【課題】耐熱性ガラスをカレット原料として用いた場合に安定な操業を可能とするガラス短繊維の製造方法の提供。
【解決手段】 軟化点が７５０℃以上であるガラスを原料として、そのガラスを粉砕して目開き３１．５ｍｍのふるいを通過したカレットを原料の１重量％以上使用するガラス短繊維の製造方法とする。カレット原料としては、重量％で、ＳｉＯ₂を５０％以上８５％以下、Ａｌ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｎａ₂Ｏを１０％以下、Ｋ₂Ｏを１５％以下、ＣａＯを１５％以下、ＭｇＯを１０％以下、ＳｒＯを１５％以下、ＢａＯを１５％以下及びＺｒＯ₂を１０％以下含むガラス組成物を用いればよい。 （もっと読む）

【課題】 ＮｉＯを含むガラス物品の製造方法で、ＮｉＳの生成を極力減少できるガラス物品の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 硫黄化合物を含むガラスバッチに、酸化ニッケル源として、珪ニッケル鉱を混合して、熔融することを特徴とするガラス物品の製造方法である。また、前記珪ニッケル鉱は粒子状に粉砕して用いることが好ましい。さらに、前記珪ニッケル鉱は、Ｃｒ成分やＦｅ成分を予め除去して用いることが好ましい。本発明は、ＮｉＯを含むソーダライムガラス組成であれば、適用可能なガラス物品の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとし、かつその透明性を高くし、銀発色を抑制する。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ １３〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜２０％、ＺｎＯ ０〜３０％、ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１２％、から本質的になり、ＰｂＯおよびＡｌ_２Ｏ_３のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】 清澄剤として、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を使用しないガラス物品の製造方法を提供する。さらに、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラスを提供する。
【解決手段】 溶融法によるガラス物品の製造方法であって、清澄剤として、実質的に酸化セリウムのみを用いることを特徴とするガラス物品の製造方法である。さらに、前記ガラスが、実質的にヒ素酸化物、アンチモン酸化物、フッ化物、スズ酸化物を含有しないガラス組成である。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、高歪点ガラス基板と無アルカリガラス基板があるが、それぞれ問題点があり、広い分野に使用できるガラス基板がない。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５２〜５９、Ａｌ_２Ｏ_３が３〜１２、Ｎａ_２Ｏが２．０〜３．５、Ｋ_２Ｏが０．３〜１．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ）が２．５〜４、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５５〜０．８８、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが５〜１１、ＢａＯが９〜１７、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２５〜３２、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
（もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなり、失透温度が１０^４ポイズに相当する粘度を持つ温度より低いガラスからなるガラス板を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

積層ガラス物品およびその作製方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。また、本発明の第二の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰＤＰ製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．０１〜５％を含有することを特徴とする。また、本発明のビスマス系封着材料は、上記ビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 ４０〜９５体積％と、耐火性フィラー粉末 ５〜６０体積％とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛成分を含有することなく、各種の法規制に対応することが可能であり、さらに厚盛した際に剥離などの不具合が発生することのない耐久性に優れた陶磁器用絵具を提供することを課題とする。
【解決手段】陶磁器用絵具は、各酸化物成分を計量し、混合する計量混合工程と、混合された原料混合物を１３００℃の溶融温度で溶融させる溶融工程と、炉内で溶融された溶融ガラスを急冷する急冷工程と、冷却されたガラスフリットを粉砕し、粉末にする粉末化工程と、粉末化された粉末体から水分を除去し、乾燥させる乾燥工程とを具備する製造方法によって製造される。 （もっと読む）

記載されているのは、フラットパネルディスプレイデバイス、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）において基板として用いるのに所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないボロアルミノシリケートガラスである。その特定の態様によれば、このガラスは、温度に応じて良好な寸法安定性を有している。 （もっと読む）

【課題】４８０℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ １〜１５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％のガラス組成を含有し、且つモル分率でＢｉ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃ １．０〜１．７５（但し、１．７５は含まない）、ＺｎＯ／（ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ） １．０〜３．５の関係を満たすことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】コバールを導入金属とし、耐ソラリゼーション性に優れた細径蛍光ランプを作製することが可能な細径蛍光ランプ用外囲器と、これを用いて作製した細径蛍光ランプを提供する。
【解決手段】蛍光ランプの外囲器として、Ｓｂ₂ Ｏ₃ を重量百分率で０．１〜４％ガラス組成中に含有し、３０〜３８０℃における線膨張係数が４３〜５５×１０^-7／℃（４３×１０^-7／℃を除く）であるホウケイ酸ガラスで構成された外径５．２ｍｍ以下、肉厚０．６ｍｍ以下の管状ガラスからなるものを使用する。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、軽量で、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７３〜１．８０未満、アッベ数（ν_d）が４３〜５５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｎＯ及びＬｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分、弗素成分を含まず、質量％の比率でＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃が０．３０〜１．５５、かつＹ₂Ｏ₃／Ｌａ₂Ｏ₃が０．１５〜１．００、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。Ｌｉ_２Ｏを１％より多く含有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５７０℃以下であることを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】低融点ガラス組成物として、無鉛系であって、低い温度で封着や焼結造形等の加工を行え、鉛系ガラスに代替し得る充分な実用的性能を具備するものを提供する。
【解決手段】Ｌｉ₂ Ｂ₄ Ｏ₇ と、ＺｎＯ及びＢａＯの少なくとも一方とからなる酸化物を主成分とする低融性無鉛ガラス材。 （もっと読む）

【課題】ガラス板のトップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ_２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が高いガラス素材であっても、容量が小さい場合であっても、形状が一定で、ガラス容量も一定である複数のガラス素材またはガラス素材群を、高い生産効率で歩留よく製造する方法、このガラス素材または上記ガラス素材群を構成するガラス素材を用いて、ガラス光学素子を高い生産効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】100〜300℃の平均線膨張係数αhが120×10^-7/℃ 以上である光学ガラスからなる溶融ガラスを流出パイプから順次受け型に滴下し、又は流下しつつ分離し、冷却して、複数の予備成形したガラス素球を調製し、このガラス素球を、（転移温度−80℃）〜（転移温度＋50℃）の範囲に加熱し、冷却する加熱処理を行い、加熱処理後の複数のガラス素球の表面の少なくとも一部または全部を、機械的加工により除去して精密ガラス球とする成形用ガラス素材の製造方法。上記方法により製造したガラス素材を、加熱により軟化した状態で成形型によってプレス成形する、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】フッ化物結晶を含有し、Ｅｕ^２＋を含有することを特徴とするガラスセラミックス。 該ガラスセラミックスは原ガラスの原料として少なくともＡｌＦ_３を用い、該原料を還元剤を添加しておよび／または還元雰囲気で溶融した後、原ガラスを成形し、該原ガラスを熱処理することにより結晶を析出させることによって作製される。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）