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ガラスセラミックス
モールドプレス成形用光学ガラス
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ光学機器の軽量化に寄与しうる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜55.0%、La2O3成分を10.0〜55.0%含有し、F成分をさらに含有し、Gd2O3成分の含有量が25.0%未満である。
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紫外線透過ガラス
【課題】300nm以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2 10%〜40%、B2O3 10%〜40%、Al2O3 2%〜7.0%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜8%、K2O 0〜8.0%(但し、Li2O+Na2O+K2O=0%〜10%)、CaO 0%〜40%、BaO 0%〜40%、ZnO 0〜10%(但し、CaO+BaO+MgO+SrO+ZnO=1%〜40%)、Y2O3 0%〜17%、 ZrO2 0%〜18.0%(但し、Y2O3又はZrO2の一方以上を含む)、Sb2O3 0%〜0.5%を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚2.0mmの試料における250nmの透過率を60%以上とした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi2O3成分を70.0%以上90.0%以下、B2O3成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO2成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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触覚特性を有するコーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板
【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および/またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。
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光学ガラス
【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、プリフォームの生産性、モールドプレス性が良好な光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%でBi2O3を10%以上90%未満含有し、屈折率[nd]が1.70以上、アッベ数[νd]が10以上の光学恒数を有し、液相温度における粘性が0.4Pa・s以上である光学ガラスである。さらに、ガラスの屈伏点[At]が600℃以下、液相温度が950℃以下であることが好ましい。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜55.0%、La2O3成分を10.0〜55.0%含有し、Al2O3成分及びF成分をさらに含有する。この光学ガラスは、1.57以上の屈折率(nd)と、50以上のアッベ数(νd)とを有する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分とF成分を含有し、Ln2O3成分(式中、LnはLa、Gd、Y、Yb、Luからなる群より選択される1種以上)の質量和が50.0%未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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電子デバイスの製造方法
【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。
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ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、電波時計、及びガラスパッケージの製造方法
【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔21,22と金属芯材31との間に充填された結晶性ガラス体32は、酸化物換算の質量%表示でBi2O360〜80%、SiO25〜20%、Al2O30.5〜8%、B2O30.5〜13%、及びZnO0〜12%を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。
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半導体素子被覆用ガラス
【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、ZnO 52〜65%、B2O3 5〜20%、SiO2 15〜35%およびAl2O3 3〜6%を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ta2O5 0〜5%、MnO2 0〜5%、Nb2O5 0〜5%、CeO2 0〜3%およびSb2O3を含有することが好ましい。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法
【課題】屈折率ndが1.70以上、アッベ数νdが50以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率ndが1.72以上、アッベ数νdが50以上であって、モル%表示にて、B2O3 40〜75%、SiO2 0%を超え15%以下、Li2O 1〜10%、ZnO 0〜15%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 3〜20%、Y2O3 0%以上1%未満、ZrO2 0〜10%、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%、F 0〜5%を含み、Li2OおよびZnOの合計量が5〜15モル%であり、かつモル比(ZnO/Li2O)が0.4以上2.5以下である光学ガラス。
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封着材料層付きガラス基板
【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を4.0〜50.0%、質量比でLa2O3/B2O3が0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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リン酸塩系ガラスおよびリン酸塩系ガラスを用いたサーマルヘッド
【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル%で、P2O5を50〜68%、CeO2を15〜39%、B2O3を2〜7%、Pr6O11を0.2〜0.5%含み、CeO2に対するP2O5のモル比が1≦P2O5/CeO2<4の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはP2O5を50〜65%、CeO2を5〜15%、B2O3を3〜8%、Al2O3を0〜10%、BaOを0〜9%およびPr6O11を含み、CeO2に対するP2O5のモル比が4≦P2O5/CeO2の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。
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Al2O3−希土類酸化物−ZrO2/HfO2材料およびその製造方法ならびに使用方法
【課題】研磨粒子として有用なガラス粒子、ガラスセラミック粒子、セラミック粒子を提供する。
【解決手段】Al2O3と希土類酸化物とZrO2/HfO2を含むセラミック(ガラス、結晶質セラミック、ガラス−セラミックを含む)およびその製造方法に関する。Al2O3と希土類酸化物とZrO2/HfO2を溶融し、ガラスビーズ、ガラス粉末として、熱処理を行いガラスセラミックス粉体として、研磨粒子等に利用が可能である。また該粒子は断熱材、フィラー、または複合材料(セラミック複合材料、金属複合材料、ポリマーマトリクス複合材料など)中の強化材、摩耗を伴う用途での保護コーティング材として利用し得る。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。
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ガラス複合シートの製造方法及びガラス複合シート
【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート2の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末1を得る工程と、混合粉末1をロールプレス成形することによりガラス複合シート2を得る成形工程とを備える。
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