【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を含有し、１．７３以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、４５以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧（−０．００１７０×ν_ｄ＋０．６３７５０）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板３は封止領域５を備える。ガラス基板３の封止領域７上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層７が設けられている。枠状の封着材料層７は直線部７ａとコーナー部７ｂとで構成されている。封着材料層７はコーナー部７ｂの幅Ｌ₁₂が直線部７ａの幅Ｌ₁₁より広い。 （もっと読む）

【課題】原料を微粒子化するために用いるニトリル溶媒と同一の溶媒中で固体電解質ガラスを製造できる方法を提供する。
【解決手段】リチウム（Ｌｉ）元素、リン（Ｐ）元素及び硫黄（Ｓ）元素を含む固体電解質ガラスであって、ニトリル化合物を含み、熱量計測定装置の１５０℃までの重量減少量が５重量％以下である固体電解質ガラス。 （もっと読む）

【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が５．０％以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】一般の光学ガラスでは実現できなかった、高い硬度と高いヤング率とを有し、かつ高屈折率で低分散の光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、ｍｏｌ％で示す組成が次の条件を満たす：４０％≦Ａｌ₂Ｏ₃≦５４％；２０％≦Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｌａ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；１６％≦ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋Ｔａ₂Ｏ₅＋ＭｇＯ≦３０％；０％≦ＺｒＯ₂≦２５％；０％≦Ｎｂ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦Ｔａ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦ＭｇＯ≦１５％；０％≦Ｓｃ₂Ｏ₃≦１０％；０％≦Ｙｂ₂Ｏ₃≦５％；０≦ＳｉＯ₂≦１５％。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス、及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下であり、５００℃以上１２００℃以下の液相温度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を０〜８、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１２、ＺｎＯを２〜７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．５〜３、ＣｕＯを０．５〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３を８０〜９０、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．１〜３、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜３含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｅｕ、Ｄｙ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選択される１種以上）を合計で６０．０％未満含有し、１．７５以上の屈折率（ｎｄ）と１０以上のアッベ数（νｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】特に遷移金属であるＮｂ_２Ｏ_５成分を含有するガラスにおいて、着色の少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を必須成分として含有するガラス原料を溶解し、溶解したガラス中で非酸化性ガスをバブリングする工程を有する。この製造方法は、ガラス原料Ｓを溶融する溶融槽１１と、この溶融槽１１に連通され且つ溶融ガラスＧを清澄する清澄槽１２と、この清澄槽１２に連通され且つ溶融ガラスＧを撹拌する撹拌槽１３と、を用い、ガラス原料Ｓを溶融槽１１で溶融する溶融工程、溶融したガラス原料Ｓを清澄槽１２で清澄させる清澄工程、清澄した溶融ガラスＧを撹拌槽１３で撹拌する撹拌工程、撹拌した溶融ガラスＧを流出させる流出工程、及び、流出したガラスを成形する成形工程を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるＨＡＭＲに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Ｎａ_２ＳＯ_４を緩衝剤として混合し、Ｈ_２ＳＯ_４とＮａＯＨにてｐＨが１０に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−５０ｍＶより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 （もっと読む）

【課題】多量のＴａ₂Ｏ₅及びＮｂ₂Ｏ₅を含有させなくとも、屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）が所望の範囲内にありながら透過率の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｌａ₂Ｏ₃成分を１０．０〜４０．０％、Ｂ₂Ｏ₃成分を１０．０〜４０．０％、ＳｉＯ₂成分を０〜１５．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を０〜２０．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜１０．０％含有し、１．７５〜１．９５の屈折率（ｎｄ）を有し、３０〜４０のアッベ数（νｄ）を有する光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】特に遷移金属であるＮｂ_２Ｏ_５成分を含有し、且つ着色が少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｂ_２Ｏ_５成分を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料Ｓを溶融する溶融槽１１と、この溶融槽１１に連通され且つガラスを清澄する清澄槽１２と、この清澄槽１２に連通され且つガラスを撹拌する撹拌槽１３と、を用い、ガラス原料Ｓを前記溶融槽１１で溶融する工程（溶融工程）、溶融したガラス原料Ｓを前記清澄槽１２で清澄させる工程（清澄工程）、清澄した溶融ガラスＧを前記撹拌槽１３で撹拌する工程（撹拌工程）、撹拌した溶融ガラスＧを流出させる工程（流出工程）、及び流出したガラスを成形する工程（成形工程）を有する。 （もっと読む）

【課題】所望結晶のみをガラス中に選択析出させた結晶化ガラスとその製法を提供する。
【解決手段】遷移金属元素あるいはリチウムを含有するガラスにマイクロ波を照射することによって、鉄、銅等の遷移金属元素あるいはリチウムから構成される所望結晶をガラス中に選択析出させる。結晶化ガラスの少なくとも一部は非晶質であり、結晶化ガラスがバナジウムあるいは、リチウムイオン，ナトリウムイオン，マグネシウムイオンのいずれかを含む。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式ＡｍＢ_２（ＸＯ_４）_３（式中、第一元素ＡはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選択される１種以上とし、第二元素ＢはＺｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ及びＴａからなる群から選択される１種以上とし、第三元素ＸはＳｉ、Ｇｅ、Ｐ、Ｓ、Ｍｏ及びＷからなる群から選択される１種以上とし、係数ｍは０以上３以下とする）で表される。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するＬＴＣＣ基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】２５〜６０質量％のガラス粉末と１５〜５０質量％のアルミナ粉末および１０〜４０質量％の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を０〜５０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜５０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる１種以上を合計で３〜６５質量％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選ばれる１種以上を合計で０〜２０質量％、Ｂｉ_２Ｏ_３を０〜５０質量％含有し、「（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量）の３倍」＋「（ＺｎＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量）の２倍」＋「（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量）の１０倍」の値が２００を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ製造プロセスにおけるガラス板の寸法変化を減少させる。
【解決手段】 プロセス中にガラス板のガラスのピーク膨張を増加させるようにガラスの組成を変更する工程を有してなる。変更工程が、ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度が少なくとも０．２５モル％だけ増加されることが好ましく、１．０モル％だけ増加させることがより好ましい。変更工程が、ガラスの水濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ディスプレイ装置を製造する製造プロセスにおいて基板として使用するためのガラス板も提供される。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％、及びＷＯ_３成分を１．０〜２５．０％含有し、Ｌｉ_２Ｏ成分の含量が５．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を２０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％〜４０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を０％〜２０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％〜３０．０％含有し、ＴｅＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）が１．０以上、Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｌａ_２Ｏ_３が０％より多く６０％以下であり、摩耗度が２００以上８００以下、ヌープ硬度が２５０以上６５０以下、粉末法耐水性クラス（RW）が１以上３以下、粉末法耐酸性クラス（RA）が１以上３以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）