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パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びパワーモジュール用基板の製造方法
【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層11の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層12が配設され、この回路層12上にはんだ層2を介して半導体素子3が配設されるパワーモジュール用基板10であって、回路層12の一方の面には、ZnO含有の無鉛ガラスを含有するAgペーストの焼成体からなるAg焼成層30が形成されていることを特徴とする。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 99〜99.95質量%と、顔料 0.05〜1質量%を含有する封着材料であって、顔料の一次粒子の平均粒径が1〜100nmであり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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光学ガラスの製造方法
【課題】Bi2O3やTeO2を多量に含有する光学ガラスにおいて、溶融及び/又は成形時の着色を抑えることができ、かつ大量生産時の種々の負荷にも耐えうる高強度の金属材料からなる部材を使用する光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、金を90%質量以上含有しかつ強化材を分散させた金属材料からなる部材を使用して、酸化物基準でBi2O3及び/又はTeO2を30質量%以上含有するガラス原料を溶融し、且つ/又は、ガラス原料が溶融した溶融ガラスを成形した光学ガラスである。金属材料からなる溶融槽を使用して、ガラス原料を溶解している。
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絶縁反射層を形成するための絶縁白色ガラスペースト
【課題】絶縁反射層を形成するための絶縁白色ガラスペーストを提供する。
【解決手段】有機媒質と、光反射充填剤としてのジルコニア粉末およびガラスフリットを含む無機構成成分と、を含む照明装置基板上に具備すべき絶縁反射層を形成するのに適した絶縁白色ガラスペースト。
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アルミノリン酸ガラス組成物
【課題】固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとした物理学的特性及びレーザ特性を改善させガラス組成物を提供する。
【解決手段】SiO2及びB2O3を或る特定量添加すること等を通じて、アルミナも含有する、リン酸塩をベースとするガラス組成物の物理学的特性及びレーザ特性を改善させ、固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとしたガラスに関する。該レーザガラスは、FOMTM及びFOMlaserに関する望ましい性能指数値を有する。
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光学ガラス
【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン%表示で、Si4+0〜30%、B3+10〜55%、Li+、Na+およびK+を合計で5%未満、Mg2+、Ca2+およびSr2+を合計で5%未満、Ba2+0〜8%、Zn2+0.1〜15%、La3+10〜50%、Gd3+0〜20%、Y3+0〜15%、Yb3+0〜10%、Zr4+0〜20%、Ti4+0.1〜22%、Nb5+0〜20%、Ta5+0〜8%、W6+0〜5%、Ge4+0〜8%、Bi3+0〜10%、Al3+0〜10%、B3+の含有量に対するSi4+の含有量のカチオン比Si4+/B3+が1.0未満、酸化物に換算してNb2O5とTa2O5の合計含有量が14質量%未満、屈折率ndが1.966〜2.2、アッベ数νdが25〜45であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率かつ高分散である、(4)可視光透過率に優れるガラスが得られやすい、(5)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ndが2.0以上、アッベ数νdが20以下、ガラス転移点)が450℃以下であり、ガラス組成として質量%で、Bi2O3 70〜90%、B2O3 4〜29.9%、Li2O+Na2O+K2O 0.1%〜10%、SiO2+Al2O3 0〜2.5%を含有し、かつ、鉛成分、砒素成分、F成分、TeO2、GeO2を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】より低いアッベ数(νd)及びより高い屈折率(nd)を有しながらも、耐失透性や可視光に対する透明性の高い光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を30.0%以上70.0%以下含有し、1.80以上の屈折率(nd)を有する。また、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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ガラスセラミックス、その製造方法、それを含む光触媒、スラリー状混合物、光触媒部材、浄化装置、フィルタ、焼結体及びガラスセラミックス複合体
【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi2O3成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。
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光学ガラス、プレス成形用ガラス素材および光学素子
【課題】屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下の高屈折率高分散特性を持ちながら、高品質のガラスの製造に適した粘性特性を有する光学ガラス、このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、
カチオン%表示にて、
P5+を16〜35%、
Bi3+を14〜35%、
Nb5+を10〜33%、
Ti4+を0〜18%、
W6+を0〜20%
含み、
Bi3+、Nb5+、Ti4+およびW6+の合計含有量が55%以上、
屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下であることを特徴とする光学ガラス。光学このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、可視光に対する透過率が高く、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+Nb2O5)が20.0%未満である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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ガラス
【課題】Pb、Ge、Ga等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%表示で、3%〜70%のB2O3、4%〜45%のZnO、0%〜30%のR2O(但し、RはLi、Na、K、Csから選ばれる一種以上)の各成分を含有し、酸化物基準のモル%で表されたR2O/B2O3の比の値が0.01以上1以下であり、ZnOとR2O成分の合計量が10%以上70%以下であることを特徴とするガラス。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、プレス成形を行いやすく、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、La2O3成分を5.0〜30.0%、及びLi2O成分を3.5%より多く20.0%以下含有する。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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イオン伝導性薄膜材料及びその製造方法
【課題】加湿しなくても、200〜500℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル%表示で、P2O5 15〜80%、SiO2 0〜70%、R2O(Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、及びAg2Oの合量) 5〜35%を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが1〜500μmであることを特徴とする。
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電気素子パッケージ
【課題】電気素子パッケージの設計の自由度を確保しつつ、ガラスフリットの溶着時に加えられるレーザ光の照射熱によって、電極や電気素子が損傷するという事態を可及的に低減する。
【解決手段】有機EL層2を内部空間に気密封止した有機EL素子パッケージ1であって、有機EL層2が配置された素子基板3と、素子基板3の有機EL層2側の表面に間隔を置いて対向する封止基板4と、有機EL層2の周囲を囲むように素子基板3と封止基板4との間の隙間を気密封止するガラスフリット5と、素子基板3とガラスフリット5の間に配置され且つガラスフリット5を溶着する際に照射されるレーザ光を反射する反射膜として機能する誘電体多層膜8とを有する。この誘電体多層膜8は、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とを交互に積層したものから形成される。
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イオン伝導性材料及びその製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、200〜500℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル%表示で、P2O5 15〜80%、SiO2 0〜70%、R2O(Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、及びAg2Oの合量) 5〜35%を含有すると共に、R2O成分(Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、Ag2O)の内、少なくとも2種以上を含むことを特徴とする。
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ガラス
【課題】Pb、Ge、Ga等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の膨張係数を実現でき、Tgが450℃以下の封着等に適したガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル%表示で、30%〜55%のP2O5、10%〜40%のZnO、0.01%〜30%のAl2O3、0%〜30%のR2O(但し、RはLi、Na、K、Csから選ばれる一種以上)の各成分を含有し、酸化物基準のモル%で表されたAl2O3/ P2O5の比の値が0.01以上1以下であることを特徴とするガラス。
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電極形成用ガラス及びこれを用いた電極形成材料
【課題】本発明の技術的課題は、ファイアスルー性が良好であり、またファイアスルーの際にシリコン太陽電池の光電変換効率を低下させ難く、しかも低温で焼結可能なビスマス系ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率を高めることである。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 65.2〜90%、B2O3 0〜5.4%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+CuO+Fe2O3+Nd2O3+CeO2+Sb2O3(MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、CuO、Fe2O3、Nd2O3、CeO2、及びSb2O3の合量) 0.1〜34.5%を含有することを特徴とする。
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リン酸塩系レーザーガラスにおける希土類イオン発光帯域幅の拡大
【課題】固体レーザー利得媒質としてのリン酸塩系ガラスの使用の開示。
【解決手段】リン酸レーザーガラスであって、P2O535〜65、SiO20〜20、B2O30〜15、Al2O3>0〜10、Nb2O50〜10、TeO20〜5、GeO20〜5、WO30〜5、Bi2O30〜5、La2O30〜5、Ln2O3>0〜10(Ln=周期表の元素58〜71のレーザー発振イオン)、R2O10〜30(R=Li、Na、K、Rb、Cs)、MO10〜30(M=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)、Sb2O30〜5の組成(mol%)を有し、SiO2、B2O3、TeO2、Nb2O5、Bi2O3、WO3及び/又はGeO2が各々、>0mol%〜約15mol%で存在し、それらの合計が少なくとも1mol%である、リン酸レーザーガラス。
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光学ガラス
【課題】本発明は、屈折率(nd)が1.59以上で、アッベ数(νd)が63以上である光学恒数を有し、ガラスの熔解安定性に優れ、精密プレス成形に適した軟化温度とプリフォーム用ゴブ成形性に好適な液相粘性を有し、しかも化学的耐久性に優れた光学ガラスの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量%で、P2O5:30〜50%、BaO:18〜43%、B2O3:2〜12%、Al2O3:1.4〜5%、Li2O:0超〜6%、La2O3:0超〜9%、MgO:0.1〜8%、CaO:0〜10%、SrO:0〜15%、ZnO:0〜5%、Gd2O3:0〜7%、SiO2:0〜3%、を含み、nd:1.59〜1.63、νd:63〜68の光学恒数を有する光学ガラスに関する。
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