【課題】４５０℃以下の低温域で良好に軟化流動し、且つ耐候性も良好なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスを創案することにより、近年の環境的要請を満たしつつ、電子部品や表示装置の長期信頼性を高めること。
【解決手段】本発明のＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％で、ＳｎＯ ５０〜７０％、Ｐ_２Ｏ_５ １５〜２５％（但し、２５．０％を含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜５％（但し、５．０％を含まない）、ＺｎＯ １〜１５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型１０は、成形面２１１、３１１を有する型母材２１、３１と、成形面２１１、３１１上に設けられた保護膜２３、３３と、を備える成形型１０であって、保護膜２３、３３は、Ｉｒ及びＲｅを、Ｉｒの含量に対するＲｅの含量のモル比が２．５倍以下になる含量で含有し、成形型１０は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】酸化物のモル％表示で、ＳｉＯ_２：２６〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３：４〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３：２０〜５０％、ＺｎＯ：０．１〜４％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの少なくとも１種：２〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの少なくとも１種：１０〜３０％、但し、Ｌｉ_２Ｏ：０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ：０〜２０％、Ｋ_２Ｏ：０〜１７％を含有する無鉛ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．８９以上、アッベ数νｄが２８〜３６であり、組成にＢ，Ｚｎ，Ｌａ，Ｓｉ，Ｇｄ，Ｔｉ，Ｗを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Ｙ，Ｙｂ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｅ，Ｇｅ，Ｂｉ，Ａｌを０〜５％含んでおり、これら成分のカチオン比が、（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．７０〜０．９６、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜２．０、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜４．０、、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が１．５〜５．０、等となる光学ガラスとする。 （もっと読む）

【課題】
厚み０．５〜３００μｍの長尺なガラスフィルムを巻き取ってガラスロールを作製した際に、ガラスロールの内層部に位置するガラスフィルムの破損を抑制すること。
【解決手段】
厚みが０．５〜３００μｍであり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ^３未満のガラスフィルム１０をロール状に巻き取ることによって、ガラスロール１５を作製する。 （もっと読む）

【課題】低膨張のガラス基板上に亀裂や崩れを生じさせることなく高さの高い隔壁を形成することが可能な隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料は、ガラス粉末とフィラー粉末を含む隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であって、質量％で、ガラス粉末が３０〜６０％、フィラー粉末が４０〜７０％からなり、ガラス粉末がＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスからなり、フィラー粉末が球状シリカからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＺｎＯ成分を１０〜７０％含有してもよく、さらにＳｉＯ_２成分、ＧｅＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＰ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分３０〜８０％を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。 （もっと読む）

【課題】高い光反射率を有する光反射基材を容易に製造することができる材料を提供する。
【解決手段】組成として実質的にＣａＯを含まないガラス粉末とＮｂ_２Ｏ_５結晶粉末を含むことを特徴とする光反射基材用材料、当該光反射基材用材料の焼結体からなることを特徴とする光反射基材、およびそれ用いたことを特徴とする発光デバイス。 （もっと読む）

【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５成分、ＳｉＯ_２成分及びＢ_２Ｏ_３成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。 （もっと読む）

【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が３０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が０〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜３０、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜４０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上の合計）が０〜１５、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種以上の合計）が０〜１５で、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が１〜６５、Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏが０〜２０からなる軟化点が５５０℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】焼成後にガラス膜内に発生する気孔を抑制ないしは防止できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量１０万以上の有機高分子及びガラス粉末を含み、前記有機高分子及びガラス粉末の総重量を１００重量％としたときの有機高分子の含有量が０．０５２〜０．２５重量％であることを特徴とするガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Ａに対する鉛直方向の長さＢの比Ｂ／Ａが０．５〜５の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が５００〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】再加熱時失透安定性に優れ、部分分散比を低く抑えた、精密プレス成形性に優れた高屈折率高分散光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子、それらの製造方法、前記光学素子を備えた撮像装置を提供。
【解決手段】光学ガラスは、屈折率ｎｄが１．７５〜１．８６、アッベ数νｄが２４〜３０の酸化物ガラスである。カチオン％表示にて、Ｓｉ⁴⁺を１５〜３５％、Ｂ³⁺を０〜２０％、Ｎｂ⁵⁺を１５〜２５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜９％、Ｚｒ⁴⁺を０〜３％、Ｗ⁶⁺を０．２５〜２．５％、Ｌｉ⁺を０〜１９％、Ｎａ⁺を３〜１９％、Ｋ⁺を０〜１８％、Ｂａ²⁺０〜２％含む。カチオン比（Ｎｂ⁵⁺／（Ｎｂ⁵⁺＋Ｔｉ⁴⁺））が０．７１〜１、Ｈ／は1.15〜2.55Ｌ[H=（２０Ｓｉ⁴⁺＋２Ｎｂ⁵⁺）、Ｌ=（８Ｂ³⁺＋６Ｌｉ⁺＋５Ｎａ⁺＋３Ｋ⁺＋３Ｚｎ²⁺＋７Ｗ⁶⁺）]、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｗ⁶⁺、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺、Ｌｉ⁺の合計含有量が５０％以下、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量２０％〜３０．７８％、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量が０〜３．７９である。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を１〜１５、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを２５〜４３、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を８〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を６〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＳｎＯ_２０．０１〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、ＴｉＯ_２０〜０．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】高品質かつ機械強度の高い薄板状のカバーガラス及び前記カバーガラスを備えるディスプレイを提供する。
【解決手段】組成が、酸化物基準のモル％表示にて、ＳｉＯ₂：６０〜７５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜１２％（ただし、ＳｉＯ₂およびＡｌ₂Ｏ₃の合計含有量が６８％以上）、Ｂ₂Ｏ₃：０〜１０％、Ｌｉ₂ＯおよびＮａ₂Ｏを合計で５〜２６％、Ｋ₂Ｏ：０〜８％（ただし、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計含有量が２６％以下）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯを合計で０〜１８％、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂およびＨｆＯ₂を合計で０〜５％、を含み、さらに、Ｓｎ酸化物およびＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１〜３．５質量％含み、（Ｓｎ酸化物の含有量／（Ｓｎ酸化物の含有量＋Ｃｅ酸化物の含有量））が０．０１〜０．９９であり、Ｓｂ酸化物の含有量が０〜０．１％であり、板厚が１．０ｍｍ以下のガラスを用いる。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、（ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしい清澄剤のみを含むか、環境にやさしい清澄剤を使用することにより製造されるガラスセラミックを提供する。
【解決手段】低い熱膨張性を有する透明なガラスセラミックは、ＳｉＯ2 ３５〜７０％、Ａｌ2Ｏ3 １７〜３５％、Ｌｉ2Ｏ ２〜６％、ＴｉＯ2 ０〜６％、ＺｒＯ2０〜６％、ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2 ０．５〜９％、ＺｎＯ ０．５〜５％を含み、ＳｎＯ2および少なくとも１種のさらなる清澄剤による清澄化により製造され、前記さらなる清澄剤はＳｂ2Ｏ3、ＳＯ42-、Ｂｒ-およびＣｌ-から選ばれる環境にやさしい清澄剤のみを含むか、環境にやさしい清澄剤を使用することにより製造され、有毒なヒ素も含まない。 （もっと読む）