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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】屈折率が1.70以上、アッベ数が50以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率が1.70以上、アッベ数が50以上であって、モル%表示にてB2O3を20〜80%、SiO2を0〜30%、Li2Oを1〜25%、ZnOを0〜20%、La2O3を4〜30%、Gd2O3を1〜25%、Y2O3を0〜20%、ZrO2を0〜5%、MgOを0〜25%、CaOを0〜15%、SrOを0〜10%含むとともに、前記成分の合計量が97%以上、モル比[ZnO/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)]が0.8以下、かつモル比[(CaO+SrO+BaO)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)]が0.8以下であり、任意成分としてTa2O5を含むことができ、かつモル比[(ZrO2+Ta2O5)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)]が0.4以下である光学ガラス。
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ガラス粉末およびその製法
【課題】微粒且つ球状化した複数の元素を含むガラス粉末およびその製法を提供する
【解決手段】Siのアルコキシ化合物、B2O3およびBaアルコキシ化合物を含むアルコール溶液を調製する工程と、前記アルコール溶液にアンモニア水を添加して反応溶液を調製して、該反応溶液中に前記Si、BおよびBaを含むガラス粉末を調製する工程と、該反応溶液を遠心分離して前記ガラス粉末を分離する工程と、遠心分離された前記ガラス粉末を乾燥する工程とを経て得られ、Si、BおよびBaの酸化物からなり、粒度分布における累積個数50%における粒径D50が30nm以上200nm以下、最長径をL、最短径をSとしたときに、L/Sが1以上1.5以下である。
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独立ガラスフィルムの製造方法
【課題】クラックがない独立ガラスフィルムを長時間の乾燥を必要とせずに製造する方法を提供する。
【解決手段】コロイダルシリカゾルと、アルカノールアミン類有機添加剤と、バインダーとを含む混合液を得る工程と、前記混合液を基材上に塗布する工程と、塗布された前記混合液を乾燥し、前記基材上に前駆体フィルムを形成する工程と、前記前駆体フィルムを前記基材から剥離する工程と、剥離された前記前駆体フィルムを焼成して、独立ガラスフィルムを形成する工程と、を含む、独立ガラスフィルムの製造方法。
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電子放出源形成用組成物、該組成物を用いて形成した電子源、及び該電子源を用いた電界放射型ディスプレイ
【課題】被膜の密着力が強く,電界の印加で容易にカーボンナノチューブが剥れず,しかも酸化雰囲気中の熱処理温度でカーボンナノチューブが焼失しない電子放出源形成用組成物を実現する。
【解決手段】カーボンナノチューブと,ガラスフリットと,硼素と有機樹脂および有機溶剤とからなる電子放出源形成用組成物において,前記ガラスフリットを、鉛を主要成分として含まず,かつその軟化点が500℃以下の物性を示すガラス組成物とする。
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ガラスセラミック独立フィルム及びその製造方法
【課題】微結晶ジルコニアを含有する、クラックがないガラスセラミック独立フィルム、及び該ガラスセラミック独立フィルムを長時間の乾燥を必要とせずに製造する方法を提供する。
【解決手段】SiO2母材ガラスと、前記母材ガラス中に分散された微結晶ZrO2粒子とを含む、ガラスセラミック独立フィルム。さらに、
pH4以下に調整したコロイダルシリカゾルと、ジルコニウム含有化合物と、バインダーとを混合して、混合液を製造する工程と、前記混合液を基材上に塗布する工程と、塗布された基材上の混合液を乾燥し、該基材上に前駆体フィルムを形成させる工程と、前記前駆体フィルムを前記基材から剥離する工程と、剥離された前記前駆体フィルムを焼成する工程とを含む、ガラスセラミック独立フィルムの製造方法。
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ガラス繊維織物のヒートクリーニング方法
【課題】ガラス繊維からなるガラス繊維織物において、効率的なヒートクリーニング方法を提供する。
【解決手段】特定の金属酸化物で構成された低誘電率ガラス組成(但しCaOを5重量%以下に含有)のガラス繊維を用いた織物を、550〜700℃の雰囲気温度の加熱炉に通して連続的に加熱処理してヒートクリーニングする。この加熱処理に先立ち、350〜550℃の加熱炉に連続的に通して予備ヒートクリーニングしたり、過酸化水素水などの酸化剤水溶液に接触させれば、より好ましい。
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ガラス粉末およびその製法
【課題】微粒且つ球状化した複数の元素を含むガラス粉末およびその製法を提供する
【解決手段】Siのアルコキシ化合物およびB2O3を含むアルコール溶液とCa塩を含む水溶液との混合溶液を調製する工程と、該混合溶液にアンモニア水を添加して反応溶液を調製して該反応溶液中に前記Si、前記Bおよび前記Caを含有するガラス粉末を調製する工程と、該反応溶液を遠心分離して前記ガラス粉末を分離する工程と、遠心分離された前記ガラス粉末を乾燥する工程とを経て得られ、Si、BおよびCaの酸化物からなり、粒度分布における累積個数50%における粒径D50が20nm以上200nm以下、最長径をL、最短径をSとしたときに、L/Sが1以上1.5以下である。
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不透明な、着色したボトムコーティングを全表面または表面の一部に有する、透明なガラスセラミックプレート
【課題】透明なガラスセラミックプレートと、不透明着色されたガラスセラミック調理プレートを提供する。
【解決手段】主結晶相が高石英混合結晶であり、酸化物換算の組成が質量で示して、40〜4000ppmのNd2O3、Li2O 3.0−4.5(%、以下同じ)、Na2O 0−1.5、K2O 0−1.5、ΣNa2O+K2O 0.2−2.0、MgO 0−2.0、CaO 0−1.5、SrO 0−1.5、BaO 0−2.5、ZnO 0−2.5、B2O3 0−1.0、Al2O3 19−25、SiO2 55−69、TiO2 1−3、ZrO2 1−2.5、SnO2 0−0.4、ΣSnO2+TiO2 <3、P2O5 0−3.0、Nd2O3 0.01−0.4、及びCoO 0−0.004とする。さらに必要に応じて、プレートの一面の全表面または表面の一部に、不透明で温度安定な着色コーティングを施して調理プレートとする。
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高硬度ガラス組成物
【課題】低融点化に効果があるとされるPbOやBi2O3を含まなくても、高硬度であ
りながら、ガラス転移点が相対的に低いため製造の容易な、高硬度酸化物ガラスガラス組
成物を提供すること。
【解決手段】B2O3、遷移金属酸化物、希土類酸化物からなる成分組成を有し、ビッカ
ース硬度Hvが600kg/mm2以上であり、ガラス転移温度Tgが700℃以下であ
ることを特徴とする高硬度ガラス組成物。成分組成は、重量比で、B2O3を20wt%
〜50%、遷移金属酸化物を4wt%〜45wt%、希土類酸化物を20wt%〜60w
t%が好ましい。
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基板用ガラスセラミックス組成物
【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、EL背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%表示でSiO2を10〜20質量%、Al2O3を1〜5質量%、B2O3を10〜30質量%、ROを50〜70質量%(但しROはZnO、CaO、MgO、およびBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種)、およびRBO2を0.5〜3質量%、(但しRBO2はCeO2、SnO2、TiO2、およびZrO2からなる群から選ばれる少なくとも1種)を含有するガラス組成物71〜95質量%と無機充填材5〜29質量%の混合物を850〜950℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しEL背面基板、PDP背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。
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プラズマディスプレイパネル
【課題】高品質の画面を実現することができるプラズマディスプレイパネル。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルを提供する。このプラズマディスプレイパネルのガラス材質の前面基板または第2誘電層の少なくとも1つの部材は、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、セレニウム(Se)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、及びスカンジウム(Sc)からなる群より選択された1つ以上の遷移金属を含む遷移金属酸化物と、プラセオジミウム(Pr)、ネオジミウム(Nd)、サマリウム(Sm)、ティプロシウム(Dy)、及びホルミウム(Ho)からなる群より選択された1つ以上の稀土類元素を含む稀土類元素酸化物と、を含む。
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アルミノケイ酸塩ガラスを用いたガラスパネル
【課題】 オーバーフローダウンドロー工程以外の方法により製造できる、フラットパネルディスプレーデバイス用のパネルに使用するガラスを提供する。
【解決手段】 アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、酸化物基準の重量パーセントで計算して、49%−58%のSiO2、17.5%−23%のAl2O3、0%−14.5%のB2O3、0%−8%のMgO、0%−9%のCaO、0.4%−13.5%のSrO、および0%−21%のBaOから実質的になり、MgO+CaO+SrO+BaOの合計が13%−28%である組成範囲内の組成を有し、かつ、640℃より高い歪点、32−40×10-7/℃の範囲にある線熱膨張係数、および95℃で5重量%の塩酸水溶液中に24時間に亘り浸漬した後の20mg/cm2未満の重量損失を有するアルミノケイ酸塩ガラスからなり、フロート工程を用いて延伸されている。
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炭素繊維−シリカ複合体およびその製造方法
【課題】シリカのマトリックス中に比較的多くの炭素繊維を均一に分散した炭素繊維−シリカ複合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】炭素繊維とシリカとを含む炭素繊維−シリカ複合体の製造方法であって、少なくともアルコキシシラン、水および酸を含むゾル溶液に、炭素繊維を分散させ、かつ当該ゾル溶液を半ゲル化させる分散・半ゲル化工程(ステップS101、ステップS102)と、分散・半ゲル化工程(ステップS101、ステップS102)にて得られた混合物のゲル化を促進させるゲル化工程(ステップS103)と、ゲル化工程(ステップS103)により得られたゲルを加熱する加熱工程(ステップS104)とを含む。
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短時間のグレージングを伴うアルミノケイ酸リチウムガラス
【課題】視覚的に無秩序な光散乱(濁度)または固有色のないアルミノケイ酸リチウムガラスを提供する。
【解決手段】含量が0〜0.4のSnO2、1.3〜2.7重量%のΣSnO2+TiO2、1.3〜2.5重量%のZrO2、3.65〜4.3重量%のΣZrO2+0.87(TiO2+SnO2)、0.04重量%以下のFe2O3、50〜4000ppmのNd2O3、及び0〜50ppmのCoOのアルミノケイ酸リチウムガラスまたは対応するガラスセラミックが開示される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは中間色であり、濁度が1%未満のヘイズ及び高い光透過を有する。前記ガラスのガラスセラミックへの変換に要するグレージング時間は2.5時間未満と特に短い。
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光学検出可能な、フロート可能な、ヒ素およびアンチモンを含まないグレイザブルなリチウム−アルミノケイ酸ガラス
【課題】光学的処理によって検出可能であり、着色が低減されうるガラスセラミックまたはその前駆体ガラスを提供する。
【解決手段】光学検出可能な、フロート可能な、ヒ素およびアンチモンを含まないグレイザブルな、プレストレス可能であるリチウム−アルミノケイ酸ガラス、およびそれを変換したガラスセラミックが記載される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは、実質的に以下の組成(酸化物を基準とする重量%):SiO2 55〜69、Al2O3 19〜25、Li2O 3.2〜5、Na2O 0〜1.5、K2O 0〜1.5、MgO 0〜2.2、CaO 0〜2.0、SrO 0〜2.0、BaO 0〜2.5、ZnO 0〜<1.5、TiO2 1〜3、ZrO2 1〜2.5、SnO2 0.1〜<1、ΣTiO2+ZrO2+SnO2 2.5〜5、P2O5 0〜3、Nd2O3 0.01〜0.6、CoO 0〜0.005、F 0〜1、B2O3 0〜2を有する。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法
【課題】精密プレス成形によって高屈折率低分散ガラスからなる光学素子を高い生産性のもとに製造するための手段を提供すること。
【解決手段】屈折率(nd)が1.65以上かつアッベ数(νd)が50以上である精密プレス成形に使用される光学ガラス。ガラス転移温度(Tg)から屈伏点(Ts)までの温度域において、温度差ΔT(但し、ΔTは1℃以下の一定値とする)に対するガラスの伸び量の差分が極大値を示す温度をT1とし、T1−5℃からT1+5℃の範囲における平均線膨張係数をα1、ガラス転移温度(Tg)−160℃からガラス転移温度(Tg)−140℃に至る範囲における平均線膨張係数をα2としたとき、比率(α1/α2)が17未満である。
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光学ガラス、光学素子およびその製造方法
【課題】熔融性、熔融状態からガラスを成形する際の失透安定性、低着色性、加熱軟化して成形する際の失透安定性を同時に満足し得る高屈折率中分散特性を有する光学ガラスおよび前記ガラスからなる光学素子とその製造方法を提供すること。
【解決手段】質量%表示で、SiO2を2〜22%、B2O3を3〜24%、ZnOを8%超30%以下、CaO+BaO+ZnOを10〜50%、MgOを0〜3%、La2O3+Y2O3+Gd2O3+Yb2O3を1〜33%、TiO2を2〜20%、ZrO2を0〜10%、Nb2O5を2〜32%、Li2Oを0〜5%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜10%、WO3 を0〜20%含み、かつ質量基準で、La2O3、Y2O3、Gd2O3およびYb2O3の合計含有量に対するLa2O3含有量の割合が0.7〜1の範囲であることを特徴とする光学ガラス。
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紫外線吸収反射鏡基板及びこれを用いた反射鏡
【課題】優れた紫外線吸収特性を有する反射鏡基板及び反射鏡を提供すること。【解決手段】優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を有するアルミノシリケートガラスに、Ti及びCeを含有させることで、紫外線吸収特性を有する反射鏡を得る。例えば、本発明に係る反射鏡基板は、アルミノシリケートガラスにおいて、TiをTiO2に、CeをCeO2に換算したとき、それぞれの含有率が
TiO2重量%≧−7×CeO2重量%+3.5
ただし、TiO2重量%≧0、CeO2重量%≧0
なる範囲で表すことができる。
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硬質フリント等級の無鉛光学ガラス
【課題】撮像、センサ、顕微鏡、医療機器、デジタル保護機器、フォトリソグラフィー、レーザ機器、ウェハー/チップ製造装置、遠距離通信、光通信技術、自動車光学・照明機器等の用途分野に有用であり、かつ1.80≦nd≦1.95の屈折率及び19≦νd≦28のアッベ数、及び優れた化学的安定性及び結晶化安定性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物を基準とする重量%で、P2O5 14 − 35%、Nb2O5 45 − 50%、Li2O 0 − 4%、Na2O 0 − 4%、K2O 0.5 − 5%、BaO 17 − 23%、ZnO 0.1 − 5%、TiO2 1 − <5%、ZrO2 0 − 6%、Sb2O3 ≧0.1 − 2%からなる光学ガラスである。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
【課題】非鉛ガラスにおいて、600℃以下の温度で焼成することができ、ガラス基板に適合する熱膨張係数と優れた耐酸性を有する誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ZnO−B2O3−SiO2系ガラス粉末を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体材料において、該ガラス粉末が、実質的にPbOを含有せず、TiO2を含有するガラスからなることを特徴とする。
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