液とアルカリ溶液とを反応させると共に継続的に撹拌しながら熟成させて沈殿物を得る工程と、前記沈殿物をデカンテーションにより洗浄し、乾燥してインジウムと錫とから成る水酸化物あるいは水和物粉末を得る工程と、この水酸化物あるいは水和物粉末を不活性ガス若しくは不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス雰囲気下で1200℃以上で焼成してInSn12複合酸化物微粒子を得る工程とを具備する方法により従来のITO等に比べて安価且つ簡便に製造することが可能になり、平均1次粒子径400nm以下、かつL表色系における粉体色Lが30〜70、aが−9.0〜−0.1、bが−15.0〜4.0である日射遮蔽用InSn12複合酸化物微粒子を得ることが出きる。 (もっと読む)


表面上の不透明クロム被膜が乾式エッチングされて開口部を形成した基板において、開口部内のクロムは検出可能限界未満である。基板上に不透明クロム被膜を形成する方法は、不透明クロム被膜の最初の厚さ部分を、イオン・アシストを伴わずにまたは検出不能のイオン・アシストを伴って基板上に堆積させ、不透明クロム被膜の残りの部分は、イオン・アシストを伴って、または伴わずに形成する。一つの実施例においては、光透過性を有する基板と、基板上に開口部を画成する不透明クロム被膜とを有する、開口部を備えた光学素子に関する。3層のクロム/酸化クロム/クロム被膜を含む、種々の材料からなる3層または4層の不透明被膜が開示されている。
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【課題】 保護膜の除去を容易とすると共に、保護膜除去のための洗浄液による環境汚染を抑制しようとする保護膜付きガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板1の少なくとも一面に保護膜を形成した保護膜付きガラス基板であって、前記保護膜は、水に溶ける材料からなる水溶性保護膜2である。これにより、保護膜は、水洗して除去することができ、人体にとっても安全であると共に環境汚染が抑制される。 (もっと読む)


金属/誘電体構造(10、20、30、50、62)は、その中を通して光を導くのに適している透光基体(12、54)又は誘電体基体(65)のいずれかと、基体の表面上に堆積された少なくとも1種の金属又はメタロイドの酸化物形態を含む任意の接着促進層(18、56、66)と、接着促進層(18、56、66)の上に配置されている高反射金属(14、58)及び/又は導電性金属(68)/電磁金属から成る層と、及び金属層(14)の上に形成されたパリレンポリマーフィルム(17、19)から成る保護層(16、60、70)とを含む。
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【課題】ゲッタリングのための構造として、電極としても用いることができ、かつ遮光を実現する構造としての、半導体素子の支持体及び半導体素子の支持体の駆動方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の支持体100上に形成されているMOSトランジスタ302や、保持容量303等の半導体素子に印加されている最低電位を0Vとしたとき、半導体素子の支持体100の構成要素であるタングステン膜103には、−3Vの電位を与えて駆動する。タングステン膜103に半導体素子の最低電位0Vよりも低い電圧が与えられているため、珪酸ガラス基体101や酸化珪素膜102、104に存在している正の電荷を有する可動性のあるナトリウムイオン等のアルカリ金属は、低い電位に保たれているタングステン膜103の方へ移動し、タングステン膜103に捕らえられることで固定される。 (もっと読む)


【課題】 ランプのガラス面上に不透明な銀白色の被膜を形成する。
【解決手段】 キャリア液体の中にカルボニル鉄粉末及びアルミニウム粉末の混合物を有する懸濁液を、ランプの外囲器に適用する。次いで懸濁液を乾燥させ、その後、懸濁液から残留する組成物を500℃を越える温度で焼成する。また、ガラス外囲器と、該ガラス外囲器の少なくとも一部分を被覆する単一層の不透明な被膜とを持つランプも開示する。不透明な被膜は50〜80重量%のカルボニル鉄と20〜50重量%の元素アルミニウムとを有する。 (もっと読む)


フラットパネルディスプレイ(LDC、ELD、プラズマディスプレイ、LED、OLED)、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した2層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はAlでドープされた酸化亜鉛(AZO)、または酸化ガリウムでドープされたZnO(GZO)、またはAlおよびGaの両方でドープされたZnO(AGZO)からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のITO層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてITO「アイランド」の形成を防止する。 (もっと読む)


アモルファスの連続気泡SiO未焼結成形体の表面上に、Si焼結層を形成するために適切な前駆物質を施与し、かつ引き続きレーザービーム中現場で該先駆物質をSi焼結層へ変換することを特徴とする、SiO未焼結成形体からなるSi被覆されたSiO成形体の製造方法。 (もっと読む)


複数のガラス板を包装する方法であって、(1)各ガラス板の頂面を除去可能な頂面保護フイルムで被覆し、(2)各ガラス板の底面を除去可能な底面保護膜で被覆し、(3)あるガラス板の頂面保護フイルムが別のガラス板の底面保護フイルムと隣接するように、被覆したガラス板を互いに積み重ねる各工程を有してなる方法がここに開示されている。各ガラス板の頂面保護フイルムおよび/または底面保護フイルムは、その中にエンボス特徴構造(例えば、粗い特徴構造)を有する。積み重ねられたガラス板の間に位置するエンボス特徴構造により生じたエア・ポケットが存在するために、この特徴構造によって、ガラス板を別のガラス板から分離するのが容易になる。被覆されたガラス板および被覆されたガラス板を複数保管できる容器もここに記載されている。
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