【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がＣ面又はＲ面の形状を有する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を６０．０％以下、及び、Ｔａ_２Ｏ_５成分を２５．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜９００℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を提供する。
【解決手段】モル％で、２０〜３０％のＳｉＯ₂、０〜１５％のＳｒＯ、０〜８％のＫ₂Ｏ、０〜６％のＭｇＯ、２０〜３０％のＣａＯ、０〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、３５〜４５％のＢ₂Ｏ₃の組成を有し、アルカリの総量が１０モル％未満であるガラスフリットを含む封止材料。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ６．５〜３０％、ＺｎＯ ０〜１５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ３６．６〜６５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜１６％、Ｔａ_２Ｏ_５ １〜１８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜８％未満、ＷＯ_３ ０．１〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、屈折率が１．８６以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量を制限することなく、安定した白色度を示すことができる白色結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のガラス小領域１ｂが互いに融着しており、ガラス小領域１ｂ間の界面３から内部に向けて主結晶として針状結晶４が析出している結晶化ガラスにより構成されている白色結晶化ガラス物品であって、白色着色剤２が０．３〜２質量％の範囲で含有されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率特性を達成しやすい、（４）可視光透過率に優れている、（５）モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、（６）耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル％で、ＳｎＯ ４３．５〜９０％、Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２ ０．１〜５６．５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 低温での加熱処理により相分離処理を行い、孔径、空孔率の制御が可能な多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ_２の濃度が５０ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下、Ｂ_２Ｏ_３の濃度が１５ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下、Ｌｉ_２Ｏの濃度が１．０ｗｔ％以上８．０ｗｔ％以下、Ｎａ_２Ｏの濃度が２．０ｗｔ％以上８．０ｗｔ％以下、Ｋ_２Ｏの濃度が０．３ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下であり、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの濃度の合計が３．５ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下であり、Ｋ_２Ｏの濃度がＬｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの濃度の合計に対して０．１０以上０．３０以下の比率である母体ガラスを、３００℃以上５００℃以下の温度、３時間以上５０時間以下で加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、相分離ガラスをエッチングして多孔質ガラスを形成する工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、厚さのばらつきが６μｍ以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来技術では作製することができなかった、両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体を提供することを課題とする。
【解決手段】両面が平滑な表面とするために、従来の製造方法のようにローラーや基板などの成形・加工装置表面にガラスを接触させることなく、非接触でフレーク状ガラス体を作製する。本発明により得られた両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体は、両面の平滑性が高いため、従来のフレーク状ガラス体に比べより高い光輝感が得られる。 （もっと読む）

【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層２が形成された無機材料基板１からなり、この銀導体層２の上に発光素子６が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層２が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層２を覆うように無機材料基板２に焼き付けて形成した厚み５〜２０μｍのオーバーコート層３を有しており、このオーバーコート層３が酸化物基準のモル％表示でＳｉＯ_２を６２〜８４％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５％、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１以上を合計で０〜５％、含有し、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が６２〜８４％、ＭｇＯを０〜１０％、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのいずれか１以上を含有する場合にその含有量の合計が５％以下のホウケイ酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２を７５．５〜８５．５％、ＭｇＯを１〜８％、ＣａＯを０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５％、Ｎａ_２Ｏを１０〜２２．５％を含有し、ＭｇＯの含有量がＣａＯの含有量より多く、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が８％以下、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＮａ_２Ｏの含有量の合計が２４．５％以下、（ＭｇＯ＋ＣａＯ）をＮａ_２Ｏ含有量で除して得られた比が０．４５以下である化学強化用板ガラス。 （もっと読む）

【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量％で
ＳｉＯ_２を１〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を５〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを５〜３５、ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を５〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を０．１〜６、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜６０、を含むことを特徴とする導電性ペースト。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６５〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１５％、Ｎａ_２Ｏを８〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜２％未満、ＭｇＯを３〜１５％、ＺｒＯ_２を０〜１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が８５％以下であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるＲが０．６６以上である化学強化用ガラス。
Ｒ＝０．０２９×ＳｉＯ_２＋０．０２１×Ａｌ_２Ｏ_３＋０．０１６×ＭｇＯ−０．００４×ＣａＯ＋０．０１６×ＺｒＯ_２＋０．０２９×Ｎａ_２Ｏ＋０×Ｋ_２Ｏ−２．００２ （もっと読む）

【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳとＰを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２を合計量で１２〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３を合計量で５５〜８０％、ＺｒＯ_２を２〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜１５％、ＺｎＯを０〜１５％、Ｔａ_２Ｏ_５を０％以上１３％未満含み、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３の合計含有量に対するＴａ_２Ｏ_５含有量の比が０．２３以下、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量に対するＬａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３およびＹｂ_２Ｏ_３の合計含有量の比が２〜４であり、かつ屈折率ｎｄが１．８６以上で、アッベ数νｄが３８以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。 （もっと読む）

【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン％表示にて、
Ｐ⁵⁺を14〜36％、
Ｂｉ³⁺を12〜34％、
Ｎｂ⁵⁺を12〜34％、
Ｔｉ⁴⁺を5〜20％、
Ｗ⁶⁺を0〜22％
含み、
Ｂｉ³⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｔｉ⁴⁺およびＷ⁶⁺の合計含有量が50％以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、且つ、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が１０．０％以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）