Fターム[4G062EA02]の内容
Fターム[4G062EA02]に分類される特許
161 - 180 / 1,363
カバーガラスの製造方法及びカバーガラス
【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiO2を50〜70質量%、Al2O3を5〜20質量%、Na2Oを6〜30質量%、および、Li2Oを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。
(もっと読む)
強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 3〜15%、Li2O 0〜12%、Na2O 0.3〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。
(もっと読む)
光学ガラス、光学素子およびプリフォーム
【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+およびR2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)を含み、カチオン%表示で、Ca2+の含有率が14.0〜24.0%、R2+の含有率が32.0〜58.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。
(もっと読む)
情報記録媒体用基板の製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO2成分、Al2O3成分、R’2O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。
(もっと読む)
模様付き結晶化ガラス物品
【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。
(もっと読む)
情報記録媒体用基板の製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO2成分、Al2O3成分、R’2O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。
(もっと読む)
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。
(もっと読む)
耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス組成物
【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量%で、SiO2を10〜35、B2O3を1〜20、ZnOを0〜20、R2O(Li2O、Na2O、K2Oから選ばれる一種以上の合計)を2〜20、Bi2O3を40〜80含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。
(もっと読む)
半導体封入用外套管の製造方法及び半導体封入用外套管
【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】106dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、B2O3が15.5モル%以上の組成を有するSiO2−B2O3−R2O系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。
(もっと読む)
光学ガラス
【課題】 ガラス転移点Tgが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散(具体的には屈折率ndが1.48〜1.54、アッベ数νdが59〜67)の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO2 45.5〜70%、B2O3 10〜44%、Al2O3 7.2〜20%、TiO2 0〜7%、Na2O 1〜20%、Li2O 0〜9%、R2O 3〜30%(R2OはNa2O、Li2O及びK2Oの合量)、Sb2O30〜0.1%未満、(B2O3+R2O)/(Al2O3+SiO2)が0.16〜0.80であり、実質的にPbOを含まないことを特徴とする。
(もっと読む)
ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、TiO2結晶、WO3結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(RnはLi、Na及びKから選択される1種以上)、RNb2O6結晶、RTa2O6結晶(RはBe、Mg、Ca、Sr、Ba及びZnから選択される1種以上)、ZnO結晶、ナシコン型結晶、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体から選択される1種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。
(もっと読む)
ガラス状物質
【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をX重量%とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をY重量%とした場合に、(1)Y≦7.0X−34.0、(2)Y≧−3.5X+40.0、(3)8≦X、5≦Yという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰を20重量%〜80重量%含有させる。
(もっと読む)
光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.56以上、アッベ数(νd)が58.0以上、屈伏点(At)が510℃未満で、且つ成形時の耐失透性が良好で、精密モールドプレス成形等のモールド成形及び微細構造の転写に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】P2O5:30.0〜45.0重量%、B2O3:0.1〜5.0重量%、Li2O:0.1〜8.0重量%、Na2O:2.0〜10.0重量%、BaO:15.0〜40.0重量%、ZnO:2.0〜30.0重量%、Y2O3+La2O3+Gd2O3:1.3〜8.0重量%含有する光学ガラスである。
(もっと読む)
高屈折率無鉛・無砒素光学ガラス
【課題】特にPbO、Tl2O、TeO2及びAs2O3を用いない、好ましくは弗素及びGd2O3を用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ndが1.91≦nd≦2.05、アッベ数vdが19≦vd≦25である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成(酸化物に基づく重量%で)、即ちBi2O355−70、GeO213−21、SiO20−9、B2O30−10、Li2O0−5、Na2O0−5、K2O0−5、Cs2O0−6、MgO0−10、CaO0−10、SrO0−10、BaO0−10、ZnO0−10、TiO20−5、La2O30−7、Wo30−6、Nb2O50−6、Σアルカリ金属酸化物0−5、Σアルカリ土類金属酸化物0−10、Σ(La2O3+WO3+Nb2O5+TiO2)0−8、通常の清澄剤0−2を含み、Bi2O3とGeO2の比を5以下とすることを特徴とするガラス。
(もっと読む)
記録媒体用ガラス基板
【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が10〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が1〜9.9質量%であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。
(もっと読む)
フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が40μm以上の欠点を含まず、内部引張り応力が30MPa以上、且つ厚さが1.5mm以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。
(もっと読む)
プレス成形用ガラス素材、および該ガラス素材を用いたガラス光学素子の製造方法、並びにガラス光学素子
【課題】易還元成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う複合表面層とを有するプレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子。芯部は、易還元成分を含有し、Pbを含有しない光学ガラスからなり、複合表面層は、芯部上に被覆される第1の表面層と第1の表面層上に被覆される第2の表面層を含み、前記第1の表面層は、ZrO2、Y2O3、及びSc2O3のいずれか一種以上の金属酸化物からなり、膜厚が1nm以上かつ15nm以下のであり、
前記第2の表面層は、炭素(C)からなり、膜厚が1nm以上かつ15nm以下のである。前記光学素子の製造方法。
(もっと読む)
記録媒体用ガラス基板
【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2およびP2O5の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0.1〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2およびP2O5の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0〜0.1質量%であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。
(もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B2O3成分及びF成分を含有し、アッベ数(νd)をx軸とし、屈折率(nd)をy軸としたxy直交座標において、A(50,1.70)、B(60,1.60)、C(63,1.60)、D(63,1.70)の4点にて囲まれる範囲のアッベ数及び屈折率を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で(θg,F)≧−0.00170×νd+0.6375の関係を満たす。
(もっと読む)
MEMS素子パッケージ
【課題】MEMS素子パッケージの設計の自由度を低下させることなく、レーザ光の照射によりガラスフリットが溶解する際に電極が損傷する事態を防止しつつ、強固な封着強度を確保する。
【解決手段】本発明のMEMS素子パッケージは、MEMS素子が配置された素子基板と、素子基板のMEMS素子側の表面に間隔を置いて対向する封止基板と、MEMS素子の周囲を囲むように素子基板と封止基板との間の隙間を気密封着するガラスフリットを有するMEMS素子パッケージにおいて、素子基板とガラスフリットの間に配置され、且つガラスフリットを封着する際に照射されるレーザ光から電極を保護するための金属酸化物膜を有することを特徴とする。
(もっと読む)
161 - 180 / 1,363
[ Back to top ]