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Fターム[4G062FB03]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Ti (5,144) | 1−10 (1,059)

Fターム[4G062FB03]に分類される特許

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【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB23を合計で5〜32%、
La23、Gd23およびY23を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb25を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta25 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
23の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B23)が0.3〜1.0、La23、Gd23およびY23の合計含有量に対するGd23およびY23の合計含有量の質量比(Gd23+Y23)/(La23+Gd23+Y23)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】高屈折率であるとともに優れた製造適性を有する光学ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン%表示で、Si4+を0〜30%、B3+を15〜60%、Li+を0〜10%、Na+を0〜10%、K+を0〜15%、Mg2+を0〜20%、Ca2+を0〜15%、Sr2+を0〜20%、Ba2+を0〜20%、Zn2+を13〜40%、La3+を0〜11%、Gd3+を0〜10%、Y3+を0〜6%、Yb3+を0〜6%、Zr4+を0〜5%、Ti4+を0〜10%、Nb5+を2〜20%、Ta5+を0〜5%、W6+を0〜10%、Te4+を0〜5%、Ge4+を0〜5%、Bi3+を0〜5%、Al3+を0〜5%を含む、Pbを含有しない酸化物ガラスであり、屈折率ndが1.750〜1.850、アッベ数νdが29.0〜40.0、かつガラス転移温度が630℃未満であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】相対屈折率の温度係数(dn/dT)が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数(ν)が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量%で、Bi成分を55.0〜95.0%及びB成分を4.0〜35.0%含有し、相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が3.0×10−6(℃−1)以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】Tgが550℃以上となる高温硝材からなる光学素子の外観不良を防止し、光学性能の高いモールドプレスレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】転移点が550℃以上である光学ガラス(第一のガラス)からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率かつ高分散である、(4)可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、(5)プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が1.85以上、アッベ数が30以下、ガラス転移点が450℃以下であり、ガラス組成として、質量%で、Bi 40〜90%、B 0〜30%、TeO 0.1%〜19%を含有し、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnOがそれぞれ1%未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、GeOを実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】発光素子搭載基板の抗折強度を低下させずにサーマルビアの凸状高さを低くした発光装置を提供する。
【解決手段】モル百分率表示で、SiOを57〜65%、Bを14〜18%、 CaOを9〜23%、Alを3〜8%、KOおよびNaOの少なくともいずれか一方を合計で3〜6%でかつNaOを2%以上含有し、鉛酸化物を含有しないガラス粉末とセラミックスフィラーとを含有する発光素子搭載基板用ガラスセラミックス組成物。 (もっと読む)


【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量%表示にて、SiO2を2〜37%、B2O3を0〜25%、GeO2を0〜10%、Li2O、Na2O、K2O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55%、TiO2、Nb2O5およびWO3を合計で27〜55%含み、SiO2とB2O3の合計含有量に対するSiO2含有量の質量比(SiO2/(SiO2+B2O3))が0.1〜1の範囲であり、Li2O、Na2O、K2O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi2O含有量の質量比(Li2O/(Li2O+Na2O+K2O+CaO+SrO+BaO)が0〜0.4の範囲であり、TiO2、Nb2O5およびWO3を合計含有量に対するTiO2含有量の質量比(TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3))が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスをより安価に得ることが可能な、光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜30.0%及びLa成分を10.0〜55.0%含有し、Ta成分の含有量が13.0%未満である。この光学ガラスは、1.75以上の屈折率(n)を有し、30以上50以下のアッベ数(ν)を有することが好ましい。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。 (もっと読む)


【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量%で、Bi成分を50.0〜80.0%及びB成分を5.0〜30.0%含有し、屈折率(nd)が1.90以上であり、液相温度における粘性が0.25Pa・s以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、屈折率(nd)が1.85以上を有しアッベ数(νd)が25以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。

【解決手段】 必須成分として、P、Bi、Nb、TiOを含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP成分を10.0〜44.0%、Bi成分を0.1〜50.0%、Nb成分を20.0〜60.0%、TiO成分を0.1〜20.0%含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】高いプロトン伝導性又はプロトン・電子混合伝導性を有すると共に、中温域で動作可能であり、しかも緻密な構造を有する伝導性材料を創案する。
【解決手段】本発明の伝導性材料は、組成として、下記成分換算のモル%表示で、SnO2 3.5〜25%、P25 12〜40%、SiO2 10〜50%、B23 1〜40%、Al23+Ga23+In23+Y23(Al23、Ga23、In23、及びY23の合量) 0.1〜10%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 As、Sbを含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLiO−Al−SiO系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度logηが4.0のときのガラス融液の電気抵抗が4.4Ω・cm以上、液相粘度がlogηで4.35以上、且つAs及びSbを実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】EUV光の反射面において、反射面の中心に位置する原点(O)及び複屈折測定点(A)を結ぶ直線と、測定点(A)における複屈折の進相軸とによりなす角度(θ)の平均値が45°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、EUVリソグラフィ用、特にEUVリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を25.0%以上55.0%以下、Ln成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb成分を0より多く25.0%以下含有し、ZrO成分の含有量が15.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。 (もっと読む)


【課題】感光性ガラスペーストパターンの蛇行や剥れが発生させることなく、細幅の隔壁を形成するできる誘電体ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末、エチレン性不飽和基を有する化合物、熱重合開始剤および光重合開始剤を含有することを特徴とする誘電体ペースト。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±10%以内の凹凸パターンを形成することができるTiO2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】15〜35℃における熱膨張係数が±200ppb/℃以内であり、TiO2濃度が4〜9wt%であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ50μmまでの表面近傍領域におけるTiO2濃度分布が、±1wt%以内であることを特徴とするTiO2含有石英ガラス基板。 (もっと読む)


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