【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層３０Ｕ、３０Ｂが、表面２０Ｕ側と裏面２０Ｂ側とのみに設けられ、端面４０Ａが、凸を成す曲面であり、端面４０Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、強化度の高い強化ガラス基板を目的の大きさに切断できる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、板厚方向に相対向する板表面に圧縮応力が形成され、板厚方向内部側に引張応力が形成された強化ガラス基板であって、圧縮応力が形成された前記板表面の表面層の少なくとも一部を除去してなる切断予定溝が前記板表面の切断予定位置に沿って設けられ、前記切断予定溝形成部分に対応する板厚方向中央部の引張応力値が、前記切断予定溝形成部分以外の部分に対応する板厚方向中央部の引張応力値よりも小さい強化ガラス基板に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、十分な表面強度を有し、高い製造効率で作製し得る強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、無機酸化物ガラスからなり、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、少なくとも一方の板表面の圧縮応力値が６１０〜１５００ＭＰａであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル２０と、該表示パネル２０の前方に設置されるカバーガラス板３０とを備えるディスプレイ装置１０において、カバーガラス板３０は、３２インチ以上の対角線長さＬ、１．５ｍｍ以下の厚さ、および、７０ＧＰａ以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置２０を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れた結晶化ガラスを創案することにより、結晶化ガラスの表面において、化学的腐食に起因した微細なクラックが発生する事態を防止すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、燃焼装置の構成部材に用いる結晶化ガラスであって、表面にＫリッチ層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜３％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、表面粗さ（Ｒａ）１０Å以下の未研磨の表面を有し、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の互いに対向する一方及び他方のそれぞれの主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板の一方及び他方のそれぞれの主表面から前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材を得る第１の工程と、前記ガラス基材の厚さ方向の流れを持つエッチャント中で前記ガラス基材をエッチングする第２の工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】溶融温度をアルミノシリケート系ガラスよりも低下させ、組成成分にＬｉを含有せず、クラックの発生を低減する化学強化用ガラス組成物、及びこれを化学強化して得た化学強化ガラス材を提供する。
【解決手段】イオン交換法により化学強化される被強化ガラス材とは、ＳｉＯ₂を３５〜６５モル％、Ａｌ₂Ｏ₃を６〜２０モル％、Ｂ₂Ｏ₃を５〜３０モル％、Ｎａ₂Ｏを７〜２０モル％、Ｋ₂Ｏを０〜１５モル％を含有し、Ｎａ₂Ｏ及びＫ₂Ｏのモル％の和が１０〜２５モル％であることを満たす主成分（Ａ１）と、ＭｇＯ、ＣａＯ、またはＺｎＯのいずれか１種以上を被強化ガラス材全体において１〜１５モル％含有することを満たす当該被強化ガラス材の補助成分（Ａ２）とを含んでなるアルミノボロシリケートガラスの化学強化用ガラス組成物であり、これを化学強化してなる化学強化ガラス材である。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、しかも平滑性や平坦性の高いガラス基板を製造すること。
【解決手段】円板状に形成されたガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン径のイオンに置換することにより上記ガラス基板を強化する化学強化工程を備えた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、上記化学強化工程後にアニールおよびセッタープレスを施す形状矯正工程を備えていることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、（ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＳＯ_３ ０．００１〜３％を含有し、質量分率（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．７〜２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。 （もっと読む）

３次元精密成形に用いられ、かつ強化処理に適する薄リチウムアルミノケイ酸ガラスが提供される。本発明ガラスは、５０ＭＰａ以下の中心引っ張り応力、６００〜１２００ＭＰａの表面圧縮応力、最大で５００ＭＰａまで達する曲げ強度、及び５５０℃以下のガラス転移温度を有する。 （もっと読む）