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Fターム[4G062DA02]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Si (6,054) | 0+〜1 又は 0+〜? (677)

Fターム[4G062DA02]に分類される特許

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【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100モル%とし、酸化物組成として、
(1)P:45〜75モル%、
(2)Al:3〜25モル%、
(3)RをMg、Ca、Sr、Ba及びZnからなる群から選択される少なくとも1種とし、RO:5モル%以上30モル%未満、並びに
(4)Bi:0.1〜5モル%、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 (もっと読む)


【課題】研磨粒子として有用なガラス粒子、ガラスセラミック粒子、セラミック粒子を提供する。
【解決手段】Alと希土類酸化物とZrO/HfOを含むセラミック(ガラス、結晶質セラミック、ガラス−セラミックを含む)およびその製造方法に関する。Alと希土類酸化物とZrO/HfOを溶融し、ガラスビーズ、ガラス粉末として、熱処理を行いガラスセラミックス粉体として、研磨粒子等に利用が可能である。また該粒子は断熱材、フィラー、または複合材料(セラミック複合材料、金属複合材料、ポリマーマトリクス複合材料など)中の強化材、摩耗を伴う用途での保護コーティング材として利用し得る。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】C12A7系酸化物の組成を有し、電子濃度2×1018/cm3以上2.3×1021/cm3以下を包接する、C12A7系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が3.0〜4.1eVであり、上記融液を酸素分圧1Pa以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜10%、B 5〜30%、LiO 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO 0〜8%、La 25〜41%、Gd 0〜30%、TiO 0〜8%、Nb 0〜10%、Ta 0〜12%およびWO 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやAlの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi 1〜30%、B 10〜66%、CaO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜10%、B 5〜30%、ZnO 3.1〜25%、ZrO 0〜5.4%、La 25〜41%、Gd 0〜30%、Ta 0〜12%、Nb 0.1〜20%、WO 0〜10%、TiO 0〜8%およびLiO 0.1〜5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】250℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−50℃〜200℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を1mm以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂3〜40重量%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含有するシリカ1〜20重量%、鉛を含有しないガラスフリット1〜30重量%、コージライト30〜90重量%、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
、TeO、Al、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 (もっと読む)


【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有する高屈折率低分散光学ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、SiO2 0.1〜40%、B23 10〜50%、ZnO 0.5〜22%、La23 5〜50%、Gd23 0.1〜25%、Y23 0.1〜20%、ZrO2 0〜25%、TiO2 0〜25%、Nb25 0〜20%、Ta25 0〜7%、WO3 0.1%を超え20%以下、を含み、B23の含有量に対するSiO2の含有量の質量比SiO2/B23が1以下であり、屈折率ndが1.86〜1.95、アッベ数νdが(2.36−nd)/0.014以上、38未満、かつガラス転移温度が640℃以上であることを特徴とする光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機EL素子パッケージを備える有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がSnO含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末/ビークルの値が0.45〜1.65であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来よりも発光強度の高い蛍光体複合部材を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】無機基材上に、ガラス粉末および無機蛍光体粉末を含有する混合粉末を載置する工程、および、金型を用いて加熱しながら混合粉末をプレス成型し、無機基材表面に無機粉末焼結体層を形成する工程、を含むことを特徴とする蛍光体複合部材の製造方法。無機基材が、YAG系セラミックス、結晶化ガラス、ガラス、金属または金属とセラミックスの複合体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子やITOの屈折率ndに整合し、また耐失透性が高く、しかも原料コストの高騰を防止し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、B 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO+TiO 0.001〜30%、La+Nb 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO/SrOが0.1〜40であり、且つ屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を10.0〜50.0%及びLa成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO+WO+Nb)が0.1〜30.0%である。 (もっと読む)


【課題】電池の充放電電圧をより高めることができ、且つ、電池の充放電特性をより高めることが可能なリチウムイオン伝導性無機物質を提供する。
【解決手段】リチウムイオン伝導性無機物質は、酸化物基準の質量%で、ZrO成分を2.6〜52.0%含有する。このリチウムイオン伝導性無機物質は、正極層及び負極層と、これら正極層及び負極層の間に介在する固体電解質を含んだ固体電解質層と、を備えるリチウムイオン二次電池に用いられることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 ペースト安定性、密着性に優れ、クロストークやノイズを防止し低消費電力のプラズマディスプレイを実現可能な封着層を高精度に形成することができる感光性ガラスペーストを提供する。
【解決手段】 有機溶剤と重合性有機成分および光重合開始剤を含む有機固形分とガラス転移点が380℃〜480℃の範囲内である低融点ガラスを含む無機固形分とを含有し、前記低融点ガラスのBの含有量が20〜50質量%の範囲内であり、SiO、ZnOおよびAlの含有量の合計が25〜55質量%の範囲内、かつLiO、NaおよびKOの含有量の合計が15〜25質量%の範囲内であることを特徴とした感光性ガラスペーストとする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスを、より安価に提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜30.0%及びLa成分を10.0〜50.0%含有し、Ta成分の含有量が20.0%以下であり、1.80以上の屈折率(n)を有し、35以上50以下のアッベ数(ν)を有する。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】モールドプレス成形に好適な高屈折率かつ低分散の光学特性を有し、部分分散比が小さく、かつ、モールドプレス成形時における金型の劣化が少なく、量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、TeO 1〜47.5%、B 0.1〜31%、ZnO 0.1〜29.5%、Nb 0〜10%、WO 0〜2%、La 0〜11.5%、GeO 0〜3%、GaO 0〜3%を含有し、PbOを実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】相対屈折率の温度係数(dn/dT)が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数(ν)が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量%で、Bi成分を55.0〜95.0%及びB成分を4.0〜35.0%含有し、相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が3.0×10−6(℃−1)以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


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