【課題】生産性を低下させずに、かつ光学性能を劣化させずに、光学歪の発生と屈折率低下を抑止することができる、ガラス光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】所定形状に予備成形したガラス素材を加熱により軟化し、成形型を用いてプレス成形してガラス光学素子を得るプレス成形工程を含むガラス光学素子の製造方法。前記ガラス素材は、光弾性定数Bが2.00×10^-12／Pa未満の光学ガラスからなり、かつ、上記製造方法において得られる光学素子の屈折率nd(L)は、該光学素子を精密アニールに供して得られた光学素子の屈折率nd（S）に比べ、30×10^-5以上低い。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとし、かつその透明性を高くし、銀発色を抑制する。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ １３〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜２０％、ＺｎＯ ０〜３０％、ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１２％、から本質的になり、ＰｂＯおよびＡｌ_２Ｏ_３のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】耐熱性ガラスをカレット原料として用いた場合に安定な操業を可能とするガラス短繊維の製造方法の提供。
【解決手段】 軟化点が７５０℃以上であるガラスを原料として、そのガラスを粉砕して目開き３１．５ｍｍのふるいを通過したカレットを原料の１重量％以上使用するガラス短繊維の製造方法とする。カレット原料としては、重量％で、ＳｉＯ₂を５０％以上８５％以下、Ａｌ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｎａ₂Ｏを１０％以下、Ｋ₂Ｏを１５％以下、ＣａＯを１５％以下、ＭｇＯを１０％以下、ＳｒＯを１５％以下、ＢａＯを１５％以下及びＺｒＯ₂を１０％以下含むガラス組成物を用いればよい。 （もっと読む）

【課題】 清澄剤として、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を使用しないガラス物品の製造方法を提供する。さらに、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラスを提供する。
【解決手段】 溶融法によるガラス物品の製造方法であって、清澄剤として、実質的に酸化セリウムのみを用いることを特徴とするガラス物品の製造方法である。さらに、前記ガラスが、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラス組成である。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
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【課題】鉛成分を含有することなく、各種の法規制に対応することが可能であり、さらに厚盛した際に剥離などの不具合が発生することのない耐久性に優れた陶磁器用絵具を提供することを課題とする。
【解決手段】陶磁器用絵具は、各酸化物成分を計量し、混合する計量混合工程と、混合された原料混合物を１３００℃の溶融温度で溶融させる溶融工程と、炉内で溶融された溶融ガラスを急冷する急冷工程と、冷却されたガラスフリットを粉砕し、粉末にする粉末化工程と、粉末化された粉末体から水分を除去し、乾燥させる乾燥工程とを具備する製造方法によって製造される。 （もっと読む）

積層ガラス物品およびその作製方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなり、失透温度が１０^４ポイズに相当する粘度を持つ温度より低いガラスからなるガラス板を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。また、本発明の第二の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰＤＰ製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．０１〜５％を含有することを特徴とする。また、本発明のビスマス系封着材料は、上記ビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 ４０〜９５体積％と、耐火性フィラー粉末 ５〜６０体積％とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、高歪点ガラス基板と無アルカリガラス基板があるが、それぞれ問題点があり、広い分野に使用できるガラス基板がない。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５２〜５９、Ａｌ_２Ｏ_３が３〜１２、Ｎａ_２Ｏが２．０〜３．５、Ｋ_２Ｏが０．３〜１．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ）が２．５〜４、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５５〜０．８８、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが５〜１１、ＢａＯが９〜１７、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２５〜３２、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

記載されているのは、フラットパネルディスプレイデバイス、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）において基板として用いるのに所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないボロアルミノシリケートガラスである。その特定の態様によれば、このガラスは、温度に応じて良好な寸法安定性を有している。 （もっと読む）

【課題】４８０℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ １〜１５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％のガラス組成を含有し、且つモル分率でＢｉ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃ １．０〜１．７５（但し、１．７５は含まない）、ＺｎＯ／（ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ） １．０〜３．５の関係を満たすことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】 波長３１３ｎｍを含む有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ち、蛍光体の劣化や封入水銀量の消費が少ない蛍光ランプ用ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量%で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜７％、Ｂ_２Ｏ_３１０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ０．１〜３%、Ｋ_２Ｏ３〜９．５%, ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ０．１〜５％、Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＳｎＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＺｎＯ０．０１〜５％、ＣｅＯ_２＋ＷＯ_３＋Ｖ_２Ｏ_５０．１〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３０．００１〜０．０５％を含有し、ＪＩＳ‐Ｒ‐３１０２に定める０〜３００℃の範囲の平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃である硼珪酸系ガラスからなり、実質的にＮａ、 Ａｓ、 Ｓｂ、 Ｐｂを含有しないことを特徴とする。
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【課題】低融点ガラス組成物として、無鉛系であって、低い温度で封着や焼結造形等の加工を行え、鉛系ガラスに代替し得る充分な実用的性能を具備するものを提供する。
【解決手段】Ｌｉ₂ Ｂ₄ Ｏ₇ と、ＺｎＯ及びＢａＯの少なくとも一方とからなる酸化物を主成分とする低融性無鉛ガラス材。 （もっと読む）

【課題】ガラス板のトップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ_２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】コバールを導入金属とし、耐ソラリゼーション性に優れた細径蛍光ランプを作製することが可能な細径蛍光ランプ用外囲器と、これを用いて作製した細径蛍光ランプを提供する。
【解決手段】蛍光ランプの外囲器として、Ｓｂ₂ Ｏ₃ を重量百分率で０．１〜４％ガラス組成中に含有し、３０〜３８０℃における線膨張係数が４３〜５５×１０^-7／℃（４３×１０^-7／℃を除く）であるホウケイ酸ガラスで構成された外径５．２ｍｍ以下、肉厚０．６ｍｍ以下の管状ガラスからなるものを使用する。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、軽量で、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７３〜１．８０未満、アッベ数（ν_d）が４３〜５５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｎＯ及びＬｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分、弗素成分を含まず、質量％の比率でＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃が０．３０〜１．５５、かつＹ₂Ｏ₃／Ｌａ₂Ｏ₃が０．１５〜１．００、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。Ｌｉ_２Ｏを１％より多く含有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５７０℃以下であることを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性と耐熱衝撃性に優れ、しかも成形時に失透が発生しにくいＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の結晶化ガラスは、質量％で、ＳｉＯ₂ ５５〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ ２０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ ３．１〜７％、ＴｉＯ₂ １〜５％、ＺｒＯ₂ ０．５〜３％、Ｐ₂Ｏ₅ ０．５〜５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０．１〜２．４％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０．３〜５％、ＢａＯ ０．１〜３％、Ｐ₂Ｏ₅／Ｂ₂Ｏ₃が１．２超の組成を含有し、ガラス転移点が６２０℃以上であり、結晶化前の原ガラスの作業温度域（成形温度と液相温度との差）が８０℃以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラス成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】構成成分としてＢｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラス成形品を製造する方法であって、成形された光学ガラス及び／又は成形中の光学ガラスを、酸化性雰囲気又は非還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする方法。光学ガラスが、その構成成分として酸化物基準でＢ_２Ｏ_３成分を含有するため、透過率を改善させることができる。 （もっと読む）