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無鉛無ホウ素瓦用銀色釉薬
【課題】鉛以外の成分を除いた銀色無鉛釉薬の提供。
【解決手段】R12O(R12OはLi2O、Na2OおよびK2Oの1種または2種以上を表す)を0.06モル≧R12O;
CaOを0.05モル≦CaO≦0.34モル;
Al2O3を0.02モル≦Al2O3≦0.27モル;
MnOを0.65モル≦MnO≦0.95モル;および
TiO2を0.11モル≦TiO2の量で含み、ホウ素を含まない銀色無鉛釉薬。
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強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法
【課題】可視域の透過率の低い着色不透明部と有する強化ガラスの圧縮応力量を非破壊で算出することができる、強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法を提供する。
【解決手段】着色不透明ガラス10と透明ガラス20とを積層して一体化し、一体化したガラスの表面に圧縮応力層を形成した強化ガラス1である。加熱し溶融した前記着色不透明ガラス10を固化状態の前記透明ガラス20に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス10を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。透明ガラス10の圧縮応力層の圧縮応力量の測定値は、着色不透明ガラス10又は強化ガラス1の圧縮応力量の算出に用いられる。
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磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が1〜80nmのシリカ粒子を含有し、pHが3.5〜5.5で電気伝導率が7mS/cm以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率ndに整合し、また耐失透性が高く、しかも原料コストの高騰を防止し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、B2O3 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO2+TiO2 0.001〜30%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO2/SrOが0.1〜40であり、且つ屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
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磁気記録媒体用ガラス基板
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より3.5mm以上外周側でかつ外周端面より3.5mm以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が0.5nm未満であることを特徴とする。
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薄膜化合物太陽電池用ガラス基板及びその製造方法
【課題】本発明は、ガラス基板の表面を研磨処理しなくても、表面品位が良好な太陽電池用ガラス基板を得ることにより、太陽電池の品質向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ(Ra)が20Å以下、好ましくは10Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。
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薄膜太陽電池用ガラス板
【課題】歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高品位の光電変換膜を成膜し得るガラス板を創案する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池用ガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜60%、Al2O3 8.0超〜18%、B2O3 0〜15%(但し、15%を含まず)、MgO+CaO+SrO+BaO 1〜40%、Na2O+K2O 1〜30%を含有し、且つ歪点が580℃超であることを特徴とする。
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化学強化ガラス板
【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60%以上、Al2O3を3%以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが0.4〜2.0mm、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σCが400MPa〜1GPa、前記圧縮応力層の深さDCが15〜30μmであることを特徴とする化学強化ガラス板。
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磁性体ペーストおよびそれを用いた電子部品
【課題】高い透磁率を有する基材を得ることができる磁性体ペーストを提供するとともに、このような磁性体ペーストを用いることにより、高性能な電子部品を提供する。
【解決手段】磁性体ペーストは、平均粒径が0.5〜10μmの磁性体焼結粉末、ガラス粉末および有機成分を含む。ここで、磁性体焼結粉末/ガラス粉末の質量比を80/20〜90/10の範囲とする。さらに、ガラス粉末におけるSiO2の割合を70〜90質量%とする。この磁性体ペーストを硬化させて基材12、16、22、26を作製し、基材上に電極パターン14、18、24、28を形成して、基材の積層体10を焼成することにより、高透磁率を利用したインダクタンスを有する電子部品を得ることができる。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+WO3+Nb2O5)が0.1〜30.0%である。
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ガラスペースト、プラズマディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイ用部材
【課題】 ペースト安定性、密着性に優れ、クロストークやノイズを防止し低消費電力のプラズマディスプレイを実現可能な封着層を高精度に形成することができる感光性ガラスペーストを提供する。
【解決手段】 有機溶剤と重合性有機成分および光重合開始剤を含む有機固形分とガラス転移点が380℃〜480℃の範囲内である低融点ガラスを含む無機固形分とを含有し、前記低融点ガラスのB2O3の含有量が20〜50質量%の範囲内であり、SiO2、ZnOおよびAl2O3の含有量の合計が25〜55質量%の範囲内、かつLiO2、Na2O3およびK2Oの含有量の合計が15〜25質量%の範囲内であることを特徴とした感光性ガラスペーストとする。
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Bi系非晶質材料及びそれを用いた超伝導材料の製造方法
【課題】超伝導結晶の臨界温度を高め得る材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】組成として、モル%表記で、Bi2O310〜30%、SrO20〜50%、CaO10〜30%、CuO20〜45%、アルカリ金属酸化物0.1〜10%を含有する超伝導性を有するBi系非晶質材料であることを特徴とする。また、超伝導材料とするための製造方法は、上記のBi系非晶質材料を熱処理することにより、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、分光透過率が70%を示す波長(λ70)が500nm以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜3である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜3%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であることを特徴とする。
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ガラスの製造方法及びガラス
【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスを、より安価に提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を1.0〜30.0%及びLa2O3成分を10.0〜50.0%含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下であり、1.80以上の屈折率(nd)を有し、35以上50以下のアッベ数(νd)を有する。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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