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Fターム[4G059HB23]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | イオン交換 (865) | イオン交換用組成物 (604) | アニオン成分 (183) | NO3 (150)

Fターム[4G059HB23]に分類される特許

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光学的に透明なアルカリケイ酸塩ガラスシートに乳白層を形成する方法であって、シートを成すアルカリケイ酸塩ガラスの液相粘度が少なくとも約200,000ポアズ、液相温度が約1200℃以下であり、暴露後のガラスシートの暴露面が乳白層を成すことを特徴とする方法。この方法は光学的に透明なアルカリケイ酸塩ガラスシートの表面を300℃以上のアルカリ金属塩槽に少なくとも5分間暴露するステップを有している。 (もっと読む)


【課題】複合型光学素子において基材や樹脂の種類および組み合わせ、さらには形状等に制約を生じることなく、温度や湿度等の環境変化における基材ワレやクラックを防止する。
【解決手段】ガラス基材11の光学機能面11aに成形樹脂層13を被着した構成の複合型光学素子10において、成形樹脂層13が被着される光学機能面11aの表面に所定の厚さの圧縮応力層、または所定の深さに異質相を形成してマイクロクラックの生成や成長を抑制することで、ガラス基材11や成形樹脂層13の形状や素材の組合せに制約を受けることなく、ガラス基材11の温度や湿度等の環境変化における基材ワレやクラックを防止する。 (もっと読む)


【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、加熱した化学強化用の熔融塩にガラス基板を浸漬す
ることにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラ
ス基板を化学強化し、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたイオン交
換層を除去することにより製造される。 (もっと読む)


【課題】抗菌性と強度を兼ね備えた抗菌性強化ガラスを、連続的に効率よく、かつ低コストで生産することができる抗菌性強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】イオン交換強化用のカリウムを含むアルカリ塩水溶液に、粘性を付与する増粘剤と、抗菌性を付与する抗菌剤を添加した強化用水溶液を準備する。この強化用水溶液をガラス表面に塗布した後、乾燥処理してガラス表面に前記強化用水溶液からなるコーティング膜を形成する。次いで、熱処理を施してガラス表面に前記抗菌剤を拡散させるとともに、ガラス表面をイオン交換強化する。最後に、水洗処理して残留塩等を除去する。 (もっと読む)


本発明は、複数の造形品を作製するための方法および装置に関する。この装置は、少なくとも1個の減圧ポート(108)と、ガラスを主体とする材料からなる1枚のシート(130)を受容するための一つの表面(124)とを有する1個の容器(102)を備えている。容器(102)内には少なくとも1個の雄型(116)が支持されており、この少なくとも1個の雄型(116)は、1個の造形品の内側を画成する輪郭を備えた外側表面(118)を有する。上記容器と上記少なくとも1個の雄型との間には一つの開放容積(115)が画成され、この開放容積は上記減圧ポートに連通している。上記方法は、複数の雄型(116)からなるアレーを提供し、かつ上記複数の雄型の表面(118)上に上記シート(130)を垂れ下がらせて、複数の垂れ下がりウェブによって相互連結された複数の造形品からなるアレーを形成し、上記複数のウェブは、上記複数の造形品からなるアレーの基部の下方へ延出している。
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本発明は、第1の自由表面と第2の自由表面とを含む平板無機ガラスであって、第1及び第2の自由表面の間の平板ガラス本体内に形成した、第1の自由表面からの深さが1〜1000μmの、高屈折率(n2)を有する領域の群と低屈折率(n1)を有する領域の群とを含んでいる平板無機ガラスに関する。前記高屈折率の領域と低屈折率の領域とは、第1及び第2の自由表面の間でガラス本体を横切る方向に交互に位置しており、高屈折率の領域は第1の自由表面から第2の自由表面に向かって広がっており、そしてそれらの面が第1の自由表面に対して少なくとも65°の角度(θ)を成す高屈折率領域を包囲している。
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【課題】薄板(板厚が0.7mm以下)であり、且つ機械的強度が高い強化ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、圧縮応力層を有する強化ガラス基板において、板厚が0.7mm以下であり、且つ主表面に形成される圧縮応力層の深さDTが、端面に形成される圧縮応力層の深さDHより小さいことを特徴とする。 (もっと読む)


第1面(10)と、その反対側の第2面(11)とを有し、第2面には少なくとも一つの導電性フィルムにより形成された電極(2)が設けられているガラス基板(1)であって、当該ガラス基板は、第2面の全体にわたって、かつ第1面(10)の方向に基板の内部に向かって延在する厚さeにわたって屈折率が変化しており、ガラスにおけるこの屈折率の変化はイオン交換処理により得られたものであり、表面の屈折率は厚さeよりも深い位置のガラスの屈折率よりも大きくなっていることを特徴とするガラス基板。 (もっと読む)


【課題】必要な強度を備え、遊離砥粒を用いた加工を経ることなく、固定砥粒による加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材を提供する。
【解決手段】板状のガラス素材の表層に脆性処理層が形成されている磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材である。上記脆性処理層は引張り応力層である。このような磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材は、板状のガラス素材の表層にイオン交換法によって引張り応力層を形成することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の端面のクラックを十分に低減することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板の端面を機械研磨した後に、キャリアで保持した状態でガラス基板の主表面を研磨し、その後に、ガラス基板の端面をエッチングし、その後に、キャリアを用いない枚葉研磨により再度主表面の研磨をすることとした。この方法により、ガラス基板のエッチングにより、端面の機械研磨によるガラス基板端面のクラックとキャリアとの接触によるガラス基板端面のクラックを除去し、枚葉研磨により、エッチングによるガラス基板の主表面の荒れを除去することができる。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング/エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング/エンクロージャ/カバー:(1)15MHzから3.0GHzまでの周波数範囲において0.03未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性;(2)赤外線透明性;(3)0.6MPa・m1/2より大きい破壊靭性;(4)350MPaより大きい4点曲げ強度;(5)少なくとも450kgf/mmのビッカース硬度および少なくとも5kgfのビッカース中央/放射亀裂開始限界;(6)約50から100GPaの間のヤング率;(7)2.0W/m℃未満の熱伝導率;および(8)以下の特性の少なくとも1つ:(i)20μmより大きい層の深さ(DOL)および400MPaより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または(ii)20MPa以上の中央張力。 (もっと読む)


【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】質量%で、SiO2:45〜75%、Al2O3:0〜25%、Li2O+Na2O+K2O:0〜30%の組成を有し、SO3+Clを0.0001〜0.5質量%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであり、イオン交換処理を行うことにより、応力値が300MPa以上であり、厚みが1μm以上である圧縮応力層が形成された強化ガラスとする。 (もっと読む)


ガラスを化学強化する方法である。この方法は、第1の浴中におけるイオン交換に続き第2の浴中に浸すことを含む。上記第1の浴は流出イオンで希釈される。上記第2の浴は上記第1の浴よりも低い流出イオン濃度を有する。この方法は、高信頼性を目指して十分に深い圧縮応力の層の深さを有しながら、ガラスの表面における力の接触によって傷が誘発されるのを阻止するのに十分な圧縮応力を上記表面に提供する。
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【課題】製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れたガラス基材を得ることができるガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の主表面上に、印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングにより所望の形状に切り抜く工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去する工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材1は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材1を得て、このガラス基材1の端面13に対して、該ガラス基材表面が軟化し得る熱エネルギーを局所的に加えることにより得られることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つガラス基材であって、断面視において、それぞれの主表面と前記端面とで構成される2つのエッジ部を結ぶ第1仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Lと、前記ガラス基材の厚さDとの関係がL≦D/2を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、UL−1439に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 (もっと読む)


【課題】近赤外域から紫外域に至る光を対象とした二色性の固体偏光素子において、高耐熱性、高透過率、高消光比を併せてもたせること。また、その二色性固体偏光素子を安価に作製するための製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る固体偏光素子は、近紫外光から可視光を経て赤外光にわたる光波領域の全域若しくは一部において透明な固体材料と;前記固体材料の中に配向分散された金属ナノロッドとを備える。そして、前記金属ナノロッドはタリウムからなる。また、前記金属ナノロッドは互いに独立し、その長軸を同一の方向に揃えて配向分散されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】化学強化処理による圧縮応力層を十分に残しながら、基板端部の形状を十分にコントロールし得る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板1の化学強化処理を行う化学強化工程の後に磁気ディスク用ガラス基板1の端部形状が変化する化学強化後研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板1の製造方法及び磁気ディスクの製造方法において、化学強化工程は、化学強化後研磨工程後における端部形状と該端部形状の目標形状との差分が化学強化後研磨工程によって取り除かれる形状を残す制御を行うこととした。 (もっと読む)


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