【課題】 樹脂と複合化した際に耐熱水性に優れたガラス繊維とさらにこのガラス繊維を用いたガラス繊維強化樹脂材を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のガラス繊維は、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１１％、Ｒ_２Ｏ（但し、Ｒ_２ＯはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量を表す） ０〜０．２％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ５〜２７％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜２％、の組成を含有し、質量比で、Ｒ_２Ｏ／ＳｉＯ_２が０．００５０以下、Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０５５〜０．１６０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにＢａＯを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で表示して、ＳｉＯ₂ ５４〜６２％、Ｂ₂Ｏ₃ ４〜１１％、Ａｌ₂Ｏ₃１５〜２０％、ＭｇＯ ２〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜１３．５％、Ｋ₂Ｏ ０〜１％、ＳｎＯ₂ ０〜１％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜０．２％を含み、ＢａＯを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が１０〜１８．５質量％であり、失透温度が１２００℃以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したＳｉＯ_２濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、前記熱処理温度がＴｇ〜Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定して繊維径の細い生体溶解性無機繊維を製造できる方法を提供する。
【解決手段】シリカを７０重量％以上と、マグネシアとカルシアを合わせて１０〜３０重量％含む無機原料を、容器の中で加熱して溶融させて、溶融粘度１５ポアズ以下の溶融液を製造し、前記溶融液を、７０ｋｍ／ｓ^２以上の加速度で回転するロータに供給し、前記ロータの回転による遠心力により、前記溶融液を引き延ばして繊維化し、前記ロータの周囲に空気を吹き付け、前記繊維化した繊維を飛ばし、前記繊維を集めて平均繊維径５μｍ以下の繊維を製造する、無機繊維の製造方法。 （もっと読む）

【課題】中屈折率（屈折率１．５８以上）、低分散（アッベ数４７以上）、低屈伏点で、成形時の耐失透性が改善され、且つレアアース含有量を抑制した、精密モールドプレス成形等のモールド成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｂ_２Ｏ_３：２０．０〜４０．０重量％、ＳｉＯ_２：１．０〜１０．０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜８．０重量％、Ｒ^１_２Ｏ：３．０〜１５．０重量％、Ｒ^２Ｏ：１０．０〜４０．０重量％、ＺｎＯ：１０．０〜４０．０重量％、ＷＯ_３：１．０〜１５．０重量％、Ｌｎ_２Ｏ_３：１２．０重量％以下含有する光学ガラスである。ただし、Ｒ^１はＬｉ、Ｎａ、Ｋの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示し、Ｒ^２はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示し、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示すものとする。 （もっと読む）

【課題】 特に、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能な圧粉磁心及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 軟磁性粉末５及び絶縁性結着材６を有する混合物を圧縮成形し、熱処理して得られる圧粉磁心であって、前記絶縁性結着材６は、バインダー樹脂と、ガラスとを有してなり、前記ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）は前記熱処理の温度よりも低いことを特徴とするものである。本発明の圧粉磁心及びその製造方法によれば、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能になる。また、絶縁性結着材にガラスのみならず軟磁性粉末よりも粒径の小さい磁性微粒子を添加することで、初透磁率（初期）を高めることができ、また初透磁率のみならず鉄損の熱安定性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１５％、Ｎａ_２Ｏを６〜２１％、Ｋ_２Ｏを０〜１５％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜２０％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜２１％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３を１．５〜６％、Ｃｏ_３Ｏ_４を０．１〜１％含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を２０．０％以上６０．０％以下、ＣａＯ成分を２０．０％より多く５０．０％以下含有し、ＢａＯ成分及びＫ_２Ｏ成分を合計で０％より多く２０．０％以下含有し、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＺｎＯを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３、アッベ数が４５〜５５、ガラス転移温度が６３０℃以下および液相温度における粘度が０．６Ｐａ・ｓ以上である光学ガラス、並びにモル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ４５〜６５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２２％、Ｇｄ₂Ｏ₃ １〜２０％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃の合計含有量が１４〜３０％）、ＺｎＯ ５〜３０％、ＳｉＯ₂ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜６．５％およびＳｂ₂Ｏ₃ ０〜１％を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３およびアッベ数が４５〜５５の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率（ｎ_ｄ）１．６６〜１．７２、アッベ数（ν_ｄ）２９〜３４の光学恒数を有し、液相温度（Ｌ_Ｔ）が８５０℃以下で、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有せず、良好な精密プレス成型を可能にする光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量％で、Ｐ_２Ｏ_５：２５〜４０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：２０〜４２％、Ｎａ_２Ｏ：１０〜２５％、ＷＯ_３：０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ：０〜５％、Ｋ_２Ｏ：０〜５％、ＣａＯ：０〜５％、ＺｎＯ：０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜５％、ＴｉＯ_２：０〜１％、を含有し、Ｂ_２Ｏ_３を含有せず、ｎ_ｄ：１．６６〜１．７２、ν_ｄ：２９〜３４の光学恒数を有することを特徴とする光学ガラスに関する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０％以上６０．０％以下、ＢａＯ成分を０％より多く２０．０％以下、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％より多く１５．０％以下、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く１９．５％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ＺｒＯ_２含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Ｚｒ源として、Ｐ_２Ｏ_５含有量が０．４質量％以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＺｎＯを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３、アッベ数が４５〜５５、ガラス転移温度が６３０℃以下および液相温度における粘度が０．６Ｐａ・ｓ以上である光学ガラス、並びにモル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ４５〜６５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２２％、Ｇｄ₂Ｏ₃ １〜２０％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃の合計含有量が１４〜３０％）、ＺｎＯ ５〜３０％、ＳｉＯ₂ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜６．５％およびＳｂ₂Ｏ₃ ０〜１％を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３およびアッベ数が４５〜５５の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０％以上６０．０％以下、ＢａＯ成分を０％より多く２５．０％以下、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％より多く１５．０％以下、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く２０．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品１０は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向けて針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体１１と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体１２と、を備え、第一焼結体１１が、第二焼結体１２の一の面の一部に融着一体化されてなる。 （もっと読む）

【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Ｃｒ含有量が２ｐｐｍ以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を６０．０％以下、及び、Ｔａ_２Ｏ_５成分を２５．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす１００μｍ以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が１０〜２００μｍのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、（徐冷点＋２００℃）〜（徐冷点＋５０℃）の温度範囲における平均冷却速度を３００〜２５００℃／分の範囲に調節することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）