【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】４００℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％表示で、２９％〜３３％のＰ_２Ｏ_５、４３％〜５８％のＳｎＯ、１１％〜２５％のＺｎＯ、０．１％〜２％のＧａ_２Ｏ_３、０．５％〜５％のＣａＯ、ならびに０〜１％のＳｒＯを含み、酸化物基準のｍｏｌ％表示で、ＺｎＯ、Ｇａ_２Ｏ_３、およびＣａＯの総和Ｘが１３％〜２７％の範囲である、ガラス。 （もっと読む）

【課題】カレットとしてＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０．１〜１０％、ＭｇＯ ０．１〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．００１〜５％を含有し、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＺｒＯ_２）が０．３〜１．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を２回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が５質量％以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％表示で、ガラス組成として、ＳｉＯ₂ １０〜３５％、ＰｂＯ ５５〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％を含有し、且つ厚さ１０ｍｍについての波長４００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上である放射線遮蔽ガラス。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも１種の結晶を含み、厚さが６ｍｍ超１８ｍｍ以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Ａと、前記結晶化ガラス層Ａの片面および側面から選択される少なくとも１つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Ｂと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ２０〜６５％、ＣａＯ ３〜２５％、ＭｇＯ ７〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＢａＯ ５〜４０％を含有し、かつ質量比で、１≦ＳｉＯ_２／ＢａＯ≦４の関係を満たすことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】１０^６ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度が６５０℃以下であり、Ｂ_２Ｏ_３が１５．５モル％以上の組成を有するＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をｐＨ３〜６の酸性溶液又はｐＨ８〜１２のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．５６以上、アッベ数（ν_ｄ）が５８．０以上、屈伏点（Ａｔ）が５１０℃未満で、且つ成形時の耐失透性が良好で、精密モールドプレス成形等のモールド成形及び微細構造の転写に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５：３０．０〜４５．０重量％、Ｂ_２Ｏ_３：０．１〜５．０重量％、Ｌｉ_２Ｏ：０．１〜８．０重量％、Ｎａ_２Ｏ：２．０〜１０．０重量％、ＢａＯ：１５．０〜４０．０重量％、ＺｎＯ：２．０〜３０．０重量％、Ｙ_２Ｏ_３＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３：１．３〜８．０重量％含有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をＸ重量％とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をＹ重量％とした場合に、（１）Ｙ≦7.0Ｘ−34.0、（２）Ｙ≧−3.5Ｘ＋40.0、（３）8≦Ｘ、5≦Ｙという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰を20重量％〜80重量％含有させる。 （もっと読む）

【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを１９重量％以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして１９重量％〜５０重量％の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α（室温〜３００℃）が、（１０３±７）×１０^−７／℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに０．６をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２４５〜６０％；Ｎａ_２Ｏ１１．５〜１２．５％；Ｂ_２Ｏ_３１．２〜１．５％；Ｋ_２Ｏ５．５〜８．０％；ＣａＯ５．０〜８．５％；Ａｌ_２Ｏ_３２．０〜３．０％；Ｓｂ_２Ｏ_３０．２〜０．４％；ＺｎＯ２．０〜３．０％；ＢａＯ２．０〜３．０％；Ｆ_２０．０５〜０．１５％；Ｌｉ_２Ｏ０．２〜０．４；Ｍｇ０．２〜０．４；Ｆｅ_２Ｏ_３０．４〜０．８；ＴｉＯ_２０．２〜０．５；を含む前記褐色ガラスも提供される。 （もっと読む）

【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に３体積％以上、水素の場合には２体積％以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも３０ＭＰａであるとする方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１０〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１〜９．９質量％であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が４０μｍ以上の欠点を含まず、内部引張り応力が３０ＭＰａ以上、且つ厚さが１．５ｍｍ以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】
硼素をベースにしたガスの放出を起こさず、粒子および／またはオイルを保持し且つ湿った環境に耐え、折り目強さを著しく失うことなく長期間に亙って増加した耐湿性を有するガラス繊維の不織布ウエッブ、例えば複合体を提供する。
【解決手段】
本発明によれば実質的に硼素を含まないガラスウールと補強材料として使用される実質的に硼素を含まない切断ガラス繊維から成る不織布ガラス複合体が提供される。本発明の不織布ガラス複合体は空気濾過装置に適しており、クリーンルームから硼素を除去することが重要な半導体工業において使用することができる。 （もっと読む）

【課題】易還元成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う複合表面層とを有するプレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子。芯部は、易還元成分を含有し、Ｐｂを含有しない光学ガラスからなり、複合表面層は、芯部上に被覆される第１の表面層と第１の表面層上に被覆される第２の表面層を含み、前記第１の表面層は、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、及びＳｃ₂Ｏ₃のいずれか一種以上の金属酸化物からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のであり、
前記第２の表面層は、炭素（Ｃ）からなり、膜厚が１ｎｍ以上かつ１５ｎｍ以下のである。前記光学素子の製造方法。 （もっと読む）