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Fターム[4G062MM07]に分類される特許
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銀被覆用ガラス粉末、銀被覆用ガラス・ペースト、およびグリーンシート
【課題】 黄変を一層抑制できる銀被覆用ガラス粉末、銀被覆用ガラス・ペースト、およびグリーンシートを提供する。
【解決手段】 ガラス・ペースト中に2価のCuおよび4価のCeがイオンまたは酸化物の形態で含まれることから、このガラス・ペーストを銀導体膜である金属電極を覆って塗布し、焼成処理を施して誘電体層を形成すると、ペースト中に含まれるCuOおよびCeO2が銀の還元を抑制することから、その生成過程における黄変が好適に抑制される。
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厚膜導体形成用組成物
【課題】 半田食われが少なく、かつ、鉛を含有しない厚膜導体形成用組成物を提供する。
【解決手段】 導電粉末と、酸化物粉末と、有機ビヒクルとからなり、該酸化物粉末が、SiO2−B2O3−Al2O3−CaO−Li2O系ガラス粉末と、Al2O3粉末とを含む厚膜導体形成用組成物を用いる。SiO2−B2O3−Al2O3−CaO−Li2O系ガラス粉末の組成比は、SiO2:20〜60質量%、B2O3:2〜25質量%、Al2O3:2〜25質量%、CaO:20〜50質量%、およびLi2O:0.1〜10質量%であり、導電粉末100質量部に対し、SiO2−B2O3−Al2O3−CaO−Li2O系ガラス粉末が0.1〜15質量部、Al2O3粉末が0.1〜8質量部である。
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プラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセット
【課題】 非鉛系誘電体ガラス粉末をガラス板上に塗布し焼成しても、基板に反りや割れが生じにくいプラズマディスプレイパネル用基板を得ることが可能となるように、ガラス板と誘電体ガラス粉末を適切に組み合せたプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットを提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットは、ガラス板と非鉛系誘電体ガラス粉末とを含むプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットであって、ガラス板上に非鉛系誘電体ガラスを塗布し焼成した際、ガラス板に残る残留ストレスが−800〜1500(psi)になることを特徴とする。
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感光性誘電体ペーストおよびそれを用いた電子回路部品の製造方法
【課題】
高誘電率と微細なスルホールを有する誘電体層を低温で形成可能にする感光性誘電体ペーストを提供する。
【解決手段】
無機粉末と感光性有機成分からなる感光性ペーストであって、無機粉末が、少なくとも比誘電率が100以上の誘電体粉末(A)および比誘電率が50以下で、軟化点が500〜900℃の範囲内であるガラス粉末(B)を含み、該誘電体粉末(A)と該ガラス粉末(B)との質量比が55:45〜85:15の範囲内であることを特徴とする感光性誘電体ペースト。
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ビスマス系無鉛ガラス組成物
【課題】 600℃以下の軟化点を有し、優れた光透過性を有する無鉛ガラス組成物を提供することにある。
【解決手段】 酸化物換算の質量%でBi2O3:26〜60%、B2O3:10〜25%、ZnO:25〜35%を含んでなることを特徴とするビスマス系無鉛ガラス組成物を提供する。
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無鉛低融点ガラス
【課題】電子材料基板を被服、封着するための低融点ガラスであって、実質的にPbOを含まない無鉛低融点ガラス。
【解決手段】重量%でB2O3を2〜10、ZnOを3〜11、Bi2O3を79〜87、Al2O3を0.1〜5含むことを特徴とするB2O3−ZnO−Bi2O3−Al2O3系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(85〜110)×10−7/℃、軟化点が380℃以上500℃以下である特徴を有す。
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感光性ペースト、それを用いたプラズマディスプレイ用パネルの製造方法およびプラズマディスプレイ用パネル
【課題】水による現像が可能で、焼成後に緻密な透明誘電体パターンが形成できる感光性ガラスペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイ部材を提供する。
【解決手段】少なくとも無機微粒子と感光性有機成分を含むペーストであって、感光性有機成分として側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する感光性アクリル系共重合体を含み、該アクリル系共重合体の共重合成分として、下記一般式(1)で表される多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのモノエステルを含有することを特徴とする感光性ペーストとする。
【化1】
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被覆用組成物、混合体、ペースト、及び電子部品
【課題】 PbO及びBi2O3を原料として配合せず、安価で環境負荷が低減し、耐酸性及び耐アルカリ性に優れ、脱離ガス量の低減した被覆用組成物、混合体、ペースト、及び該ペーストからなる被覆層を有する電子部品を提供する。
【解決手段】 酸化リンの配合量が30〜45モル%、酸化亜鉛の配合量が45〜60モル%、及び酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、並びに酸化バリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種以上のアルカリ土類金属酸化物の配合量が5〜15モル%であるガラス組成物に、セラミックが添加されてなることを特徴とする被覆用組成物を用いる。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を20〜38、B2O3を45〜65、ZnOを0〜5、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を8〜20、CuOを0.1〜2含み、MnO2を0〜2、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0〜20含むことを特徴とするSiO2−B2O3−R2O−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
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多層基板及びその製造方法
【課題】基板強度を改善した寸法精度の高い積層成形体、多層基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第1の結晶化ガラスを含む第1の絶縁層1b〜1fと、前記第1の結晶化ガラスとは結晶化温度が異なる第2の結晶化ガラスを含む第2の絶縁層1a、1gと、を積層してなるセラミック積層基板の表面及び内部に電極2〜4を配設してなり、前記結晶化ガラスの結晶化度がそれぞれ80%以上であることを特徴とし、前記第1及び第2の結晶化ガラスのうち、一方の結晶化ガラスの結晶化温度が、他方の結晶化ガラスの軟化点よりも低いこと、前記第1の熱膨張係数と、第2の結晶化ガラスの熱膨張係数との差が2×10−6/℃以下であること、さらに前記第1及び第2とは異なる結晶化ガラスを含む第3の絶縁層を含むことが好ましい。
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ガラスセラミック並びにその製造及び使用
本発明は、連続したガラス相及び正方晶系の白榴石を含む結晶相を含み、ガラスセラミックが割れのないガラス相及びガラス相に本質的に均質に分布する白榴石結晶を含む結晶相を有するガラスセラミックを包含する。結晶相は、約5%〜約70%の、1μm未満の粒度を有する第1群の白榴石結晶及び約30%〜約95%の、1μm以上の粒度を有する第2群の白榴石結晶から成る粒度分布を有する。ガラスセラミックにおけるLi2Oの比率は好ましくは0.5重量%未満である。ガラス相だけでなく結晶相も本質的に割れを含まないことが好ましい。相当するガラスセラミックは、歯科領域において、特に上塗りセラミックとしての使用に特に好適である。 (もっと読む)
無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を7〜20、B2O3を32〜50、ZnOを25〜42、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を7〜20、CuOを0.1〜2含み、MnO2を0〜2、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0〜10含み、更にB2O3/ZnOの重量比が0.85以上2以下、(B2O3+R2O)/SiO2の重量比が2以上、7以下、Co又はMnを酸化物として0〜2含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
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ガラス粉末及びこれを含む導体ペースト
【課題】緻密で、素体との接着強度が高く、且つ、耐めっき液性が極めて優れ、薄膜化にも対応可能な端子電極を形成することのできる導体ペースト、並びに、この導体ペーストに好適に用いられるガラス粉末を提供することにある。
【解決手段】SiO2、Al2O3、R2O(Rはアルカリ金属)及びR’O(R’はアルカリ土類金属)、又はこれらの成分に更にB2O3を含有するガラス粉末であって、該ガラス粉末中における前記各成分の重量%による含有率が下記式(1)を満たすと共に、該ガラス粉末の軟化点Ts〔℃〕及びガラス転移点Tg〔℃〕が、130≦(Ts−Tg)≦280を満たすことを特徴とするガラス粉末、酸化物換算で下記の組成からなる成分を含有し、下記式(1)を満たすことを特徴とするガラス粉末、及び該ガラス粉末用いた導体ペースト。
(R2O+R’O+B2O3)/SiO2≦0.95 ・・・・・ (1)
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プラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法および被覆用ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネル(PDP)のコントラストの向上が可能となり得るプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法であって、ガラス層とガラス基板が接している部分の色がL*a*b*表色系で表して−5<a*<−1.2かつ−6<b*<0となるようなガラス層によって前記ガラス基板を被覆するPDP前面基板の製造方法。ガラス層が質量百分率表示で、PbO 35〜55%、B2O3 15〜30%、SiO2 2〜15%、Al2O3 0〜15%、BaO 0〜25%、CuO 0.2〜1%、CoO 0.3〜0.9%、CeO2 0〜2%、から本質的になり(B2O3+SiO2)が17〜44%であるガラスからなる前記PDP前面基板の製造方法。
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抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法、抵抗体ペーストの製造方法、抵抗体の製造方法及び電子部品の製造方法
【課題】 信頼性の高い抵抗体を実現する。
【解決手段】 原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、AO(Aはアルカリ土類金属元素を表す。)、B2O3及びSiO2を含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がASiO3又はAB2O4の少なくとも一方を含有する。または、原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、AO(Aはアルカリ土類金属元素を表す。)、B2O3、SiO2及び第4の酸化物成分を含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がASiO3、AB2O4、第4の酸化物成分を構成する酸素以外の元素とAとの複合酸化物から選ばれる少なくとも1種を含有する。AはCa、Sr、Baから選ばれる少なくとも1種である。
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厚膜抵抗体ペースト及び厚膜抵抗体、電子部品
【課題】 Pbフリーで、温度特性(TCR)に優れ、ノイズの少ない低抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】 ガラス組成物及び導電性材料を含み、これらが有機ビヒクルと混合されてなる厚膜抵抗体ペーストである。この厚膜抵抗体ペーストは、アルカリ土類金属の珪酸化合物を添加物として含有する。アルカリ土類金属の珪酸化合物としては、例えばCaSiO3である。導電性材料は、例えばRuO2、Bi2Ru2O7、CaRuO3、SrRuO3、BaRuO3、Ag、Pd、Ag−Pdであり、ガラス組成物は、例えばCaO、B2O3、SiO2、及びMnOを含むCa−B−Si−Mn−O系のガラス組成物である。形成される厚膜抵抗体の抵抗値は、10kΩ/□以下である。
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光触媒機能を有する物質を含有した釉薬およびそれを用いて形成した光触媒機能を有する製品
【課題】基材に塗布して焼成するのみで光触媒機能を有する物質を基材に多量に焼結でき極めて高い光触媒機能を発揮させることができると共に、耐水性または耐候性に優れ、吸着性に優れた物質を別段添加しなくても釉薬層が吸着性に優れたものとなる光触媒機能を有する物質を含有した釉薬、およびそれを用いて形成した光触媒機能を有する製品を提供する。
【解決手段】光触媒機能を有する物質を含有し、マット釉に形成されていることを特徴とする光触媒機能を有する物質を含有した釉薬である。
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ガラス組成物
【課題】
本発明は、電子材料の素材に用いられるガラス組成物に関し、その電子材料の信頼性を向上させることに関するものである。
【解決手段】
電子材料の素材用ガラス組成物に無機陽イオン交換体を含有させること、またはこのガラス組成物に無機陰イオン交換体と無機陽イオン交換体とを含有させることにより上記問題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。特に当該ガラス組成物はPDPの隔壁材料用またはPDP電極の誘電体用のものとして使用することができる。
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無鉛発熱膜転写シート及び電磁調理用ガラス容器
【課題】低膨張ガラスからなる調理容器にも剥離等を発生することなく、優れた密着性で発熱膜を形成することができ、高出力の電磁調理容器にも対応できる無鉛発熱膜転写シート、及び電磁調理用ガラス容器を提供すること。
【解決手段】ガラス容器に貼着し焼成することによりガラス容器に無鉛発熱膜を形成して電磁調理可能な電磁調理用ガラス容器とするための無鉛発熱膜転写シート1、及び電磁調理用ガラス容器である。無鉛発熱膜転写シート1は、発熱被覆層11と無鉛ガラス被覆層12とを積層してなる。発熱被覆層11は、貴金属粒子、無鉛ガラスフラックス、及び有機バインダーを特定量含有する。無鉛ガラス被覆層12は、無鉛ガラスフラックスと、有機バインダーとを特定量含有する。無鉛ガラスフラックスは、熱膨張係数が30×10-7/K〜50×10-7/Kの範囲であり、かつ屈伏点が500〜650℃である。
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電極被覆用低融点ガラス
【課題】600℃以下の温度で使用できるプラズマディスプレイパネル電極被覆に好適な無鉛無ビスマス低融点ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 0〜40%、ZnO 0〜40%、Al2O3 0〜10%、MgO 0〜40%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜6%、K2O 0〜10%、P2O5 10〜60%、から本質的になり、Li2O+Na2O+K2Oが4〜12%であって、実質的にPbOおよびBi2O3のいずれも含有しない電極被覆用低融点ガラス。ガラス軟化点が580〜650℃、結晶化開始温度が680℃以上である前記電極被覆用低融点ガラス。
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