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結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板
【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO240%〜60%、Al2O37%〜23%、TiO21〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P2O50%〜7%、B2O30%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO2+Al2O3)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。
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固体酸化物形燃料電池システム及び導電性接合材
【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池(SOFC)システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるSOFCシステム(110)に形成される接合部(120)は、以下の二つの成分:
(a)Ag;および、
(b)クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも1種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス;
が混在して形成されている。
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光学ガラス
【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 10〜48%、B2O3 3〜15%(ただし、15%は含まない)、Al2O3 2〜15%、Li2O 0〜20%、Na2O 0.1〜20%、K2O 0〜15%、CaO 0.1〜25%、SrO 0〜25%、BaO 0.1〜25%(ただし、25%は含まない)、La2O3 0〜4.5%、Nb2O5 0〜4.9%、ZrO2 0〜7%およびTiO2 0〜5%を含有し、かつ、Pb成分、P成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。
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無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル
【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル%表示で実質的に、
モル%表示で実質的に、
SiO2 60〜64%
Al2O3 0〜12%、
B2O3 5〜10%
MgO 1〜18%、
CaO 0〜18%、
SrO 0〜18%、
BaO 0〜2%、
CaO+SrO 12〜25%、
MgO+CaO+SrO+BaO 15.5〜30%
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がlogη=2となる温度T2 が1580℃ 以下である無アルカリガラス基板。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、ZnO 3.1〜25%、ZrO2 0〜5.4%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、Ta2O5 0〜12%、Nb2O5 0.1〜20%、WO3 0〜10%、TiO2 0〜8%およびLi2O 0.1〜5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク
【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
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ガラス組成物
【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
B2O3、TeO2、Al2O3、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有する高屈折率低分散光学ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、SiO2 0.1〜40%、B2O3 10〜50%、ZnO 0.5〜22%、La2O3 5〜50%、Gd2O3 0.1〜25%、Y2O3 0.1〜20%、ZrO2 0〜25%、TiO2 0〜25%、Nb2O5 0〜20%、Ta2O5 0〜7%、WO3 0.1%を超え20%以下、を含み、B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比SiO2/B2O3が1以下であり、屈折率ndが1.86〜1.95、アッベ数νdが(2.36−nd)/0.014以上、38未満、かつガラス転移温度が640℃以上であることを特徴とする光学ガラスである。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率ndに整合し、また耐失透性が高く、しかも原料コストの高騰を防止し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、B2O3 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO2+TiO2 0.001〜30%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO2/SrOが0.1〜40であり、且つ屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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ガラス
【課題】ガラス組成中に鉛を含まなくても、放射線遮蔽性能が高いガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 15〜55%、B2O3 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO2+TiO2 0.001〜30%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO2/SrOが0.1〜40であることを特徴とする。
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無鉛無ホウ素瓦用銀色釉薬
【課題】鉛以外の成分を除いた銀色無鉛釉薬の提供。
【解決手段】R12O(R12OはLi2O、Na2OおよびK2Oの1種または2種以上を表す)を0.06モル≧R12O;
CaOを0.05モル≦CaO≦0.34モル;
Al2O3を0.02モル≦Al2O3≦0.27モル;
MnOを0.65モル≦MnO≦0.95モル;および
TiO2を0.11モル≦TiO2の量で含み、ホウ素を含まない銀色無鉛釉薬。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+WO3+Nb2O5)が0.1〜30.0%である。
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ガラスセラミック複合材料
【課題】内部の気孔を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック複合材料を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 30〜60%、BaO 10〜40%、CaO 0〜30%、MgO 0〜30%を含有し、質量比で、1<SiO2/BaO<3の関係を満たすガラス粉末と、Al成分を含有するセラミック粉末と、を含有するガラスセラミック複合材料であって、熱処理によって、主結晶としてセルジアン結晶を析出することを特徴とするガラスセラミック複合材料。
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リチウムイオン伝導性無機物質
【課題】電池の充放電電圧をより高めることができ、且つ、電池の充放電特性をより高めることが可能なリチウムイオン伝導性無機物質を提供する。
【解決手段】リチウムイオン伝導性無機物質は、酸化物基準の質量%で、ZrO2成分を2.6〜52.0%含有する。このリチウムイオン伝導性無機物質は、正極層及び負極層と、これら正極層及び負極層の間に介在する固体電解質を含んだ固体電解質層と、を備えるリチウムイオン二次電池に用いられることが好ましい。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、分光透過率が70%を示す波長(λ70)が500nm以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜3である。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスを、より安価に提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を1.0〜30.0%及びLa2O3成分を10.0〜50.0%含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下であり、1.80以上の屈折率(nd)を有し、35以上50以下のアッベ数(νd)を有する。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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