【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるＨＡＭＲに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Ｎａ_２ＳＯ_４を緩衝剤として混合し、Ｈ_２ＳＯ_４とＮａＯＨにてｐＨが１０に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−５０ｍＶより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式ＡｍＢ_２（ＸＯ_４）_３（式中、第一元素ＡはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選択される１種以上とし、第二元素ＢはＺｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ及びＴａからなる群から選択される１種以上とし、第三元素ＸはＳｉ、Ｇｅ、Ｐ、Ｓ、Ｍｏ及びＷからなる群から選択される１種以上とし、係数ｍは０以上３以下とする）で表される。 （もっと読む）

【課題】低分散性の光学ガラスにおいて、ガラス転移温度（Ｔｇ）や屈伏点（Ａｔ）を低下および、耐候性や成形性が向上した光学ガラスを、かかる光学ガラスを素材としたモールドプレス成形用プリフォームおよび光学素子と共に提案することを目的とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５：３８〜５６質量％およびＢ_２Ｏ_３：０〜１０質量％を、（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）：３８〜５６質量％の範囲で含有し、Ｌｉ_２Ｏ：３超〜８質量％、Ｎａ_２Ｏ：０〜３質量％およびＫ_２Ｏ：０〜３質量％を、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）：３超〜８質量％の範囲で含有し、ＭｇＯ：０〜４質量％、ＣａＯ：０〜４質量％、ＳｒＯ：０〜１７質量％およびＢａＯ：２１〜４２質量％を、（ＭｇＯ＋ＣａＯ）：０〜４質量％の範囲でかつ、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）：３５〜５３質量％の範囲で含有し、さらに、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜６質量％、Ｇｄ_２Ｏ_３：０〜５質量％を含有する組成からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、ＴｉＯ_２成分を５〜５０％、ＳｒＯ成分を２〜５０％、ＳｉＯ_２成分を１０〜８５％を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムＳｒＴｉＯ_３結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、表面粗さ（Ｒａ）１０Å以下の未研磨の表面を有し、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望結晶のみをガラス中に選択析出させた結晶化ガラスとその製法を提供する。
【解決手段】遷移金属元素あるいはリチウムを含有するガラスにマイクロ波を照射することによって、鉄、銅等の遷移金属元素あるいはリチウムから構成される所望結晶をガラス中に選択析出させる。結晶化ガラスの少なくとも一部は非晶質であり、結晶化ガラスがバナジウムあるいは、リチウムイオン，ナトリウムイオン，マグネシウムイオンのいずれかを含む。 （もっと読む）

【課題】特に遷移金属であるＮｂ_２Ｏ_５成分を含有し、且つ着色が少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｂ_２Ｏ_５成分を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料Ｓを溶融する溶融槽１１と、この溶融槽１１に連通され且つガラスを清澄する清澄槽１２と、この清澄槽１２に連通され且つガラスを撹拌する撹拌槽１３と、を用い、ガラス原料Ｓを前記溶融槽１１で溶融する工程（溶融工程）、溶融したガラス原料Ｓを前記清澄槽１２で清澄させる工程（清澄工程）、清澄した溶融ガラスＧを前記撹拌槽１３で撹拌する工程（撹拌工程）、撹拌した溶融ガラスＧを流出させる工程（流出工程）、及び流出したガラスを成形する工程（成形工程）を有する。 （もっと読む）

【課題】従来材料に対して、プラズマディスプレイに使用したときに衝撃による欠け落ちが起こりにくい隔壁材料の提供を目的とする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７２％以上、Ｌｉ_２Ｏが５〜１９％であり、Ｋ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）のモル比が１以下であり、室温でのヤング率が８０ＧＰａ以下である隔壁形成用無鉛ガラス。詳細なガラス組成としては、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜５５％、ＳｉＯ_２を１０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１種以上を含み含有量の合計が５〜２０％、ＺｎＯを０〜２０％含有するものである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％、及びＷＯ_３成分を１．０〜２５．０％含有し、Ｌｉ_２Ｏ成分の含量が５．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を２０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％〜４０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を０％〜２０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％〜３０．０％含有し、ＴｅＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）が１．０以上、Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｌａ_２Ｏ_３が０％より多く６０％以下であり、摩耗度が２００以上８００以下、ヌープ硬度が２５０以上６５０以下、粉末法耐水性クラス（RW）が１以上３以下、粉末法耐酸性クラス（RA）が１以上３以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】太陽光に対して高い透過率を示し、熱的な寸法安定性も有しており、集光型太陽電池装置等の部材用途に好適な低温溶融性および熱間成型性に優れたガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量が３０〜６５％であり、Ａｌ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３が０．１８〜０．４５であるガラス。より好ましくは、粘度が１０^２．５ｄＰａ・ｓを示すときの温度が１０００℃以下である。 （もっと読む）

【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２を５〜５０％、ＳｒＯを３〜５０％、及び、ＳｉＯ_２を１５〜８５％を含有し、ＳｒＴｉＯ_３結晶及び／又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが２０以上であり、Ｑ値が１０００より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が３００未満である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、耐ソラリゼーションが良好であり、可視光に対する透明性が高く、部分分散比が小さく、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を３０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０％〜２０．０％以下含有し、ソラリゼーションが５．０％以下であることを有する。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、ＷＯ_３成分及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群から選択される１種以上を合計で７５．０％未満含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難く、８００℃以下の温度で焼成でき、しかも、コストパフォーマンスに優れたビスマス系非鉛ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系非鉛ガラスは、実質的にＰｂＯを含まず、質量百分率で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ２０〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３ ６〜２７％、ＳｉＯ_２ １０〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜７％未満、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３／Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．３３〜０．７３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するＬＴＣＣ基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】２５〜６０質量％のガラス粉末と１５〜５０質量％のアルミナ粉末および１０〜４０質量％の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を０〜５０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜５０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる１種以上を合計で３〜６５質量％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選ばれる１種以上を合計で０〜２０質量％、Ｂｉ_２Ｏ_３を０〜５０質量％含有し、「（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量）の３倍」＋「（ＺｎＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量）の２倍」＋「（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量）の１０倍」の値が２００を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ３５〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ６〜２３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜２５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １５〜４０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ ０〜３０％、を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型１０は、成形面２１１、３１１を有する型母材２１、３１と、成形面２１１、３１１上に設けられた保護膜２３、３３と、を備える成形型１０であって、保護膜２３、３３は、Ｉｒ及びＲｅを、Ｉｒの含量に対するＲｅの含量のモル比が２．５倍以下になる含量で含有し、成形型１０は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】酸化物のモル％表示で、ＳｉＯ_２：２６〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３：４〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３：２０〜５０％、ＺｎＯ：０．１〜４％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの少なくとも１種：２〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの少なくとも１種：１０〜３０％、但し、Ｌｉ_２Ｏ：０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ：０〜２０％、Ｋ_２Ｏ：０〜１７％を含有する無鉛ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．８９以上、アッベ数νｄが２８〜３６であり、組成にＢ，Ｚｎ，Ｌａ，Ｓｉ，Ｇｄ，Ｔｉ，Ｗを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Ｙ，Ｙｂ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｅ，Ｇｅ，Ｂｉ，Ａｌを０〜５％含んでおり、これら成分のカチオン比が、（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．７０〜０．９６、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜２．０、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜４．０、、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が１．５〜５．０、等となる光学ガラスとする。 （もっと読む）