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バリウム−フリーのX線不透過性ガラス及びその使用
【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するBaO−フリー及びPbO−フリーのX線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きBaO−フリー及びPbO−フリーであるX線不透過性ガラスは、La2O3とZrO2を付加したSiO2−Al2O3−SrO−R2O系であり、酸化物基準の質量%表示で、SiO2 55〜75%、B2O3 0〜9%、Al2O3 0.5〜4%、Li2O 0〜2%、Na2O 0〜7%、K2O 0〜9%、Cs2O 0〜15%、SrO 4〜17%、CaO 0〜11%、MgO 0〜<3%、ZrO2 1〜<11%、La2O3 1〜10%、SnO2 0〜4%、Li2O+Na2O+K2O 0.5〜12%、SrO+Cs2O+La2O3+SnO2+ZrO2 ≧10%を含有し、1.50〜1.58の屈折率nd及び少なくとも300%のアルミニウム等価厚を有する。
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弗燐酸塩光学ガラスの製造方法
【課題】各種光学用レンズ、窓材、プリズムなどの色収差を補正するために用いられる弗燐酸塩光学ガラスの酸化物を低減でき、屈折率の安定した弗燐酸塩光学ガラスを提供する。
【解決手段】AlとFを含有しかつAl2O3等のアルミニウム酸化物の含有率が小さいMg、Ca、Sr、Baのフルオロアルミン酸塩化合物を単一または複数原料として使用し、溶融することで、酸化物含有量が少なく、屈折率の安定した弗燐酸塩光学ガラスを製造する。
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ガラス板、その製造方法及び強化ガラス板
【課題】十分なイオン強化が可能なガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板1は、表層1a,1bにおけるNa2O換算でのNaイオンの含有率と、中央層1cにおけるNa2O換算でのNaイオンの含有率との差が、1.0質量%以下である。
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熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法
【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、およびBaOと、任意にSrOとを含むアルカリを含まないガラスであって、このガラスの組成が、
(a)[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.15:1±0.15:1±0.15、および
(b)1.15≦Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)≦1.55
という関係を満たす。
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ディスプレイ用ガラス基板
【課題】大画面でも液晶ディスプレイの輝度ムラを抑えることが可能な液晶ディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ(nm)、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ(°)とした際、{sin(2θ)}2×{sin(180°・Δ/550)}2で求められる最大値が3.5×10−5以下であることを特徴とする。
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熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法
【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO2 64.0−72.0
Al2O3 9.0−16.0
B2O3 1.0−5.0
MgO+La2O3 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、
ここで、モルパーセントにおけるBaO/SrO比が、2.0以上であり、
700℃以上のひずみ点を有する。
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TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材
【課題】面粗さの小さい基板として適当なTiO2−SiO2ガラスの提供。
【解決手段】TiO2濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO2濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
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HDD用ガラス基板及びその製造方法
【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板およびHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするHDD用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が50〜200μmである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び/又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法を用いる。
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HDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法
【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。
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抗菌性ガラス及び該抗菌性ガラスの製造方法
【課題】本発明は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして利用可能な強度及び視認性を有する抗菌性ガラスを供給することを目的とした。
【解決手段】表層に抗菌物質を有する抗菌性ガラスであって、該抗菌性ガラスは表層において、ガラス表面から深さ30μm以内に銀イオンの拡散層と、ガラス表面から深さ方向に厚み15μm以上の圧縮層とを有し、表面圧縮応力が480MPa以上であり、前記表層において、蛍光X線分析法によって測定されたカリウムのX線強度(K)と銀のX線強度(Ag)との比(Ag/K)が0.0005〜0.5であることを特徴とすることを特徴とする抗菌性ガラス。
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無鉛白色ガラスセラミックス基板
【課題】環境汚染がなく、且つ低融点低抵抗金属と同時焼成可能で基板の反りが少なく、白色性が強い無鉛ガラスセラミックス組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は40〜55重量%のガラス粉末と45〜60重量%の無機フィラーを配合・焼成されてなり、該ガラス粉末のガラス組成が、重量%でSiO2を55〜60%、Al2O3を11〜12%、CaOを16〜18%、ZnOを0〜4%含有しており、且つ実質的にPbO、MgOおよびAs2O3、Sb2O3を含有しないことを特徴とする無鉛白色ガラスセラミックス組成物を提供する。
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電子レンジ用耐熱ガラスおよび電子レンジ用耐熱ガラスの製造方法
【課題】溶融性に優れ、尚且つホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量%で、SiO2 75〜85%、Al2O3 0〜5%、B2O3 10〜20%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜5%の組成を含有し、Li2O+Na2O+K2Oが3〜10%であり、β‐OH値が0.3〜0.9/mmであることを特徴とする。また、本発明の電子レンジ用耐熱ガラスは、(Li2O+Na2O+K2O)/β‐OHの値が4〜20であることが好ましい。
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低軟化点ガラス粉末
【課題】本発明の課題は、鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末であり、軟化点が400℃以下で、熱的に安定で、かつ耐水性に優れた低軟化点ガラス粉末を提供することである。
【解決手段】本発明に係るガラス粉末は、実質的に鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末において、重量%でV2O5を45〜65%、BaOを25〜45%、ZnOを0〜6%、SrOを0〜7%、P2O5を0〜20%含有することを特徴とする。
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無機繊維ブロック
【課題】無機繊維ブロック間に生じる目地開きを抑制できる無機繊維ブロックを提供する。
【解決手段】無機繊維からなるブランケット状物を積層して形成される無機繊維ブロック1において、無機繊維の組成が下記の条件を満たす無機繊維ブロック1。SiO2:66〜82質量%、CaO:10〜34質量%、MgO:3質量%以下、Al2O3:5質量%以下、他の酸化物2質量%未満
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78〜2.2、アッベ数(νd)が16〜40未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%でB2O3を25〜60%、TiO2とNb2O5の合計量を2〜45%、WO3を1〜25%含有し、屈折率ndが1.78〜2.2、アッベ数νdが16〜40未満である光学ガラス。さらに、La2O3を5〜35%、ZnOを1〜40%を含有する。また、ガラス転移点(Tg)が700℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。
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ガラス組成物、並びにこれを用いたポリカーボネート樹脂用ガラスフィラー及びポリカーボネート樹脂組成物
【課題】ポリカーボネート樹脂に配合するガラスフィラーに好適に用いられ得るガラス組成物を提供する。
【解決手段】
質量%で表して、45≦SiO2≦65、0.5≦B2O3<2、5≦Al2O3≦15、5≦CaO≦25、0.1≦MgO≦10、7<TiO2≦12、0≦(Li2O+Na2O+K2O)<2、の成分を含有するガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、1.575〜1.595の屈折率ndと、45〜49のアッベ数νdとを有することができる。
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結晶化ガラス物品
【課題】高い熱的耐久性および機械的強度を有するとともに、表面平滑性にも優れた結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】バルク状の結晶性ガラスを熱処理により結晶化させてなる結晶化ガラス物品であり、Li2O−Al2O3−SiO2系結晶を20〜70質量%を含み、かつ、RO−Al2O3−SiO2系結晶(R=Mg、Ca、Sr、Ba)またはR’2O−Al2O3−SiO2系結晶(R’=Na、K)を1〜75質量%を含むことを特徴とする結晶化ガラス物品。
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高屈折率ガラス
【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物(特にLa2O3、Nb2O5、Gd2O3)の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ndに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 30〜60%、B2O3 0〜15%、Al2O3 0〜15%、Li2O 0〜10%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20〜60%、TiO2 0.0001〜20%、ZrO2 0〜20%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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珪酸塩ガラスの製造方法
【課題】 酸化錫を用いて泡品位に優れた珪酸塩ガラスを製造する方法を提供するものである。
【解決手段】 珪酸塩ガラスを製造するに当たり、清澄剤としてメディアン粒径D50が2〜50μmの範囲にある酸化錫粉末を用いることを特徴とする。珪酸塩ガラスとしては、無アルカリガラスやリチウムアルミノ珪酸塩系結晶化ガラスを例示することができる。
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太陽電池用ガラス基板
【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量%でSiO2 30〜70%、Al2O3 3〜20%、B2O3 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜25%、BaO 0〜25%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、ZrO2 0〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする。
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