【課題】低温かつ短時間で化学強化できる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜１５％、ＭｇＯを１〜１２％、ＣａＯを０〜３％、ＺｒＯ_２を０〜３％、Ｌｉ_２Ｏを１０〜２０％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが２５％以下、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５〜１．０である化学強化用ガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高屈折率であるとともに優れた製造適性を有する光学ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺を０〜３０％、Ｂ³⁺を１５〜６０％、Ｌｉ⁺を０〜１０％、Ｎａ⁺を０〜１０％、Ｋ⁺を０〜１５％、Ｍｇ²⁺を０〜２０％、Ｃａ²⁺を０〜１５％、Ｓｒ²⁺を０〜２０％、Ｂａ²⁺を０〜２０％、Ｚｎ²⁺を１３〜４０％、Ｌａ³⁺を０〜１１％、Ｇｄ³⁺を０〜１０％、Ｙ³⁺を０〜６％、Ｙｂ³⁺を０〜６％、Ｚｒ⁴⁺を０〜５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜１０％、Ｎｂ⁵⁺を２〜２０％、Ｔａ⁵⁺を０〜５％、Ｗ⁶⁺を０〜１０％、Ｔｅ⁴⁺を０〜５％、Ｇｅ⁴⁺を０〜５％、Ｂｉ³⁺を０〜５％、Ａｌ³⁺を０〜５％を含む、Ｐｂを含有しない酸化物ガラスであり、屈折率ｎｄが１．７５０〜１．８５０、アッベ数νdが２９．０〜４０．０、かつガラス転移温度が６３０℃未満であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量％表示にて、SiO₂を2〜37％、B₂O₃を0〜25％、GeO₂を0〜10％、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55％、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計で27〜55％含み、SiO₂とB₂O₃の合計含有量に対するSiO₂含有量の質量比（SiO₂／（SiO₂+B₂O₃））が0.1〜1の範囲であり、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi₂O含有量の質量比（Li₂O／（Li₂O+Na₂O+K₂O+CaO+SrO+BaO）が0〜0.4の範囲であり、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計含有量に対するTiO₂含有量の質量比（TiO₂／（TiO₂+Nb₂O₅+WO₃））が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１０％、ＭｇＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜２５％、ＢａＯ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＺｒＯ_２０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする太陽電池用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスをより安価に得ることが可能な、光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１．０〜３０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が１３．０％未満である。この光学ガラスは、１．７５以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、３０以上５０以下のアッベ数（ν_ｄ）を有することが好ましい。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２を４０〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２０重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ_２を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】溶融性、成形性、耐失透性が高いと共に、複数回の熱処理工程を経ても、ガラス基板間の間隙寸法を均一化し得る封着用ガラスビーズ及びこれを用いた封着材料を創案する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とガラスビーズとを含む封着材料において、ガラスビーズの平均粒子径Ｄ_５０が３５〜２７０μｍであり、ガラスビーズが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜３０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【解決手段】ＥＵＶ光の反射面において、反射面の中心に位置する原点（Ｏ）及び複屈折測定点（Ａ）を結ぶ直線と、測定点（Ａ）における複屈折の進相軸とによりなす角度（θ）の平均値が４５°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、ＥＵＶリソグラフィ用、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた伝熱性部材を提供する。
【解決手段】低軟化点を有する非晶質体（Ａ）を含むバインダから少なくとも形成された基材と、前記基材中に含有された熱伝導性粒子（Ｂ）とを有する伝熱性部材。前記バインダは、有機高分子材料を実質的に含まないことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池セル等の電子部品の高性能化と高信頼化を達成できるアルミニウム電極用導電性ペースト及びそれに含有するガラス組成物、並びにそれらにより性能と信頼性が向上した電子部品を提供する。
【解決手段】アルミニウム電極５にＶ−Ｐ−Ｂ−Ｏ系低融点ガラスを含有することによって、シリコン基板１へのアルミニウム拡散量を増加でき、一方酸素拡散量を減少できるため、電子部品を高性能化できる。また、このガラスとアルミニウムが良好なぬれ性、反応性を有するため、電極５の信頼性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、ＳｉＯ₂：５０〜７０モル％、Ａｌ₂Ｏ₃：３〜２０モル％、Ｎａ₂Ｏ：５〜２５モル％、Ｌｉ₂Ｏ：０モル％より多く、２．５モル％以下、Ｋ₂Ｏ：０〜５．５モル％及びＢ₂Ｏ₃：０〜３モル％未満が含有されてなるカバーガラス及び（１）ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、（２）得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、（３）得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０％超２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸（表面粗さやうねりや平坦度）及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０．００１〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０．０１〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０．００２〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．０％以下，を含む。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇであって、溶融したガラスＬＧの塊を落下させる落下工程と、ゴブＧＧの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面でゴブＧＧを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、を有し、一対の型１２１，１２２の少なくとも一方は、ゴブＧＧの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１５．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）