【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０４５〜０．０５５であり、内部の残留応力が５ＭＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物（特にＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｇｄ_２Ｏ_３）の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ｎｄに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６０％、ＴｉＯ_２ ０．０００１〜２０％、ＺｒＯ_２ ０〜２０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜５５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３成分及びＦ成分をさらに含有する。この光学ガラスは、１．５７以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、５０以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、（１）ガラス基板を用意する工程と、（２）ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、（３）ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、（４）塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、（５）封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、（６）レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子機器の筐体や装飾品用途に好適な特性、すなわち、泡品質、強度、光の透過特性に優れた、黒色の色調を有する化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５５〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１６％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１２％、Ｎａ_２Ｏを５〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜４％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜３％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜１８％、ＺｒＯ_２を０〜１％、着色成分（Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１成分）を０．１〜７％含有する化学強化用ガラス。 （もっと読む）

【課題】製造中にヒ素化合物およびアンチモン化合物が清澄剤として使用されない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスを提供する。
【解決手段】ヒ素化合物およびアンチモン化合物を使用することなく製造された、酸化チタン含有ホウケイ酸ガラス、更に酸素含有セレン化合物を清澄剤として使用することを含む、環境に優しい精製方法とする。ガラスは、赤外範囲において良好な透過率値を有し、邪魔な変色を示さないことから、ＩＲ光導体、光センサー用カバーガラスおよびＵＶフィルターの製造に特に適している。 （もっと読む）

【課題】Ｔｚｃに対する許容値、ＣＴＥ対温度の傾き、およびＴｚｃの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ２５ｎｍ未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ２００μｍ以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、屈折率（ｎｄ）が１．７５以上１．８５以下を有しており、アッベ数（νｄ）が３０．０以上４５．０以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜５０．０％、質量比でＬａ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３が０．８以下であり、液相温度が１０３０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、４９０℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示で、ＳｎＯ ３０〜８０％、Ｐ_２Ｏ_５ １０〜２５％（但し、２５％は含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＷＯ_３ ０〜２０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓを指す） ０〜２０％含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１％以上およびＺｒＯ_２ ０．１％以上を含有することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分及びＦ成分を含有し、１．７０以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、３９以上５２未満のアッベ数（ν_ｄ）とを有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧（−２．０×１０^−３×ν_ｄ＋０．６４９８）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート２の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末１を得る工程と、混合粉末１をロールプレス成形することによりガラス複合シート２を得る成形工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化（収縮及び屈曲）を受ける傾向と７００℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル％で、ＳｉＯ₂ ７４〜８１、Ｂ₂Ｏ₃ ８．５〜１４．５、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜３．５、Ｎａ₂Ｏ １．５〜３．５、Ｋ₂Ｏ １．０〜２．０、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１．０、ＭｇＯ ０．５〜１．５、ＣａＯ ０．５〜１．５、ＢａＯ ０〜０．６、ＴｉＯ₂ ２．０〜３．５、ＺｒＯ₂ ０〜１．０、及び清澄剤として、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜０．１５、ＣｅＯ₂ ０〜０．５、ＳｎＯ₂ ０〜０．５を含み、かつ０．４＜Ｎａ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）≦０．７２のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板（特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板）を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のＳｉＯ_２の含有量を、ガラス板の表面から深さ１μｍの内部領域に比べて、質量基準で１．０３倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】原料を加熱・溶解する原料処理部材を備えた従来の原料溶解炉と比べて、原料処理管内にて原料をより長時間加熱・溶解することを容易とすること。
【解決手段】原料Ｍを投入する投入口２２および原料Ｍが溶解した溶解物が流出する流出口２４を備え、投入口２２が流出口２４よりも上方に位置するように配置された原料処理部材２０と、原料処理部材２０内を、投入口２２側から流出口２４側へと移動する原料Ｍを加熱する加熱手段と、を少なくとも備え、原料処理部材２０内に、原料処理管２０内を溶解しながら移動する原料Ｍを原料処理部材２０内に一時的に滞留させる滞留部Ｓが設けられたことを特徴とする原料溶解炉。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．１％未満、ＺｎＯ ３．１〜１４．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％およびＷＯ_３ ０〜１０％を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７８以上、アッベ数（ν_ｄ）が３０以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．６２４以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５を含有し、質量％の比率でＮｂ_２Ｏ_５が４０％より多いことを特徴とする光学ガラス。質量％の比率でＫ_２Ｏが２％未満、ＴｉＯ_２／（ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．３２未満、かつＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＺｎＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏの合計含有量が９０％より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）