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Fターム[4G062EC02]の内容

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Fターム[4G062EC02]に分類される特許

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【課題】高屈折率であるとともに優れた製造適性を有する光学ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン%表示で、Si4+を0〜30%、B3+を15〜60%、Li+を0〜10%、Na+を0〜10%、K+を0〜15%、Mg2+を0〜20%、Ca2+を0〜15%、Sr2+を0〜20%、Ba2+を0〜20%、Zn2+を13〜40%、La3+を0〜11%、Gd3+を0〜10%、Y3+を0〜6%、Yb3+を0〜6%、Zr4+を0〜5%、Ti4+を0〜10%、Nb5+を2〜20%、Ta5+を0〜5%、W6+を0〜10%、Te4+を0〜5%、Ge4+を0〜5%、Bi3+を0〜5%、Al3+を0〜5%を含む、Pbを含有しない酸化物ガラスであり、屈折率ndが1.750〜1.850、アッベ数νdが29.0〜40.0、かつガラス転移温度が630℃未満であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】低温かつ短時間で化学強化できる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを60〜75%、Alを5〜15%、MgOを1〜12%、CaOを0〜3%、ZrOを0〜3%、LiOを10〜20%、NaOを0〜8%、KOを0〜5%含有し、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計ROが25%以下、LiOの含有量とROの比LiO/ROが0.5〜1.0である化学強化用ガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】Tgが550℃以上となる高温硝材からなる光学素子の外観不良を防止し、光学性能の高いモールドプレスレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】転移点が550℃以上である光学ガラス(第一のガラス)からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率かつ高分散である、(4)可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、(5)プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が1.85以上、アッベ数が30以下、ガラス転移点が450℃以下であり、ガラス組成として、質量%で、Bi 40〜90%、B 0〜30%、TeO 0.1%〜19%を含有し、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnOがそれぞれ1%未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、GeOを実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】相対屈折率の温度係数(dn/dT)が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数(ν)が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量%で、Bi成分を55.0〜95.0%及びB成分を4.0〜35.0%含有し、相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が3.0×10−6(℃−1)以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】SiOを40〜70重量%、Alを0.1〜20重量%、NaOを0〜20重量%、LiOを0〜15重量%、ZrOを0.1〜9重量%含有し、LiOとNaOの合計含有量が3〜20重量%であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。 (もっと読む)


【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量%表示にて、SiO2を2〜37%、B2O3を0〜25%、GeO2を0〜10%、Li2O、Na2O、K2O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55%、TiO2、Nb2O5およびWO3を合計で27〜55%含み、SiO2とB2O3の合計含有量に対するSiO2含有量の質量比(SiO2/(SiO2+B2O3))が0.1〜1の範囲であり、Li2O、Na2O、K2O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi2O含有量の質量比(Li2O/(Li2O+Na2O+K2O+CaO+SrO+BaO)が0〜0.4の範囲であり、TiO2、Nb2O5およびWO3を合計含有量に対するTiO2含有量の質量比(TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3))が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】発光素子搭載基板の抗折強度を低下させずにサーマルビアの凸状高さを低くした発光装置を提供する。
【解決手段】モル百分率表示で、SiOを57〜65%、Bを14〜18%、 CaOを9〜23%、Alを3〜8%、KOおよびNaOの少なくともいずれか一方を合計で3〜6%でかつNaOを2%以上含有し、鉛酸化物を含有しないガラス粉末とセラミックスフィラーとを含有する発光素子搭載基板用ガラスセラミックス組成物。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスをより安価に得ることが可能な、光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜30.0%及びLa成分を10.0〜55.0%含有し、Ta成分の含有量が13.0%未満である。この光学ガラスは、1.75以上の屈折率(n)を有し、30以上50以下のアッベ数(ν)を有することが好ましい。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】溶融性、成形性、耐失透性が高いと共に、複数回の熱処理工程を経ても、ガラス基板間の間隙寸法を均一化し得る封着用ガラスビーズ及びこれを用いた封着材料を創案する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とガラスビーズとを含む封着材料において、ガラスビーズの平均粒子径D50が35〜270μmであり、ガラスビーズが、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜70%、Al 0〜10%、NaO+KO 1〜20%、MgO+CaO 0〜20%、SrO+BaO 3〜30%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量%で、Bi成分を50.0〜80.0%及びB成分を5.0〜30.0%含有し、屈折率(nd)が1.90以上であり、液相温度における粘性が0.25Pa・s以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、屈折率(nd)が1.85以上を有しアッベ数(νd)が25以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。

【解決手段】 必須成分として、P、Bi、Nb、TiOを含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP成分を10.0〜44.0%、Bi成分を0.1〜50.0%、Nb成分を20.0〜60.0%、TiO成分を0.1〜20.0%含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび/またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。 (もっと読む)


【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率(nEL)から前記基板層の屈折率(nsub)を減じた数(Δn)が0.2以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。 (もっと読む)


【課題】 As、Sbを含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLiO−Al−SiO系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度logηが4.0のときのガラス融液の電気抵抗が4.4Ω・cm以上、液相粘度がlogηで4.35以上、且つAs及びSbを実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が80nm以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を25.0%以上55.0%以下、Ln成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb成分を0より多く25.0%以下含有し、ZrO成分の含有量が15.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。 (もっと読む)


【課題】 樹脂と複合化した際に耐熱水性に優れたガラス繊維とさらにこのガラス繊維を用いたガラス繊維強化樹脂材を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のガラス繊維は、質量%で、SiO 45〜65%、Al 7〜18%、B 3〜11%、RO(但し、ROはLiO、NaO及びKOの合量を表す) 0〜0.2%、MgO 0〜5%、CaO 5〜27%、SrO 0〜6%、BaO 0〜2%、の組成を含有し、質量比で、RO/SiOが0.0050以下、B/SiOが0.055〜0.160であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


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