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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を25.0%以上55.0%以下、Ln2O3成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb2O5成分を0%超25.0%以下含有し、ZrO2成分の含有量が10.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。
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ガラスおよび化学強化ガラス
【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を50〜75%、Al2O3を1〜15%、Na2Oを6〜21%、K2Oを0〜15%、MgOを0〜15%、CaOを0〜20%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜21%、ZrO2を0〜5%、Fe2O3を1.5〜6%、Co3O4を0.1〜1%含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
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磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したSiO2濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をTg(℃)としたとき、前記熱処理温度がTg〜Tg+100(℃)の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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生体溶解性無機繊維の製造方法
【課題】安定して繊維径の細い生体溶解性無機繊維を製造できる方法を提供する。
【解決手段】シリカを70重量%以上と、マグネシアとカルシアを合わせて10〜30重量%含む無機原料を、容器の中で加熱して溶融させて、溶融粘度15ポアズ以下の溶融液を製造し、前記溶融液を、70km/s2以上の加速度で回転するロータに供給し、前記ロータの回転による遠心力により、前記溶融液を引き延ばして繊維化し、前記ロータの周囲に空気を吹き付け、前記繊維化した繊維を飛ばし、前記繊維を集めて平均繊維径5μm以下の繊維を製造する、無機繊維の製造方法。
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光学ガラス
【課題】中屈折率(屈折率1.58以上)、低分散(アッベ数47以上)、低屈伏点で、成形時の耐失透性が改善され、且つレアアース含有量を抑制した、精密モールドプレス成形等のモールド成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】B2O3:20.0〜40.0重量%、SiO2:1.0〜10.0重量%、Al2O3:0.1〜8.0重量%、R12O:3.0〜15.0重量%、R2O:10.0〜40.0重量%、ZnO:10.0〜40.0重量%、WO3:1.0〜15.0重量%、Ln2O3:12.0重量%以下含有する光学ガラスである。ただし、R1はLi、Na、Kの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示し、R2はMg、Ca、Sr、Baの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示し、LnはY、La、Gdの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示すものとする。
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圧粉磁心及びその製造方法
【課題】 特に、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能な圧粉磁心及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 軟磁性粉末5及び絶縁性結着材6を有する混合物を圧縮成形し、熱処理して得られる圧粉磁心であって、前記絶縁性結着材6は、バインダー樹脂と、ガラスとを有してなり、前記ガラスのガラス転移温度(Tg)は前記熱処理の温度よりも低いことを特徴とするものである。本発明の圧粉磁心及びその製造方法によれば、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能になる。また、絶縁性結着材にガラスのみならず軟磁性粉末よりも粒径の小さい磁性微粒子を添加することで、初透磁率(初期)を高めることができ、また初透磁率のみならず鉄損の熱安定性を向上させることができる。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La2O3成分を0%より多く15.0%以下、及びNb2O5成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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ガラス基板の製造方法
【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ZrO2含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Zr源として、P2O5含有量が0.4質量%以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。
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光学ガラス、プレス成形予備体および光学部品
【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B2O3、La2O3、Gd2O3およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B2O3 45〜65%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 1〜20%(ただし、La2O3とGd2O3の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb2O3 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。
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光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子
【課題】本発明は、屈折率(nd)1.66〜1.72、アッベ数(νd)29〜34の光学恒数を有し、液相温度(LT)が850℃以下で、B2O3を実質的に含有せず、良好な精密プレス成型を可能にする光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量%で、P2O5:25〜40%、Nb2O5:20〜42%、Na2O:10〜25%、WO3:0〜25%、Li2O:0〜5%、K2O:0〜5%、CaO:0〜5%、ZnO:0〜7%、Al2O3:0〜5%、TiO2:0〜1%、を含有し、B2O3を含有せず、nd:1.66〜1.72、νd:29〜34の光学恒数を有することを特徴とする光学ガラスに関する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く20.0%以下、La2O3成分を0%より多く15.0%以下、及びNb2O5成分を0より多く19.5%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プレス成形予備体および光学部品
【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B2O3、La2O3、Gd2O3およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B2O3 45〜65%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 1〜20%(ただし、La2O3とGd2O3の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb2O3 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。
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ガラス基板の製造方法
【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。
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結晶化ガラス物品及びその製造方法
【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品10は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向けて針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体11と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体12と、を備え、第一焼結体11が、第二焼結体12の一の面の一部に融着一体化されてなる。
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携帯端末用カバーガラス及びその製造方法、並びに携帯端末装置
【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。
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強化板ガラスの製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がC面又はR面の形状を有する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を60.0%以下、及び、Ta2O5成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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ケイ酸塩ガラス用の清澄剤
【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも1種類の無機化合物を含む。1つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも1種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約1シード/cm3未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約1シード/cm3未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。
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