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ガラス組成物、それを含むガラスフリット、それを含むガラスペースト、およびそれを利用した電気電子部品
【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78以上、アッベ数(νd)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO2、Nb2O5を含有し、質量%の比率でNb2O5が40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でK2Oが2%未満、TiO2/(ZrO2+Nb2O5)が0.32未満、かつSiO2、B2O3、TiO2、ZrO2、Nb2O5、WO3、ZnO、SrO、Li2O、Na2Oの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。
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電極形成用ガラス及び電極形成材料
【課題】本発明は、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやAlの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi2O3 1〜30%、B2O3 10〜66%、CaO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、ZnO 3.1〜25%、ZrO2 0〜5.4%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、Ta2O5 0〜12%、Nb2O5 0.1〜20%、WO3 0〜10%、TiO2 0〜8%およびLi2O 0.1〜5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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耐水性および化学耐久性に優れたバナジン酸塩−タングステン酸塩ガラス
【課題】導電性と耐水性および化学耐久性とを併せ持つバナジン酸塩−タングステン酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】本発明により提供されるバナジン酸塩−タングステン酸塩ガラスは、酸化バリウム、酸化鉄、酸化タングステンおよび酸化バナジウムを、x:y:z:(100−x−y−z)のモル比で含有する混合酸化物を溶融および急冷固化して得られ、x、yおよびzは、それぞれ、1≦x≦30、1≦y≦20、1≦z≦60を満たす数である。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有する高屈折率低分散光学ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、SiO2 0.1〜40%、B2O3 10〜50%、ZnO 0.5〜22%、La2O3 5〜50%、Gd2O3 0.1〜25%、Y2O3 0.1〜20%、ZrO2 0〜25%、TiO2 0〜25%、Nb2O5 0〜20%、Ta2O5 0〜7%、WO3 0.1%を超え20%以下、を含み、B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比SiO2/B2O3が1以下であり、屈折率ndが1.86〜1.95、アッベ数νdが(2.36−nd)/0.014以上、38未満、かつガラス転移温度が640℃以上であることを特徴とする光学ガラスである。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク
【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
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ガラス組成物
【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
B2O3、TeO2、Al2O3、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
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封着材料ペースト及びこれを用いた封着材料層付きガラス基板
【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機EL素子パッケージを備える有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がSnO含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末/ビークルの値が0.45〜1.65であることを特徴とする。
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強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法
【課題】可視域の透過率の低い着色不透明部と有する強化ガラスの圧縮応力量を非破壊で算出することができる、強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法を提供する。
【解決手段】着色不透明ガラス10と透明ガラス20とを積層して一体化し、一体化したガラスの表面に圧縮応力層を形成した強化ガラス1である。加熱し溶融した前記着色不透明ガラス10を固化状態の前記透明ガラス20に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス10を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。透明ガラス10の圧縮応力層の圧縮応力量の測定値は、着色不透明ガラス10又は強化ガラス1の圧縮応力量の算出に用いられる。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
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ケイ酸リチウムガラスセラミック
【課題】コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ZnOを必要とせずに達成される材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウム材料であって、機械加工によって、その器具が過度に磨耗することなく歯科用製品へと容易に加工可能であり、その後、高い強度を示すケイ酸リチウム製品へと変換され得る、ケイ酸リチウム材料。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+WO3+Nb2O5)が0.1〜30.0%である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、分光透過率が70%を示す波長(λ70)が500nm以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜3である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスを、より安価に提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を1.0〜30.0%及びLa2O3成分を10.0〜50.0%含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下であり、1.80以上の屈折率(nd)を有し、35以上50以下のアッベ数(νd)を有する。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率かつ高分散である、(4)可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、(5)プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が1.85以上、アッベ数が30以下、ガラス転移点が450℃以下であり、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 40〜90%、B2O3 0〜30%、TeO2 0.1%〜19%を含有し、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnOがそれぞれ1%未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、GeO2を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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