ディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法
【課題】ガラス板のトップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイ基板に好適なディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ、特に薄型平板型ガス放電表示パネルの１種であるＰＤＰが注目を集め、精力的に開発されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板、背面ガラス基板及び隔壁によりセルが区画形成されており、セル中でプラズマ放電を発生させることによりセル内壁の蛍光体層が発光し画像を形成する。
【０００３】
ＰＤＰの前面ガラス基板及び背面ガラス基板には、ガラス基板の大型化が容易であり、かつ平坦性・均質性に優れるフロートガラス（溶融スズの上で溶融ガラスを浮上搬送させながら板状に成形した板状ガラス）が使用されている。前面ガラス基板のトップ面（溶融スズと接触していない側の表面）にはＩＴＯ（インジウムがドープされたスズ酸化物）からなる透明電極が形成され、その上にスクリーン印刷法により銀ペーストを塗布後５２０〜６００℃で焼成して銀電極が形成される。
【０００４】
しかし、前記銀電極を焼成し形成した際に前面ガラス基板が黄色発色し、ＰＤＰカラー表示の品位が低下する問題があった。すなわち、白色を表示させた画面が銀電極周辺に黄色味を帯びたり、また青色を表示させた画面の輝度が低下したりする問題があった。
【０００５】
この黄色発色は、前記銀電極形成時に前面ガラス基板表面から内部（表面層）に拡散したＡｇイオンが該表面層に存在するＦｅ２＋、Ｓｎ２＋、等によって還元されてＡｇ０となり、これが凝集して生成したコロイドの発色によるものと考えられる。なお、ガラス基板のボトム面（溶融スズと接触している側の表面）はスズ濃度が高く、そのために、通常はボトム面に銀電極を形成した場合の黄色発色はトップ面に銀電極を形成する場合に比べ顕著である。したがって通常はトップ面に銀電極が形成される。
【０００６】
黄色発色の対策として、金属電極が形成される面が研磨されることによってその表面に形成された還元性の異質層が除去されてなるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板（特許文献１）や、ガラス板表層から３μｍまでの平均のＮａ２Ｏ含有量とガラス本体中に存在するＮａ２Ｏ含有量との差が０．３％以下でのディスプレイ基板用フロートガラス板（特許文献２）が知られている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２５５６６９号公報
【特許文献２】特開２００５−５５６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特開平１０−２５５６６９号公報のガラス板はその効果は認められるが、生産したガラスを研磨等しなければならず、製造コストは膨大なものとなる。また、特開２００５−５５６６９号公報の方法では必ずしも黄色発色に対して効果があるとはいえない。本発明は、以上の問題を解決するディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１０】
請求項１に記載の発明によれば、フロート法によるガラス板の溶融スズと接触していない側（以下、トップ面という）のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるため、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であるディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１２】
請求項２に記載の発明によれば、ＰＤＰ用の基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有するディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１４】
請求項３に記載の発明によれば、ＰＤＰ用として好適な基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が安定して抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層を形成するガラス板製造方法であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように前記保護層を形成する条件をコントロールするディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００１６】
請求項５に記載の発明によれば、フロート法によるガラス板のトップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように保護層を形成するので、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であるディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、ＰＤＰ用の基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有するディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００２０】
請求項７に記載の発明によれば、ＰＤＰ用として好適な基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が安定して抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のガラス板は、トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるので、トップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板である。
【００２２】
また本発明のガラス板製造方法は、トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように保護層を形成するので、ガラス板表面を研磨等行わなくても、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明者らは鋭意研究の結果、フロート法により成形されたガラス板のトップ面に銀電極を焼成し形成する際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色には、以下のように、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＨが大きく関与していることを見出した。
【００２４】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形するフロート設備においては、溶融スズの酸化防止のためにフロート槽内は窒素ガス及び水素ガスの還元雰囲気となっており、溶融スズ及び溶融ガラスは該還元雰囲気にさらされている。そのため、ガラス板のトップ面のガラス内部（例えばガラス板表面から５〜１５μｍ）は還元層となっており、例えばガラス中に含まれるＦｅはＦｅ２＋として存在している。
【００２５】
フロート成形されたガラス板は、キズ防止のために、フロート成形後の徐冷炉において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーし、Ｎａ２ＳＯ３の保護層を形成することが知られている。即ち、雰囲気中の水蒸気とＳＯ２ガスとが反応し、Ｈ２ＳＯ３となり（Ｈ２Ｏ＋ＳＯ２→Ｈ２ＳＯ３）、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＮａ＋とＨ＋との置換反応（Ｎａ＋＋Ｈ２ＳＯ３→２Ｈ＋＋Ｎａ２ＳＯ３）により、ガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が侵入し、ガラス板表面にＮａ２ＳＯ３の保護層が形成される（特開平２−１２０２５６号公報）。
【００２６】
また、他に雰囲気中の水蒸気とＳＯ２ガス、酸素が反応し、Ｈ２ＳＯ４となり（Ｈ２Ｏ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２→Ｈ２ＳＯ４）、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＮａ＋とＨ＋との置換反応（Ｎａ＋＋Ｈ２ＳＯ４→２Ｈ＋＋Ｎａ２ＳＯ４）により、ガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が侵入し、ガラス板表面にＮａ２ＳＯ４の保護層が形成されるとする報告もある（特開平２−１４８４１号公報）。
【００２７】
その後、ガラス板のトップ面に銀電極を形成する際に、銀は焼成（例えば５２０〜６００℃で３０〜９０分焼成）され、Ａｇ０からＡｇ＋イオンに酸化されるが、Ａｇ＋イオンはガラス内部に存在するＦｅ２＋によりＡｇ＋イオンからＡｇ０に還元される（Ｆｅ２＋＋Ａｇ＋→Ｆｅ３＋＋Ａｇ０）。このＡｇ０は銀コロイドを形成し、黄色発色される（特開平１０−３３４８１３号公報）。
【００２８】
このとき、Ａｇ＋イオンが、ガラス板表面近傍のガラス内部（例えばガラス板表面から１０μｍ以内）に存在するＨ＋イオンとイオン交換されることを本発明者らは発見した。
【００２９】
したがって、ＳＯ２ガスによるガラス板表面への保護層形成条件により、Ｎａ＋とＨ＋との置換反応によってガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が多く存在することになると、その後の銀電極形成の際のＡｇ＋イオンとＨ＋イオンとの置換反応によりＡｇ＋イオンがガラス内部に多く侵入し、Ｆｅ２＋によりＡｇ０に還元されて銀コロイドが形成され、黄色が強く発色することになる。
【００３０】
本発明のガラス板は、ガラス板の溶融スズと接触していない側（トップ面）のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板である。該平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であれば、ガラス板がＰＤＰ用前面ガラス基板として用いられ、該ガラス板のトップ面に銀ペーストが焼成され銀電極が形成されても、銀電極下面及びその周辺の黄色着色は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊系色座標の色差ｂ＊値（ＪＩＳ−Ｚ８７２９）６以下に抑えられるため、ＰＤＰカラー表示品質を向上させることができる。好ましくは、該平均Ｈ原子濃度は２．０モル％以下である。
【００３１】
ここで、ガラス板の溶融スズと接触している側（以下、ボトム面という）に、ガラス板搬送ローラー疵等防止のための十分な保護層が設けられることを考慮すると、ガラス板トップ面の平均Ｈ原子濃度は０．８モル％以上、好ましくは１．３モル％以上となる。
【００３２】
本発明において、ガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度としたのは、０．１μｍよりも浅いと誤差が大きくなり、０．１μｍよりも深いと黄色発色との相関が悪くなるためである。Ｈ原子濃度の測定は、二次イオン分析装置により、Ｈイオンの注入試料を標準試料として検量線を作成し、Ｈ濃度を定量することにより、測定することができる。
【００３３】
本発明のガラス板は、ガラス板トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側においてＳＯ２ガスをスプレーすることによるガラス板表面への保護層形成条件をコントロールする。ここで、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側とは、フロートバスからガラス板が出たところの徐冷炉入口手前、徐冷炉入口部分、徐冷炉内上流側をいう。たとえば、スプレーの位置、スプレー量などを制御することにより、保護層形成条件をコントロールすることができる。特に、徐冷炉における、ガラス板単位面積当たりのスプレー量を０．０５〜０．５Ｌ／ｍ２とすることが好ましい。０．０５Ｌ／ｍ２未満では、上述したキズ防止が効果が得られ難い。一方、０．５Ｌ／ｍ２を越えると、黄色発色が増加する。好ましくは０．０５〜０．３Ｌ／ｍ２、より好ましくは０．０５〜０．２Ｌ／ｍ２である。
【００３４】
フロート設備においては、溶融スズの酸化防止のためにフロート槽内は窒素ガス及び水素ガスの還元雰囲気となっているが、その水素ガス濃度（水素ガス／（窒素ガス＋水素ガス））は９〜１２モル％であることが好ましい。
【００３５】
また、フロート槽内の雰囲気に不可避的に含まれる水蒸気は、露点温度−３７℃以下であることが好ましい。
【００３６】
製造されたガラス板をオフラインでアニールすることにより、ガラス板表面から０．１μｍまでの平均Ｈ原子濃度をさらに低減させることができる。これは、ガラス内にＳｉ−ＯＨとして存在するＨが、脱水縮合反応（Ｓｉ−ＯＨ＋Ｓｉ−ＯＨ→Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ＋Ｈ２Ｏ）により、ガラス表面からＨ２Ｏとして抜け出るためと考えられる。
【００３７】
また、本発明のガラス板は、銀電極が設けられるガラス板トップ面を研磨やエッチング等しなくても、黄色着色が抑えられるため、製造コストの大幅な低減を図ることができる。
【００３８】
なお、本発明のガラス板は、ＰＤＰ用背面ガラス基板として用いることもできる。
【００３９】
本発明のガラス板は、ＰＤＰ用の基板用ガラス板として、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であることが好ましい。
【００４０】
本発明のガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する。以下、質量百分率表示を単に％で表示する。
【００４１】
ＳｉＯ２は、ガラスの骨格を形成する成分で、５０％より少ないと、ガラスの歪点が低下し、化学的耐久性を悪化させる。好ましくは５２％以上、より好ましくは５３％以上、さらに好ましくは５４％以上である。一方、６５％より多いと、ガラスの熱膨張係数が低下する。好ましくは６３％以下、より好ましくは６２％以下、さらに好ましくは６１％以下である。
【００４２】
Ａｌ２Ｏ３は、１％より少ないとガラスの歪点が低下し、ガラスの耐薬品性も悪化する。好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上、さらに好ましくは４％以上である。一方、１５％より大きいと、ガラスの熱膨張係数が低くなりすぎ、フロート法成形が困難になる。好ましくは１４％以下、より好ましくは１３％以下、さらに好ましくは１２％以下である。
【００４３】
ＭｇＯは、含有することにより、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。しかし１５％より多いと、失透しやすくなる。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、さらに好ましくは５％以下である。
【００４４】
ＣａＯは、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。好ましくは１％以上、より好ましくは３％以上、さらに好ましくは５％以上である。一方、１５％より大きいと失透温度がフロート法の成形温度より高くなり、フロート法によるガラスの成形が困難になる。好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは８％以下である。
【００４５】
ＳｒＯは、ＣａＯと同様にガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上である。２０％より大きいと、失透温度がフロート法の成形温度より高くなり、フロート法によるガラスの成形が困難になる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下、さらに好ましくは９％以下である。
【００４６】
ＢａＯは、ＭｇＯと同様に、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。しかし、２０％より大きいと、失透しやすくなる。好ましくは１５％、より好ましくは１３％以下、さらに好ましくは９％以下である。
【００４７】
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯは、合量が５％より小さいとガラスの耐熱性が低下し、熱膨張係数が小さくなりすぎる。好ましくは９％以上である。一方、４０％より大きいと、失透温度が高くなりすぎる。好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２７％以下である。
【００４８】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは、ガラスの熱膨張係数を大きくするために一種以上含有する。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの合量が５％より小さいと、ガラスの熱膨張係数が小さすぎる。好ましくは６％以上、より好ましくは７％以上である。一方、合量が２５％より大きいと、ガラスの耐熱性が低下する。好ましくは２３％以下、より好ましくは２２％、さらに好ましくは２０％以下である。
【００４９】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは、過度に添加するとガラスの耐熱性が低下する。したがって、Ｎａ２Ｏ；０〜７％、Ｋ２Ｏ；１〜１５％、Ｌｉ２Ｏ；０〜２％であることが好ましい。また、Ｋ２Ｏはガラスの熱膨張係数大きくするために１％以上含まれることが好ましい。より好ましくは、Ｎａ２Ｏ；０〜６％、Ｋ２Ｏ；１〜１４％、Ｌｉ２Ｏ；０〜１％である。
【００５０】
さらに、熱膨張係数を所望の値とするために、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは５〜２４％であることが好ましい。より好ましくは６〜２３％である。さらに好ましくは６〜２２％、特に好ましくは６〜２０％である。
【００５１】
ＺｒＯ２は、ガラスの耐熱性及び化学的耐久性の向上のために含有される。好ましくは０．２％以上含有する。一方１０．５％超ではガラスの失透温度が高くなりすぎる。好ましくは６％以下である。
【００５２】
本発明では、その他の微量成分としてＦｅ２Ｏ３、ＳＯ３などを含有させることができる。
Ｆｅ２Ｏ３は着色剤として、好ましくは０〜０．５％含有させることができる。ＳＯ３は清澄剤として、好ましくは０〜０．５％含有させることができる。
【実施例】
【００５３】
酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２：５８．６、Ａｌ２Ｏ３：６．９、ＭｇＯ：１．９、ＣａＯ：４．８、ＳｒＯ：６．９、ＢａＯ：７．９、Ｎａ２Ｏ：４．０、Ｋ２Ｏ：６．１、ＺｒＯ２：２．８、Ｆｅ２Ｏ３：０．０９のガラス板について、フロート法で板厚２．８ｍｍに成形した結果を以下に示す。
【００５４】
フロート槽内の水素ガス濃度（水素ガス／（窒素ガス＋水素ガス））は、１１モル％である。
【００５５】
徐冷炉におけるガラス板へのＳＯ２ガスのスプレーは、徐冷炉の上流部において、ガラス板のトップ面及びボトム面に対して、各例において以下に示すガラス板単位面積当たりのＳＯ２ガス量（Ｌ／ｍ２）スプレーした。
【００５６】
ガラス板のトップ面の表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度については、アルバック・ファイ社製ＡＤＥＰＴ１０１０を用いて、ガラス板表面から０．１μｍの深さまでの間の５点について測定し、その平均値を求めた。なお、一次イオンはＣｓ＋、加速電圧は５ｋｅＶ、ビーム電流は４００ｎＡ、一次イオンの入射角度は試料面の法線に対して６０°、ビーム走査範囲２００×２００μｍ２で測定して求めた。
【００５７】
ｂ＊は、サンプル（トップ面にＡｇを厚さ２０μｍで塗布し、１１０℃で２０分間乾燥後、５６０℃で６０分間焼成し、冷却後Ａｇを硝酸で除去したもの）を日立製作所製自記分光光度計（Ｕ−３５００型）でＪＩＳ−Ｚ８７２９に従い測定した。
【００５８】
なお、５０〜３５０℃の熱膨張係数は８３×１０-７／℃、歪点は５７０℃である。
【００５９】
（例１）
例１において、ＳＯ２ガスのスプレー量を０．１Ｌ／ｍ２とした。平均Ｈ原子濃度は１．６モル％、ｂ＊は４．１であった。この結果から、黄色発色の値が低いことが分かる。
【００６０】
（例２）
例２において、ＳＯ２ガスのスプレー量を１．０Ｌ／ｍ２とした。平均Ｈ原子濃度は４．３モル％、ｂ＊は７．６であった。この結果から、黄色発色の値が高いことが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイの基板に好適なディスプレイ基板用ガラス板として用いられる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイ基板に好適なディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ、特に薄型平板型ガス放電表示パネルの１種であるＰＤＰが注目を集め、精力的に開発されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板、背面ガラス基板及び隔壁によりセルが区画形成されており、セル中でプラズマ放電を発生させることによりセル内壁の蛍光体層が発光し画像を形成する。
【０００３】
ＰＤＰの前面ガラス基板及び背面ガラス基板には、ガラス基板の大型化が容易であり、かつ平坦性・均質性に優れるフロートガラス（溶融スズの上で溶融ガラスを浮上搬送させながら板状に成形した板状ガラス）が使用されている。前面ガラス基板のトップ面（溶融スズと接触していない側の表面）にはＩＴＯ（インジウムがドープされたスズ酸化物）からなる透明電極が形成され、その上にスクリーン印刷法により銀ペーストを塗布後５２０〜６００℃で焼成して銀電極が形成される。
【０００４】
しかし、前記銀電極を焼成し形成した際に前面ガラス基板が黄色発色し、ＰＤＰカラー表示の品位が低下する問題があった。すなわち、白色を表示させた画面が銀電極周辺に黄色味を帯びたり、また青色を表示させた画面の輝度が低下したりする問題があった。
【０００５】
この黄色発色は、前記銀電極形成時に前面ガラス基板表面から内部（表面層）に拡散したＡｇイオンが該表面層に存在するＦｅ２＋、Ｓｎ２＋、等によって還元されてＡｇ０となり、これが凝集して生成したコロイドの発色によるものと考えられる。なお、ガラス基板のボトム面（溶融スズと接触している側の表面）はスズ濃度が高く、そのために、通常はボトム面に銀電極を形成した場合の黄色発色はトップ面に銀電極を形成する場合に比べ顕著である。したがって通常はトップ面に銀電極が形成される。
【０００６】
黄色発色の対策として、金属電極が形成される面が研磨されることによってその表面に形成された還元性の異質層が除去されてなるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板（特許文献１）や、ガラス板表層から３μｍまでの平均のＮａ２Ｏ含有量とガラス本体中に存在するＮａ２Ｏ含有量との差が０．３％以下でのディスプレイ基板用フロートガラス板（特許文献２）が知られている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２５５６６９号公報
【特許文献２】特開２００５−５５６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特開平１０−２５５６６９号公報のガラス板はその効果は認められるが、生産したガラスを研磨等しなければならず、製造コストは膨大なものとなる。また、特開２００５−５５６６９号公報の方法では必ずしも黄色発色に対して効果があるとはいえない。本発明は、以上の問題を解決するディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１０】
請求項１に記載の発明によれば、フロート法によるガラス板の溶融スズと接触していない側（以下、トップ面という）のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるため、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であるディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１２】
請求項２に記載の発明によれば、ＰＤＰ用の基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有するディスプレイ基板用ガラス板を提供する。
【００１４】
請求項３に記載の発明によれば、ＰＤＰ用として好適な基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が安定して抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層を形成するガラス板製造方法であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように前記保護層を形成する条件をコントロールするディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００１６】
請求項５に記載の発明によれば、フロート法によるガラス板のトップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように保護層を形成するので、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であるディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、ＰＤＰ用の基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有するディスプレイ基板用ガラス板の製造方法を提供する。
【００２０】
請求項７に記載の発明によれば、ＰＤＰ用として好適な基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が安定して抑えられるディスプレイ基板用ガラス板を得ることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のガラス板は、トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるので、トップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板である。
【００２２】
また本発明のガラス板製造方法は、トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように保護層を形成するので、ガラス板表面を研磨等行わなくても、基板用ガラス板のトップ面に銀電極を形成した際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色が抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明者らは鋭意研究の結果、フロート法により成形されたガラス板のトップ面に銀電極を焼成し形成する際に、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色には、以下のように、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＨが大きく関与していることを見出した。
【００２４】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形するフロート設備においては、溶融スズの酸化防止のためにフロート槽内は窒素ガス及び水素ガスの還元雰囲気となっており、溶融スズ及び溶融ガラスは該還元雰囲気にさらされている。そのため、ガラス板のトップ面のガラス内部（例えばガラス板表面から５〜１５μｍ）は還元層となっており、例えばガラス中に含まれるＦｅはＦｅ２＋として存在している。
【００２５】
フロート成形されたガラス板は、キズ防止のために、フロート成形後の徐冷炉において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーし、Ｎａ２ＳＯ３の保護層を形成することが知られている。即ち、雰囲気中の水蒸気とＳＯ２ガスとが反応し、Ｈ２ＳＯ３となり（Ｈ２Ｏ＋ＳＯ２→Ｈ２ＳＯ３）、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＮａ＋とＨ＋との置換反応（Ｎａ＋＋Ｈ２ＳＯ３→２Ｈ＋＋Ｎａ２ＳＯ３）により、ガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が侵入し、ガラス板表面にＮａ２ＳＯ３の保護層が形成される（特開平２−１２０２５６号公報）。
【００２６】
また、他に雰囲気中の水蒸気とＳＯ２ガス、酸素が反応し、Ｈ２ＳＯ４となり（Ｈ２Ｏ＋ＳＯ２＋１／２Ｏ２→Ｈ２ＳＯ４）、ガラス板表面近傍のガラス内部に存在するＮａ＋とＨ＋との置換反応（Ｎａ＋＋Ｈ２ＳＯ４→２Ｈ＋＋Ｎａ２ＳＯ４）により、ガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が侵入し、ガラス板表面にＮａ２ＳＯ４の保護層が形成されるとする報告もある（特開平２−１４８４１号公報）。
【００２７】
その後、ガラス板のトップ面に銀電極を形成する際に、銀は焼成（例えば５２０〜６００℃で３０〜９０分焼成）され、Ａｇ０からＡｇ＋イオンに酸化されるが、Ａｇ＋イオンはガラス内部に存在するＦｅ２＋によりＡｇ＋イオンからＡｇ０に還元される（Ｆｅ２＋＋Ａｇ＋→Ｆｅ３＋＋Ａｇ０）。このＡｇ０は銀コロイドを形成し、黄色発色される（特開平１０−３３４８１３号公報）。
【００２８】
このとき、Ａｇ＋イオンが、ガラス板表面近傍のガラス内部（例えばガラス板表面から１０μｍ以内）に存在するＨ＋イオンとイオン交換されることを本発明者らは発見した。
【００２９】
したがって、ＳＯ２ガスによるガラス板表面への保護層形成条件により、Ｎａ＋とＨ＋との置換反応によってガラス板表面近傍のガラス内部にＨ＋が多く存在することになると、その後の銀電極形成の際のＡｇ＋イオンとＨ＋イオンとの置換反応によりＡｇ＋イオンがガラス内部に多く侵入し、Ｆｅ２＋によりＡｇ０に還元されて銀コロイドが形成され、黄色が強く発色することになる。
【００３０】
本発明のガラス板は、ガラス板の溶融スズと接触していない側（トップ面）のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板である。該平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であれば、ガラス板がＰＤＰ用前面ガラス基板として用いられ、該ガラス板のトップ面に銀ペーストが焼成され銀電極が形成されても、銀電極下面及びその周辺の黄色着色は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊系色座標の色差ｂ＊値（ＪＩＳ−Ｚ８７２９）６以下に抑えられるため、ＰＤＰカラー表示品質を向上させることができる。好ましくは、該平均Ｈ原子濃度は２．０モル％以下である。
【００３１】
ここで、ガラス板の溶融スズと接触している側（以下、ボトム面という）に、ガラス板搬送ローラー疵等防止のための十分な保護層が設けられることを考慮すると、ガラス板トップ面の平均Ｈ原子濃度は０．８モル％以上、好ましくは１．３モル％以上となる。
【００３２】
本発明において、ガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度としたのは、０．１μｍよりも浅いと誤差が大きくなり、０．１μｍよりも深いと黄色発色との相関が悪くなるためである。Ｈ原子濃度の測定は、二次イオン分析装置により、Ｈイオンの注入試料を標準試料として検量線を作成し、Ｈ濃度を定量することにより、測定することができる。
【００３３】
本発明のガラス板は、ガラス板トップ面のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側においてＳＯ２ガスをスプレーすることによるガラス板表面への保護層形成条件をコントロールする。ここで、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側とは、フロートバスからガラス板が出たところの徐冷炉入口手前、徐冷炉入口部分、徐冷炉内上流側をいう。たとえば、スプレーの位置、スプレー量などを制御することにより、保護層形成条件をコントロールすることができる。特に、徐冷炉における、ガラス板単位面積当たりのスプレー量を０．０５〜０．５Ｌ／ｍ２とすることが好ましい。０．０５Ｌ／ｍ２未満では、上述したキズ防止が効果が得られ難い。一方、０．５Ｌ／ｍ２を越えると、黄色発色が増加する。好ましくは０．０５〜０．３Ｌ／ｍ２、より好ましくは０．０５〜０．２Ｌ／ｍ２である。
【００３４】
フロート設備においては、溶融スズの酸化防止のためにフロート槽内は窒素ガス及び水素ガスの還元雰囲気となっているが、その水素ガス濃度（水素ガス／（窒素ガス＋水素ガス））は９〜１２モル％であることが好ましい。
【００３５】
また、フロート槽内の雰囲気に不可避的に含まれる水蒸気は、露点温度−３７℃以下であることが好ましい。
【００３６】
製造されたガラス板をオフラインでアニールすることにより、ガラス板表面から０．１μｍまでの平均Ｈ原子濃度をさらに低減させることができる。これは、ガラス内にＳｉ−ＯＨとして存在するＨが、脱水縮合反応（Ｓｉ−ＯＨ＋Ｓｉ−ＯＨ→Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ＋Ｈ２Ｏ）により、ガラス表面からＨ２Ｏとして抜け出るためと考えられる。
【００３７】
また、本発明のガラス板は、銀電極が設けられるガラス板トップ面を研磨やエッチング等しなくても、黄色着色が抑えられるため、製造コストの大幅な低減を図ることができる。
【００３８】
なお、本発明のガラス板は、ＰＤＰ用背面ガラス基板として用いることもできる。
【００３９】
本発明のガラス板は、ＰＤＰ用の基板用ガラス板として、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上であることが好ましい。
【００４０】
本発明のガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する。以下、質量百分率表示を単に％で表示する。
【００４１】
ＳｉＯ２は、ガラスの骨格を形成する成分で、５０％より少ないと、ガラスの歪点が低下し、化学的耐久性を悪化させる。好ましくは５２％以上、より好ましくは５３％以上、さらに好ましくは５４％以上である。一方、６５％より多いと、ガラスの熱膨張係数が低下する。好ましくは６３％以下、より好ましくは６２％以下、さらに好ましくは６１％以下である。
【００４２】
Ａｌ２Ｏ３は、１％より少ないとガラスの歪点が低下し、ガラスの耐薬品性も悪化する。好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上、さらに好ましくは４％以上である。一方、１５％より大きいと、ガラスの熱膨張係数が低くなりすぎ、フロート法成形が困難になる。好ましくは１４％以下、より好ましくは１３％以下、さらに好ましくは１２％以下である。
【００４３】
ＭｇＯは、含有することにより、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。しかし１５％より多いと、失透しやすくなる。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、さらに好ましくは５％以下である。
【００４４】
ＣａＯは、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。好ましくは１％以上、より好ましくは３％以上、さらに好ましくは５％以上である。一方、１５％より大きいと失透温度がフロート法の成形温度より高くなり、フロート法によるガラスの成形が困難になる。好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは８％以下である。
【００４５】
ＳｒＯは、ＣａＯと同様にガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上である。２０％より大きいと、失透温度がフロート法の成形温度より高くなり、フロート法によるガラスの成形が困難になる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下、さらに好ましくは９％以下である。
【００４６】
ＢａＯは、ＭｇＯと同様に、ガラスの転移点を向上させ、熱膨張係数を増大させることができる。しかし、２０％より大きいと、失透しやすくなる。好ましくは１５％、より好ましくは１３％以下、さらに好ましくは９％以下である。
【００４７】
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯは、合量が５％より小さいとガラスの耐熱性が低下し、熱膨張係数が小さくなりすぎる。好ましくは９％以上である。一方、４０％より大きいと、失透温度が高くなりすぎる。好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２７％以下である。
【００４８】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは、ガラスの熱膨張係数を大きくするために一種以上含有する。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの合量が５％より小さいと、ガラスの熱膨張係数が小さすぎる。好ましくは６％以上、より好ましくは７％以上である。一方、合量が２５％より大きいと、ガラスの耐熱性が低下する。好ましくは２３％以下、より好ましくは２２％、さらに好ましくは２０％以下である。
【００４９】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは、過度に添加するとガラスの耐熱性が低下する。したがって、Ｎａ２Ｏ；０〜７％、Ｋ２Ｏ；１〜１５％、Ｌｉ２Ｏ；０〜２％であることが好ましい。また、Ｋ２Ｏはガラスの熱膨張係数大きくするために１％以上含まれることが好ましい。より好ましくは、Ｎａ２Ｏ；０〜６％、Ｋ２Ｏ；１〜１４％、Ｌｉ２Ｏ；０〜１％である。
【００５０】
さらに、熱膨張係数を所望の値とするために、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは５〜２４％であることが好ましい。より好ましくは６〜２３％である。さらに好ましくは６〜２２％、特に好ましくは６〜２０％である。
【００５１】
ＺｒＯ２は、ガラスの耐熱性及び化学的耐久性の向上のために含有される。好ましくは０．２％以上含有する。一方１０．５％超ではガラスの失透温度が高くなりすぎる。好ましくは６％以下である。
【００５２】
本発明では、その他の微量成分としてＦｅ２Ｏ３、ＳＯ３などを含有させることができる。
Ｆｅ２Ｏ３は着色剤として、好ましくは０〜０．５％含有させることができる。ＳＯ３は清澄剤として、好ましくは０〜０．５％含有させることができる。
【実施例】
【００５３】
酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２：５８．６、Ａｌ２Ｏ３：６．９、ＭｇＯ：１．９、ＣａＯ：４．８、ＳｒＯ：６．９、ＢａＯ：７．９、Ｎａ２Ｏ：４．０、Ｋ２Ｏ：６．１、ＺｒＯ２：２．８、Ｆｅ２Ｏ３：０．０９のガラス板について、フロート法で板厚２．８ｍｍに成形した結果を以下に示す。
【００５４】
フロート槽内の水素ガス濃度（水素ガス／（窒素ガス＋水素ガス））は、１１モル％である。
【００５５】
徐冷炉におけるガラス板へのＳＯ２ガスのスプレーは、徐冷炉の上流部において、ガラス板のトップ面及びボトム面に対して、各例において以下に示すガラス板単位面積当たりのＳＯ２ガス量（Ｌ／ｍ２）スプレーした。
【００５６】
ガラス板のトップ面の表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度については、アルバック・ファイ社製ＡＤＥＰＴ１０１０を用いて、ガラス板表面から０．１μｍの深さまでの間の５点について測定し、その平均値を求めた。なお、一次イオンはＣｓ＋、加速電圧は５ｋｅＶ、ビーム電流は４００ｎＡ、一次イオンの入射角度は試料面の法線に対して６０°、ビーム走査範囲２００×２００μｍ２で測定して求めた。
【００５７】
ｂ＊は、サンプル（トップ面にＡｇを厚さ２０μｍで塗布し、１１０℃で２０分間乾燥後、５６０℃で６０分間焼成し、冷却後Ａｇを硝酸で除去したもの）を日立製作所製自記分光光度計（Ｕ−３５００型）でＪＩＳ−Ｚ８７２９に従い測定した。
【００５８】
なお、５０〜３５０℃の熱膨張係数は８３×１０-７／℃、歪点は５７０℃である。
【００５９】
（例１）
例１において、ＳＯ２ガスのスプレー量を０．１Ｌ／ｍ２とした。平均Ｈ原子濃度は１．６モル％、ｂ＊は４．１であった。この結果から、黄色発色の値が低いことが分かる。
【００６０】
（例２）
例２において、ＳＯ２ガスのスプレー量を１．０Ｌ／ｍ２とした。平均Ｈ原子濃度は４．３モル％、ｂ＊は７．６であった。この結果から、黄色発色の値が高いことが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイの基板に好適なディスプレイ基板用ガラス板として用いられる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項２】
前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上である請求項１に記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項３】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する請求項１または２に記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項４】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５２〜６４％、
Ａｌ２Ｏ３：４〜１２％、
ＭｇＯ：０〜５％、
ＣａＯ：３〜８％、
ＳｒＯ：２〜９％、
ＢａＯ：０〜１３％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２７％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：７〜２０％、
ＺｒＯ２：０．２〜６％、
を含有する請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項５】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層を形成するガラス板製造方法であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように前記保護層を形成する条件をコントロールするディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項６】
前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上である請求項５に記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項７】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する請求項５または６に記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項８】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５２〜６４％、
Ａｌ２Ｏ３：４〜１２％、
ＭｇＯ：０〜５％、
ＣａＯ：３〜８％、
ＳｒＯ：２〜９％、
ＢａＯ：０〜１３％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２７％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：７〜２０％、
ＺｒＯ２：０．２〜６％、
を含有する請求項５〜７のいずれかに記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項１】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項２】
前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上である請求項１に記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項３】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する請求項１または２に記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項４】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５２〜６４％、
Ａｌ２Ｏ３：４〜１２％、
ＭｇＯ：０〜５％、
ＣａＯ：３〜８％、
ＳｒＯ：２〜９％、
ＢａＯ：０〜１３％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２７％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：７〜２０％、
ＺｒＯ２：０．２〜６％、
を含有する請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ基板用ガラス板。
【請求項５】
フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ２ガスをスプレーして保護層を形成するガラス板製造方法であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下となるように前記保護層を形成する条件をコントロールするディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項６】
前記ガラス板は、５０〜３５０℃の熱膨張係数が７５×１０-７／℃〜９０×１０-７／℃であり、歪点が５６０℃以上である請求項５に記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項７】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５０〜６５％、
Ａｌ２Ｏ３：１〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１５％、
ＣａＯ：０〜１５％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜２０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：５〜４０％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：５〜２５％、
ＺｒＯ２：０〜１０．５％
を含有する請求項５または６に記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【請求項８】
前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２：５２〜６４％、
Ａｌ２Ｏ３：４〜１２％、
ＭｇＯ：０〜５％、
ＣａＯ：３〜８％、
ＳｒＯ：２〜９％、
ＢａＯ：０〜１３％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２７％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：７〜２０％、
ＺｒＯ２：０．２〜６％、
を含有する請求項５〜７のいずれかに記載のディスプレイ基板用ガラス板の製造方法。
【公開番号】特開２００７−２０４２９５（Ｐ２００７−２０４２９５Ａ）
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２２５８６（Ｐ２００６−２２５８６）
【出願日】平成１８年１月３１日（２００６．１．３１）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１月３１日（２００６．１．３１）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]